1、ITO-化学：纳米铟锡金属氧化物在化学上，ITO 是 Indium Tin Oxides 的缩写。作为纳米铟锡金属氧化物，具有很好的导电性和透明性，可以切断对人体有害的电子辐射，紫外线及远红外线。因此，喷涂在玻璃，塑料及电子显示屏上后，在增强导电性和透明性的同时切断对人体有害的电子辐射及紫外、红外。ITO 是一种 N 型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO 薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率和透光率.在氧化物导电膜中，以掺 Sn 的 In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好,而且容易在酸液中蚀刻出细微的图形.其中透过率以达 90%以上,ITO 中其透过率和阻值分别由
2、 In2O3 与 Sn2O3 之比例来控制,通常 Sn2O3:In2O3=1:9.多用于触控面板。1、ITO 导电膜玻璃氧化铟锡(Indium-Tin Oxide)透明导电膜玻璃,多通过 ITO 导电膜玻璃生产线,在高度净化的厂房环境中,利用平面磁控技术,在超薄玻璃上溅射氧化铟锡导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品。产品广泛地用于液晶显示器(LCD)、太阳能电池、微电子 ITO 导电膜玻璃、光电子和各种光学领域。2、光刻胶 photoresist 又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化
3、反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合 性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图光致抗蚀剂成像制版过程）。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理，可分负性胶和正性胶两类。光照后形成不可溶物质的是负性胶；反之，对某些溶剂是不可溶的，经光照后变成可溶物质的即为正性胶。利用这种性能，将光刻胶作涂层，就能在硅片表面刻蚀所需的电路图形。基于感光树脂的化学结构，光刻胶可以分为三种类型。光聚合型，采用烯类单体，在光作用下生成自由基，自由基再进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，具有形成正像的特点
4、。光分解型，采用含有叠氮醌类化合物的材料，经光照后,会发生光分解反应,由油溶性变为水溶性，可以制成正性胶。光交联型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作为光敏材料,在光的作用下,其分子中的双键被打开，并使链与链之间发生交联，形成一种不溶性的网状结构，而起到抗蚀作用，这是一种典型的负性光刻胶。柯达公司的产品 KPR 胶即属此类。感光树脂在用近紫外光辐照成像时，光的波长会限制分辨率（见感光材料）的提高。为进一步提高分辨率以满足超大规模集成电路工艺的要求，必须采用波长更短的辐射作为光源。由此产生电子束、X 射线和深紫外(250nm)刻蚀技术和相应的电子束刻蚀胶，X 射线刻蚀胶和深紫外线刻蚀胶，所刻蚀的线条可细至
5、 1m 以下。 光刻胶在接受一定波长的光或者射线时,会相应的发生一种光化学反应或者激励作用。光化学反应中的光吸收是在化学键合中起作用的处于原子最外层的电子由基态转入激励态时引起的。对于有机物，基态与激励态的能量差为36eV，相当于该能量差的光(即波长为 0.20.4m 的光)被有机物强烈吸收，使在化学键合中起作用的电子转入激励态。化学键合在受到这种激励时，或者分离或者改变键合对象，发生化学变化。电子束、X 射线及离子束(即被加速的粒子)注入物质后，因与物质具有的电子相互作用，能量逐渐消失。电子束失去的能量转移到物质的电子中，因此生成激励状态的电子或二次电子或离子。这些电子或离子均可诱发光刻胶的
6、化学反应。大概就是这样完成的:一工艺流程简述： 前段工位： ITO 玻璃的投入（grading） 玻璃清洗与干燥（CLEANING）涂光刻胶（PR COAT）前烘烤（PREBREAK）曝光（DEVELOP ） 显影（MAIN CURE）蚀刻（ETCHING ） 去膜（STRIP CLEAN） 图检（INSP）清洗干燥（CLEAN）TOP 涂布（ TOP COAT） UV 烘烤（UV CURE） 固化（MAIN CURE）清洗（CLEAN） 涂取向剂（PI PRINT）固化（ MAIN CURE） 清洗（CLEAN）丝网印刷（SEAL/SHORT PRINTING） 烘烤（CUPING FURN
7、ACE） 喷衬垫料（SPACER SPRAY） 对位压合（ASSEMBLY） 固化（SEAL MAIN CURING） 1 ITO 图形的蚀刻：（ITO 玻璃的投入到图检完成） A ITO 玻璃的投入：根据产品的要求，选择合适的 ITO 玻璃装入传递篮具中，要求ITO 玻璃的规格型号符合产品要求，切记 ITO 层面一定要向上插入篮具中。 B 玻璃的清洗与干燥： 将用清洗剂以及去离子水（ DI 水）等洗净 ITO 玻璃，并用物理或者化学的方法将 ITO 表面的杂质和油污洗净，然后把水除去并干燥，保证下道工艺的加工质量。 C 涂光刻胶： 在 ITO 玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶，涂过光刻胶的
8、玻璃要在一定的温度下作预处理：（如下图） D 前烘：在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间，以使光刻胶中的溶剂挥发，增加与玻璃表面的粘附性。 E 曝光：用紫外光（UV）通过预先制作好的电极图形掩模版照射光刻胶表面，使被照光刻胶层发生反应，在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光：（如图所示） F 显影：用显影液处理玻璃表面，将经过光照分解的光刻胶层除去，保留未曝光部分的光刻胶层，用化学方法使受 UV 光照射部分的光刻胶溶于显影液中，显影后的玻璃要经过一定的温度的坚膜处理。 （如图：） G 坚膜：将玻璃再经过一次高温处理，使光刻胶更加坚固。 H 刻蚀：用适当的酸刻
9、液将无光刻胶覆盖的 ITO 膜蚀掉，这样就得到了所 需要的 ITO 电极图形，如图所示： 注：ITO 玻璃为（In2O3 与 SnO2）的导电玻璃，此易与酸发生反应，而用于蚀刻掉多余的 ITO，从而得到相应的拉线电极。 I 去膜：用高浓度的碱液（NaOH 溶液）作脱膜液，将玻璃上余下的光刻胶剥离掉，从而使 ITO 玻璃上形成与光刻掩模版完全一致的 ITO 图形。 （即按客户要求进行显示的部分拉线蚀刻完成，如图） J 清洗干燥：用高纯水冲洗余下的碱液和残留的光刻胶以及其它的杂质。 2 特殊制程：（TOP 膜的涂布到固化后清洗） 一般的 TN 与 STN 产品不要求此步骤，TOP 膜的涂布工艺是在
10、光刻工艺之后再做一次SiO2 的涂布，以此把刻蚀区与非刻蚀区之间的沟槽填平并把电极覆盖住，这既可以起到绝缘层的作用，又能有效地消除非显示状态下的电极底影，还有助于改善视角特性等等，因此大部分的高档次产品要求有 TOP 涂布。 3 取向涂布（涂取向剂到清洗完成） 此步工艺为在蚀刻完成的 ITO 玻璃表面涂覆取向层，并用特定的方法对限向层进行处理，以使液晶分子能够在取向层表面沿特定的方向取向（排列） ，此步骤是液晶显示器生产的特有技术。 A 涂取向剂：将有机高分子取向材料涂布在玻璃的表面，即采用选择涂覆的方法，在ITO 玻璃上的适当位置涂一层均匀的取向层，同时对取向层做固化处理。 （一般在显示区）
11、B 固化： 通过高温处理使取向层固化。 C 取向摩擦：用绒布类材料以特定的方向摩擦取向层表面，以使液晶分子将来能够沿着取向层的摩擦方向排列。如 TN 型号摩擦取向：45 度 D 清洗： 取向摩擦后的玻璃上会留下绒布线等污染物，需要采取特殊的清洗步骤来消除污染物。 4 空盒制作：（丝网印刷到固化） 此步工艺是把两片导电玻璃对叠，利用封接材料贴合起来并固化，制成间隙为特定厚度的玻璃盒。制盒技术是制造液晶显示器的最为关键的技术之一。 （必须严格控制液晶盒的间距）A 丝印边框及银点：将封接材料（封框胶）用丝网印刷的方法分别对上板印上边框胶和和下板玻璃印是导电胶。 B 喷衬垫料： 在下玻璃上均匀分布支撑
12、材料。将一定尺寸的衬垫料（一般为几个微米）均匀分散在玻璃表面，制盒时就靠这些材料保证玻璃之间的间距即盒厚。 C 对位压合： 按对位标记上与下玻璃对位粘合，将对应的两片玻璃面对面用封接材料粘合起来。 D 固化： 在高温下使封接材料固化。固化时一般在上下玻璃上加上一定的压力，以使液晶盒间距（厚度保持均匀） 。 后段工位： 切割（SCRIBING） Y 轴裂片（BREAK OFF） 灌注液晶（LC INJECTION） 封口（END SEALING） X 轴裂片（BREAK OFF） 磨边 一次清洗（CLEAN） 再定向（HEATING） 光台目检（VISUAL INSP） 电测图形检验（ELECTRICAL）二次清洗（CLEAN） 特殊制程（POLYGON）背印（BACK PRINTING） 干墨（CURE） 贴片（ POLARIZER ASSEMBLY） 热压（CLEAVER） 成检外观检判（ FQC） 上引线（BIT PIN） 终检（FINAL INSP）包装（PACKING ） 入库（IN STOCK）
