CVD化学与薄膜工艺040209

1、单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版副标题样式* 1化学气相淀积与薄膜工艺Chemical Vapor Deposition 欧洲 CVD系列会议【 9】 中英文参考文献 1.7 教学方式与考核1。讲授： 基本原理和处理方法2。技术性讲座（ 3次）3。实验室参观（与讲座相结合）4。阅读文献和讨论按内容分组，推举报告人，讨论5。期终考试课程论文参考选题（一）按科学问题命题， 如 复杂反应 CVD过程热力学分析的近期进展 化学输运反应 CVD 的新近发展 开管气流系统 CVD的流体力学分析和反应器设计 CVD过程表面生长动力学模型的新进展CVD 过程动力学的实验研究CV。

2、单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版副标题样式* 1化学气相淀积与薄膜工艺Chemical Vapor Deposition & Thin Film Technology v 孟广耀v Tel:3603234 Fax:3607627v mgymustc.edu.cnv 中国科学技术大学 材料科学与工程系v 固体化学与无机膜研究所Ch.3 化学气相淀积系统中的质量输运 原理和和技术3。 1 CVD系统中物质输运过程及其作用 3。 2 气体的一些性质（ 1）气态方程（ 2）输运性质 3。 3开管气流系统中的质量输运（ 1）水平反应管中的气流状态（ 2）气态组分向生长表面的转移（ 3）实例： Ga HCl- NH3-H2 体系3。 4 封管系统中。

3、化学气相淀积与薄膜工艺 Chemical Vapor Deposition & Thin Film Technology,孟广耀 Tel:3603234 Fax:3607627 mgymustc.edu.cn 中国科学技术大学 材料科学与工程系 固体化学与无机膜研究所,Ch.2 化学气相淀积的一般化学原理和和技术,2。1 CVD的化学反应体系 2。2 CVD反应器技术 2。3 CVD先驱物 2。4 CVD技术分类 1）从源物质的种类 2）从体系操作压力 3）从淀积过程能量提供方式 4）从淀积装置结构形式,2。1 CVD的化学反应体系 热解反应,金属氢化物 氢化物M-H键的离解能、键能都比较小，热解温度低，唯一副产物是没有腐蚀性的氢气。例如：。

4、单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版副标题样式* 1化学气相淀积与薄膜工艺Chemical Vapor Deposition & Thin Film Technology v 孟广耀v Tel:3603234 Fax:3607627v mgymustc.edu.cnv 中国科学技术大学 材料科学与工程系v 固体化学与无机膜研究所CH.4. CVD淀积过程的热力学化学气相淀积过程的热力学 : 回答 该 CVD系统为什么能形成目标产物 , 目标产物随淀积参数的变化关系所谓 热力学分析 就是运用热化学平衡计算，估算淀积系统中与某特定组分的固相处于平衡的气态物种的分压值，用以预言淀积的程度和各种反应参数对淀积过程的影响。

5、化学气相淀积与薄膜工艺 Chemical Vapor Deposition & Thin Film Technology,孟广耀 Tel:3603234 Fax:3607627 mgymustc.edu.cn 中国科学技术大学 材料科学与工程系 固体化学与无机膜研究所,Ch.1绪论；化学气相淀积（CVD） 一个重要的科学技术领域,1。1 化学气相淀积（CVD）:概念、定义及其基本特点 1。2 学科与技术范围 1。3 CVD与新材料 1。4 CVD 与高新技术 1。5 本课程的内容 1。6 主要参考 1。7 教学方式与考核,1。1 化学气相淀积（CVD）: 概念、定义及其基本特点,定义：CVD是通过气态物质在气相或气/固界面上发生反 应生成固态材料的。