光学薄膜检测技术

2007 中国光学薄膜技术学术交流大会最后会议通知中国光学学会光学薄膜专业委员会研究决定,2007 年 10 月 19-21 日在上海举行2007 中国光学薄膜与技术学术交流大会 。本次大会将对近年来国内及周边国家与地区的光学薄膜研究的最新进展,特别是光学薄膜产业的发展进行学术交流与研讨。同时作为全

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1、2007 中国光学薄膜技术学术交流大会最后会议通知中国光学学会光学薄膜专业委员会研究决定,2007 年 10 月 19-21 日在上海举行2007 中国光学薄膜与技术学术交流大会 。本次大会将对近年来国内及周边国家与地区的光学薄膜研究的最新进展,特别是光学薄膜产业的发展进行学术交流与研讨。同时作为全国光学薄膜界的盛会,本次会议期间将举行会员代表大会,选举产生新一届的专业委员会。本次大会的学术交流与产业研讨将集中在光学薄膜的新技术新应用与新发展方面,注意突出光学薄膜产业近年来在国内的发展对中国光学薄膜技术的推进作用,以及研。

2、第三章 薄膜制造技术 光学薄膜可以采用物理汽相沉积(PVD)和化学液相沉积(CLD)两种工艺来获得。CLD 工艺简单,制造成本低,但膜层厚度不能精确控制,膜层强度差,较难获得多层膜,废水废气对环境造成污染,已很少使用。PVD 需要使用真空镀膜机,制造成本高,但膜层厚度能够精确控制,膜层强度好,目前已广泛使用。PVD 分为热蒸发、溅射、离子镀、及离子辅助镀等。制作薄膜所必需的有关真空设备的基础知识用物理方法制作薄膜,概括起来就是给制作薄膜的物质加上热能或动量,使它分解为原子、分子或少数几个原子、分子的集合体(从广义来说。

3、精品文档 第三章薄膜制造技术 光学薄膜可以采用物理汽相沉积( PVD)和化学液相沉积( CLD)两种工艺来获得。 CLD工艺简单,制造成本低,但膜层厚度不能精确控制,膜层强度差,较难获得多层膜,废水废气对环境造成污染,已很少使用。 PVD需要使用真空镀膜机,制造成本高,但膜层厚度能够精确控制,膜层强度好,目前已广泛使用。 PVD分为热蒸发、溅射、离子镀、及离子辅助镀等。 制作薄膜所必需的有关真。

4、光学薄膜技术复习提纲一、典型膜系 减反射膜(增透膜)2、单层减反射膜的最低反射率公式3、掌握常见的多层膜系表达,例如 GH LA 代表什么?G2 H LA?4、什么是规整膜系?非规整膜系?5、单层减反射膜只能对 波段内的光波起增透作用。为了在较宽的光谱范围达到更有效的增透效果,常采用 的减反射膜。6、V 形膜、W 形膜的膜系结构以及它们的特征曲线? 高反射膜 1、镀制金属反射膜常用的材料有铝(Al) 、银(Ag) 、金(Au)等。2、金属反射膜四点特性。P29分光膜1、什么是分光膜?2、分光膜主要有二种类型:一是金属分光膜;二是介质分光膜。

5、单一界面的反射率和透射率,光 学 薄 膜 技 术,相关知识,电磁波谱 反射和折射定律 光的干涉 麦克斯韦方程组 平面电磁波理论 边界条件,电磁波谱,电磁波谱,波长分布:在真空中的可见光波长范围是400780nm;红外光为780107nm;紫外光为1400nm;比紫外光短的还有 射线、 射线(0.001nm)等;比红外长的是无线电波。,电磁波谱,反射和折射定律,-斯涅尔折射定律 它不仅适用于介质,同样适用于金属。,当从光密到光疏介质时,存在一角度 使:,称为全反射临界角,或者布鲁斯特角。,适用于均匀的各向同性的媒质,折射定律:(1)折射光线位于入射光线和。

6、单层介质膜的反射率和透射率,光 学 薄 膜 技 术,等效界面思想,等效界面思想 单层薄膜的等效界面 等效介质的等效光学导纳 单层介质膜的光学特性 多层介质膜的光学特性,主要内容,复习,光学导纳 修正导纳菲涅尔公式单一界面的反射率和透射率,光学导纳,(1),单一界面的反射率和透射率,两种介质形成的界面对光波的能量反射率和透射率分别为:,若已知两种介质的折射率和光线入射角,就可以得到相应的(修正)导纳,利用上式就可计算单一界面的反射率和透射率。,(2),等效界面思想,等效介质:薄膜系统和基底组合而成。 将入射介质和等效介质之。

7、光学薄膜技术及其应用张三 1409074201摘要:介绍了传统光学薄膜的原理,根据薄膜干涉的基本原理及其特点,介绍了光学薄膜的性能、制备技术,研究了光学薄膜在的应用和今后的发展趋势。关键词:光学薄膜、薄膜干涉、应用、薄膜制备引言:光学薄膜是指在光学玻璃、光学塑料、光纤、晶体等各种材料的表面上镀制一层或多层薄膜, 基于薄膜内光的干涉效应来改变透射光或反射光的强度、偏振状态和相位变化的光学元件,是现代光学仪器和光学器件的重要组成部分。光学薄膜技术的发展对促进和推动科学技术现代化和仪器微型化起着十分重要的作用,光。

8、光学薄膜监控技术,薄膜厚度是薄膜最重要的参数之一,它影响着薄膜的各种性质及其应用。,薄膜淀积速率是制膜工艺中的一个重要参数,它直接影响薄膜的结构的特性。,重点:薄膜厚度的测量和监控。,监控基本概述,质量厚度定义为单位面积上的膜质量,光学薄膜的沉积监控技术是光学薄膜制备的关键技术之一,对薄膜的监控主要是对膜层厚度的监控,薄膜厚度有三种概念,即几何厚度、光学厚度和质量厚度。,光学厚度是物理厚度与膜层材料折射率的乘积,即nd;,几何厚度表示膜层的物理厚度;, 膜厚的分类,厚度:是指两个完全平整的平行平面之间的距离。 。

9、,光学薄膜的特性检测,第三组 徐彩霞 李佳 张琨 张立宏 路高原,光度法测量薄膜的光学常数,所谓光度法,指的是通过测量样品的反射率和透射率,经过计算,求出光学常数的方法。这里的光学常数一般是指薄膜的折射率和消光系数。这种方法虽然精度不是很高,但已经能满足设计和制备的要求,所有得到广泛的应用,利用反射率求折射率,考虑透明膜的情况,也就是在考虑的波段内,均匀膜层对光没有吸收。 假定薄膜的折射率没有色散 在膜厚为/4奇数倍的那些波长上,其反射率为,式中,n是膜层的折射率, ns是基片的折射率,no是入射媒质折射率,于是测量。

10、,薄膜厚度是薄膜最重要的参数之一,它影响着薄膜的各种性质及其应用。,薄膜淀积速率是制膜工艺中的一个重要参数,它直接影响薄膜的结构的特性。,重点:薄膜厚度的测量和监控。,监控基本概述,质量厚度定义为单位面积上的膜质量,光学薄膜的沉积监控技术是光学薄膜制备的关键技术之一,对薄膜的监控主要是对膜层厚度的监控,薄膜厚度有三种概念,即几何厚度、光学厚度和质量厚度。,光学厚度是物理厚度与膜层材料折射率的乘积,即nd;,几何厚度表示膜层的物理厚度;, 膜厚的分类,厚度:是指两个完全平整的平行平面之间的距离。 理想薄膜厚度:基。

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