有机合成中的常用保护基

1、电生羟基自由基在有机废水处理中的应用环境保护论文摘要：羟基自由基（OH）在废水处理中的应用近年来引起了越来越多研究者的浓厚兴趣。本文主要综述了羟基自由基在有机废水处理中的研究现状，介绍和评价了电 Fenton 法、电催化氧化法、半导体光电催化法产生OH 处理有机废水的原理及其应用，展望了今后其发展动向和前景。 关键词：有机废水处理 电化学 羟基自由基 电 Fenton 试剂 电解氧化 半导体光电催化 近年来，浓度高且结构稳定的有机废水不断出现，如何有效地去除这些难降解的有机废水已经成为水处理的热点问题。羟基自由基（OH）因其。

2、新型碳基固体磺酸的合成及其在有机反应中的应用【摘要】：在能源和环境问题不断突出的现今，以少量能专一性地生成目的产物的化工过程成为当今绿色化工追求的目标。为了达到上述目标，需要提供一种具有广泛工业应用前景的固体酸催化剂。传统使用的液体酸，如硫酸、盐酸、对甲苯磺酸等，存在腐蚀设备严重、催化剂分离困难、无法重复使用等缺点。而目前文献报道的一些固体酸催化剂，如苯乙烯磺酸树脂，则存在耐热性差的缺点，这大大限制了其应用范围。相比之下，后来发展的聚四氟乙烯磺酸树脂(商品名：Nafion)虽然具有较高的热稳定性，但是其。

3、第十章,官能团保护,在有机合成中，许多反应物分子内同时存在着几个可以发生反应的部位，而最理想的合成路线是希望只在所需要的部位上发生反应，而其它部位不受任何干扰，为了解决这一问题，常常采取保护基团的策略，将作用物分子中不希望反应的敏感部位用合适的保护基团掩蔽起来，待反应完成后再恢复原来的基团。,意 义,提高有机合成反应的选择性： 一是发现新的高选择性的有机化学反应 二是利用官能团保护的方法保护基应满足以下条件： 1.容易引入 2.保护基形成的结构在后续反应中能稳定存在 3.容易除去,官 能 团 保 护,讨论几种主要官能。

4、第二章 保护基团,复杂的有机化合物可能含有多种官能团，在合成的过程中，若能够利用高选择性的试剂，只对某个特定的部位或官能团进行反应，当然是最佳的策略。 但是在实际的过程中往往是无法找到适当的试剂，能够满足选择性的要求。这个时候，可先将某些基团保护起来，不使其作用，而只留特定要作用的官能团进行反应；然后再将保护基团除去，以便进行下一个步骤，这种保护除保护 (protection-deprotection）的方法在有机合成上应用极广，其缺点是增加额外的步骤，会使产率降低。为了弥补这种缺点，在引入或除去保护基团时，应以高选择性及。

5、第十一章,保护基团在有机合成中的应用,在有机合成中，许多反应物分子内同时存在着几个可以发生反应的部位，而最理想的合成路线是希望只在所需要的部位上发生反应，而其它部位不受任何干扰，为了解决这一问题，常常采取保护基团的策略，将作用物分子中不希望反应的敏感部位用合适的保护基团掩蔽起来，待反应完成后再恢复原来的基团。,意 义,选择保护基团三原则,1.能与被保护基团发生有效的反应。 2.当被保护的分子进行反应时应有一定的稳定性，在分子发生反应的条件下使被保护的基团能较好的掩蔽起来。 3.当反应完成后，除去保护基团的条件。

6、21 null5 2005 M10null null null null null null null =SJOURNAL OF XINZHOU TEACHERS UNIVERSITY null null null null null nullVol. 21null No. 5null Oct . 2005 null羰基保护及其在有机合成中的应用赵少琼(v,100083)Knull1:论述了保护羰基的意义a保护方法和保护基种类以及在有机合成中的应用, 给出了较多的应用实例,阐明保护羰基在有机合成中的重要性和必要性b1oM:羰基; 保护;有机合成ms |: O621. 3 nullDS M : A nullcI|: 1671- 1491( 2005) 05- 0058- 04null null。

7、芳 基 硼 酸 在 有 机 合 成 中 的 应 用李 英 奇*, 伍 佑 华 , 彭 雨 春( 湘 潭 大 学 , 湖 南 湘 潭 4 1 1 1 0 0 )摘 要 : 芳 基 硼 酸 作 为 一 种 重 要 的 中 间 体 , 在 有 机 合 成 中 的 应 用 相 当 广 泛 。 S u z u k i 偶 联 反 应 是 合 成 联 芳 基 结 构最 有 效 的 方 法 之 一 , 近 年 许 多 用 于 芳 基 硼 酸 与 各 种 卤 代 芳 烃 偶 合 的 催 化 剂 相 继 被 开 发 。 芳 基 硼 酸 与 苯 酚 在 C u( O A c )2和 N E t3存 在 时 用 于 合 成 二 芳 基 醚 , 与 胺 的 偶 联 是 合 成 C - N 键 的 有 效 方 法 , 与 , -。

8、有机合成工艺中 Boc的保护和脱保护,主要内容,3,2,4,1,前 言,Boc的引入方法及示例,Boc的脱去方法及示例,Boc的保护与脱保护概述,www.themegallery.com,一、前 言,氨基是有机化学中的基本碱基，所有含有氨基的有机物都有一定碱的特性 。氨基是一个活性大、易被氧化的基团。在有机合成中需要用易于脱去的基团进行保护。,酰化保护，即用酸酐保护 用苄基保护 手性化合物常用苄氧羰基(Cbz ) 、叔丁氧羰基 (Boc)、芴甲氧羰基 ( Fmoc)等保护氨基酸,www.themegallery.com,二、Boc的保护与脱保护概述,Boc,www.themegallery.com,Boc保护的发展,起初，B。

9、第七章 保护基团,复杂的有机化合物可能含有多种官能团，在合成的过程中，若能够利用高选择性的试剂，只对某个特定的部位或官能团进行反应，当然是最佳的策略。 但是在实际的过程中往往是无法找到适当的试剂，能够满足选择性的要求。这个时候，可先将某些基团保护起来，不使其作用，而只留特定要作用的官能团进行反应；然后再将保护基团除去，以便进行下一个步骤，这种保护除保护 (protection-deprotection）的方法在有机合成上应用极广，其缺点是增加额外的步骤，会使产率降低。为了弥补这种缺点，在引入或除去保护基团时，应以高选择性及。

10、基团的保护方式一：使基团先参与反应又释放出方式二：反应的先后顺序问题(1)基团保护醛基的保护 如：双键的保护 如：羟基的保护 如：R- -OH R- -OCH3R- -OCH3 R- -OH羧基的保护 如：氨基的保护如：练习1、 （氨基的保护）苄佐卡因是一种医用麻醉药品，学名对氨基苯甲酸乙酯，它以对硝基甲苯为主要起始原料经下列反应制得：请回答下列问题：（1）写出 A、B、C 的结构简式：A_，B_，C_。（2）用 1H 核磁共振谱可以证明化合物 C 中有_种氢处于不同的化学环境。（3） 与能否颠倒位置，为什么？ 2、 （酚羟基的保护）工业上用甲苯生产对- 羟基。

11、Protecting Groups in Organic Synthesis,Nomenclature of Organic Compound-1,Nomenclature of Organic Compound-2,Nomenclature of Organic Compound-3,Abbreviation 1,Abbreviation 2,Abbreviation 3,Abbreviation 4,Abbreviation 5,Abbreviation 6,Abbreviation 7,Abbreviation 8,选择保护基的原则：,(1) 保护基的供应来源，包括经济程度。 (2) 保护基团必须能容易进行保护，且保护效率高。 (3) 保护基的引入对化合物的结构论证不致增加过量的复杂性，如保护中忌讳产生新的手性中心。 (4) 保护以后的化合物必须承受的起以后进行的反应。

12、1,有机合成中的常用保护基,2,参考书目,保护基化学，武钦佩、李善茂编著，化学工业出版社，2007 有机合成中的保护基，原著Greene T. W., Wuts P. G. M.;华东理工出版社，2004 有机合成中的保护基，格林著;范如霖译， 上海科学技术文献出版社，1985,3,复杂分子的合成策略,把目标分子切割为若干合成片断及其连接策略 手性中心的选择合成策略 官能团保护策略,4,选择保护基的基本原则,保护基容易得到、价格便宜 保护和脱保护的反应条件温和，操作方便，不会引起其他反应，且产物易于分离纯化 官能团被保护后具有一定的稳定性，在脱除保护之前的。