多弧离子度

1、10%70%范围内增加, 离子轰击得到加强, 涂层表面得到很好的改善, 大颗粒与微坑缺陷数量逐渐减少。
当占空比增大到 90%时, 大颗粒和微坑缺陷数量反而增多。
结论 随着占空比的增加, 纳米硬度、弹性模量和涂层结合力均先增大后减小, 占空比为 50%时, 分别达到最大值 48.15 GPa、518.24 GPa、50.55 N。
关键词： 多弧离子镀; TiAlSiN涂层; 占空比; 表面形貌; 力学性能; 作者简介：王璐 (1994) , 男, 硕士研究生, 主要研究材料表面与界面。
作者简介：金永中 (1972) , 男, 博士, 教授, 主要从事粉末冶金材料的研究。
收稿日期：2017-04-27基金：四川省青年科技创新研究团队项目 (2016TD0024) Effects of Substrate Bias Duty Cycle on Morphology and Mechanical Properties of TiAlSiN Coating Deposited by Muti-arc Ion PlatingWANG Lu JIN Yong-zhong LIN Xiu-zhou。

2、TiSiN-Cu 涂层。
用扫描电子显微镜 (SEM) 观察涂层的表面形貌, 用 X 射线光电子能谱仪 (XPS) 和 X 射线衍射仪 (XRD) 来分析涂层的元素组成和相组成, 通过纳米压痕硬度测试和摩擦磨损实验, 表征不同 Cu 含量 TiSiN-Cu 涂层的力学性能和摩擦学性能。
结果 Cu含量对 TiSiN 涂层的结构、硬度和摩擦性能有明显影响。
Cu 在涂层中主要以单质形式存在, 由于与空气接触, 涂层表面有少量的 CuO。
随着 Cu 含量的增加, TiN 的晶粒尺寸先减小后增加, 硬度先升高后降低。
在 Cu 原子数分数为 6.28%时, 硬度达到最大值 29.26 GPa。
在干摩擦条件下, TiSiN-Cu 涂层的磨损率在Cu 原子数分数为 12.93%时达到最低, 为 6.6510-7 mm3/ (Nm) 。
在海水环境下, 涂层的磨损率较大。
结论 软金属 Cu 作为固体润滑颗粒可以明显改善 Ti Si N 涂层的干摩擦性能, 在海水条件下, 摩擦与腐蚀的交互作用加速了涂层材料的损耗。
关键词： TiSiN-Cu 涂层; 多弧离子镀; 结构; 润滑; 海水;。

3、生产。
关键词： 石墨烯薄膜; 铜箔; 多弧离子电镀法; 工艺; 作者简介：Valentin Russier (1992-) , 男, 法国人, 硕士研究生, 研究方向为机械制造。
收稿日期：2016-03-02Deposition Process Investigation of Copper Growing on Graphene by Multi-arc Ion Plating ProcessValentin Russier Nanjing University of Aeronautics and Astronautics; Abstract： A new process of depositing copper on graphenes wafer is tested in this research. Comparing to previous researches on growing graphene in copper foil using the CVD, a new non-contact electrical manufacturing process c。

4、 金 属 外 观 件 的 表 面 处理 方 面 得 到 越 来 越 为 广 泛 的 应 用 。
离子镀技术是在真空蒸镀和真空溅射的基础上于 20 世纪 60 年代初发展起来的新型薄膜制备技术，于 1963 年 由 DMMattox 提 出 ， 1971 年 Chamber等 发 表 了 电 子 束 离 子 镀 技 术 ， 1972 年 又 出 现 了 反 应 蒸 发 镀 （ ARE） 技 术 ，并 制 作 了 TIN 及 TIC 超 硬 膜 。
同 年 ， MOLEY 和 SMITH 将 空 心 阴 极 技 术 应 用 于镀 膜 。
多弧离子镀属于离子镀的一种改进方法，是离子镀技术中的皎皎者。
最早由苏联人开发，80 年代初，美国的 Multi-Arc 公司首先把这种技术实用化，至 此 离 子 镀 达 到 工 业 应 用 水 平 。
离 子 镀 种 类 很 多 ， 蒸 发 远 加 热 方 式 有 电 阻 加 热 、 电 子 束 加 热 、 等 离 子 电子 束 加 热 、 高 频 感 应 加 热 等 然 而 多 弧 离 子 镀 与 一 般 的 离 子 镀 有 着 很 大 的 区 别 。
。

5、很好的高温稳定性和化学惰性。
氮化钛薄膜的这些有价值的特性已被应用于刀具工业，以增加切削刀具的使用寿命等方面。
氮化钛薄膜具有高金属反射率及随化学计量和晶格畸变而变化的颜色特性。
氮化钛薄膜具有类似黄金的外观，可使一些物品具有仿金的外观并且大大增加了物品抗划伤的能力，氮化钛薄膜也可作为一种选择性透射热镜材料，这种玻璃基底上的氮化钛薄膜的选择性，已由不透明氮化钛薄膜的光学常数做了计算。
多弧离子镀氮化钛薄膜的组织机构、力学性能受多种工艺参数的影响，包括：沉积温度、基体偏压、靶电流、离子轰击、氮气分压等。
具体影响如下：（1）沉积温度 多弧离子镀氮化钛薄膜，加热温度在 200，沉积温度在 40060温度太低，形核不均匀，为疏松、粗大的锥状晶组织，膜硬度、结合力、耐磨性等力学性能较差；温度太高，基体过热软化，为疏松的柱状晶，性能较差。
沉积温度在 500时最好，膜层的硬度和结合力较好。
（2）离子轰击 离子轰击可以提高基体的温度，使膜层密度提高，并提高膜层硬度和耐磨性，基体温度低易得到疏松的锥状晶，而温度太高又易得到粗大的柱状晶，只有温度适宜才能得到致密的柱状晶，膜层硬度则由于原子排列更加。

6、多弧离子镀 多弧离子镀的基本原理就是把金属蒸发源 (靶源 )作为阴极 ，通过它与阳极壳体之间的弧光放电 ， 使靶材蒸发并离化 ，形成空间等离子体 ，对工件进行沉积镀膜. 工艺参数：1、靶源电流。
靶源电流与弧斑的数目成正比。
2、反应气体压强。
反应气体分压的大小直接影响涂层的化学成分、组织结构及性能。
3、基底负偏压。
镀膜真空室内为等离子气体气氛所填充，等离子体中含有大量的离子、电子及中性粒子。
当基。