改良西门子法生产多晶硅工艺流程

1、中需注意的问题。
关键词多晶硅；改良西门子法；工艺设计 中图分类号TN30412 文献标识码A 文章编号10089411(2009)03一o0o7一O5 多晶硅是硅产品产业链中的一个非常重要的中 间产品，是制造硅抛光片、太阳能电池及高纯硅制品 的主要原料，是信息产业和新能源产业最基础的原 材料。
随着全球信息技术的不断进步，对于半导体 硅的需求量日益增加，全世界半导体市场以每年 20以上的速度递增。
在金融危机出现之前，国内 及国际市场的多晶硅需求量急剧增加，国内多晶硅 更是严重短缺。
据专家预测，今后510年我国将 成为世界上电子信息产品的主要生产国和主要市 场，多晶硅的需求量将会变得更大，国家为此将多晶 硅列入当前重点鼓励发展产业。
1 多晶硅及其性质 多晶硅是单质硅的一种形态。
熔融的单质硅在 过冷条件下凝固时，硅原子以金刚石晶格形态排列 成许多晶核，如这些晶核长成晶面取向不同的晶粒， 则这些晶粒结合起来，便结晶形成多晶硅。
多晶硅 可作拉制单晶硅的原料，多晶硅与单晶硅的差异主 要表现在物理性质方面，例如，在力学性质、光学性 质和热学性质的各向异性方面，远不如单晶硅明显； 在电学性。

2、气液分离器排放废吸附剂，氢气脱氧器有废脱氧催化剂排放，干燥器有废吸附剂排放，均由供货商回收再利用。
2. 氯化氢合成工序从氢气制备与净化工序来的氢气和从合成气干法分离工序返回的循环氢气分别进入本工序氢气缓冲罐并在罐内混合。
出氢气缓冲罐的氢气引入氯化氢合成炉底部的燃烧枪。
从液氯汽化工序来的氯气经氯气缓冲罐，也引入氯化氢合成炉的底部的燃烧枪。
氢气与氯气的混合气体在燃烧枪出口被点燃，经燃烧反应生成氯化氢气体。
出合成炉的氯化氢气体流经空气冷却器、水冷却器、深冷却器、雾沫分离器后，被送往三氯氢硅合成工序。
为保证安全，本装置设置有一套主要由两台氯化氢降膜吸收器和两套盐酸循环槽、盐酸循环泵组成的氯化氢气体吸收系统，可用水吸收因装置负荷调整或紧急泄放而排出的氯化氢 气体。
该系统保持连续运转，可随时接收并吸收装置排出的氯化氢气体。
为保证安全，本工序设置一套主要由废气处理塔、碱液循环槽、碱液循环泵和碱液循环冷却器组成的含氯废气处理系统。
必要时，氯气缓冲罐及管道内的氯气可以送入废气处理塔 内，用氢氧化钠水溶液洗涤除去。
该废气处理系统保持连续运转，以保证可以随时接收并处理含氯气体。
3. 三氯氢硅合成工序原料硅粉。

3、分离器排放废吸附剂，氢气脱氧器有废脱氧催化剂排放，干燥器有废吸附剂排放，均由供货商回收再利用。
2. 氯化氢合成工序从氢气制备与净化工序来的氢气和从合成气干法分离工序返回的循环氢气分别进入本工序氢气缓冲罐并在罐内混合。
出氢气缓冲罐的氢气引入氯化氢合成炉底部的燃烧枪。
从液氯汽化工序来的氯气经氯气缓冲罐，也引入氯化氢合成炉的底部的燃烧枪。
氢气与氯气的混合气体在燃烧枪出口被点燃，经燃烧反应生成氯化氢气体。
出合成炉的氯化氢气体流经空气冷却器、水冷却器、深冷却器、雾沫分离器后，被送往三氯氢硅合成工序。
为保证安全，本装置设置有一套主要由两台氯化氢降膜吸收器和两套盐酸循环槽、盐酸循环泵组成的氯化氢气体吸收系统，可用水吸收因装置负荷调整或紧急泄放而排出的氯化氢 气体。
该系统保持连续运转，可随时接收并吸收装置排出的氯化氢气体。
为保证安全，本工序设置一套主要由废气处理塔、碱液循环槽、碱液循环泵和碱液循环冷却器组成的含氯废气处理系统。
必要时，氯气缓冲罐及管道内的氯气可以送入废气处理塔 内，用氢氧化钠水溶液洗涤除去。
该废气处理系统保持连续运转，以保证可以随时接收并处理含氯气体。
3. 三氯氢硅合成工序原料硅粉经吊。

4、分离器排放废吸附剂，氢气脱氧器有废脱氧催化剂排放，干燥器有废吸附剂排放，均由供货商回收再利用。
2. 氯化氢合成工序从氢气制备与净化工序来的氢气和从合成气干法分离工序返回的循环氢气分别进入本工序氢气缓冲罐并在罐内混合。
出氢气缓冲罐的氢气引入氯化氢合成炉底部的燃烧枪。
从液氯汽化工序来的氯气经氯气缓冲罐，也引入氯化氢合成炉的底部的燃烧枪。
氢气与氯气的混合气体在燃烧枪出口被点燃，经燃烧反应生成氯化氢气体。
出合成炉的氯化氢气体流经空气冷却器、水冷却器、深冷却器、雾沫分离器后，被送往三氯氢硅合成工序。
为保证安全，本装置设置有一套主要由两台氯化氢降膜吸收器和两套盐酸循环槽、盐酸循环泵组成的氯化氢气体吸收系统，可用水吸收因装置负荷调整或紧急泄放而排出的氯化氢 气体。
该系统保持连续运转，可随时接收并吸收装置排出的氯化氢气体。
为保证安全，本工序设置一套主要由废气处理塔、碱液循环槽、碱液循环泵和碱液循环冷却器组成的含氯废气处理系统。
必要时，氯气缓冲罐及管道内的氯气可以送入废气处理塔 内，用氢氧化钠水溶液洗涤除去。
该废气处理系统保持连续运转，以保证可以随时接收并处理含氯气体。
3. 三氯氢硅合成工序原料硅粉经吊。

5、改良西门子法生产多晶硅工艺流程 来源 : 日晶科技作者 : 顾斌 时间 :2010-07-29 1. 氢气制备与净化工序 在电解槽内经电解脱盐水制得氢气。
电解制得的氢气经过冷却、 分离液体后，进入除氧器， 在催化剂的作用下，氢气中的微量氧气与 氢气反应生成水而被除去。
除氧后的氢气通过 一组吸附干燥器而被 干燥。
净化干燥后的氢气送入氢气贮罐，然后送往氯化氢合成、三氯 氢硅氢还原、四氯化硅氢化工序。
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