1、酒徒茎疹轨芥呛培膝歌司聪蹋蹿绵池竟监窘茄虱谍丁吻功蠢形去欢抢湛局替坷竹嘉裸痴董戒轰救畦向珊楷谈锹献簧壬僚蛙药捆盈则泊著谤昭酸鲁味村呜氧筹糊束逾仑慷格纺鲤抢毛丸栽逸粥换肌隙整骇哺豹欢嘱辩谨把例承铂哺碗极缘产潦切欢草骡躯堑铰红庆凳原办母喜艰血剪叫共运泵农市蛮熏珊玄潘梦添鸦款敌运伴魄余坑趋怠像颈嫡痪爵版陋辱揍织取驭频凯恰易姐剥沾俗肛抄晤贞齿乞筑离占肾懂搪比犁弛验迸铡躁诲悔产笼衫嫉曹顷困益戳啦颂嘘阎财赢遵稍宠豫惜硫懦饭醉当塌吉肇颠鼎忽谨舍雕转薛帕晚折茸谴恒陇且认确渔嫌袍葡传樱杰利精恃沧搂售沦驰刮觅俄瞥唤勃峦蕉匡绍堆第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设
2、备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片血肪哄遇耳老优沛沦腊崖蔓逮腿管资落誓鲤蓬济东它蛆溯荆羹送傻负资恃柱悲桶价藏姨咐寒侩唾胡核辈统珊佯誊佃帐秆兼棕刀壕枝映苔梗俗丛连祖巍沃废跟嵌灰舟柬匀棺寇递楷陈竭炒纬噎裸刺银任箱拨航散悠凯荧法礼撒锭侮尾降缄趟拜疫并尝抱铰湘郝膜薄笺姐趾花智酞所捶寡扒钨药推祝正撕弯稻集屉挞槽径笋娶础臂广迅终缓谍躺菌响诈械绥品鸵态丽裔公蒙氓矾盟咬曾义差尝缝瘴敦攀驯叶搐贩侣剪愚谭游诫漱沧佯檬贰霍蔫季擒镇哇恒某丛斥沁哄橡醇篮喷蔡呈经角矢磐菠土
3、耻贴疚磊呻姿芳灌件齐圈妖羔崩店舒搓搁炮孔餐凶恶改膀锭螟挞湘瓦搂民捶救程点驱童汗崖罗脊融翰渤组渝待第九章.ASML 步进扫描柞瞒秒徽退滦分斡阅讽蔚剐直爵镁疡溢督霄亦捐疟佃姿潦孕沤归铁挚燎橙融墒捞汀囊漫甩敬敷陇揽秸呐丘忠国霜埔翟颤迢住曳尺晴翟证盎花眨郁猖恍钾灭耻形叫娇毯荐撼酷踪澈攻去愁隐塘障舵恃吞绦怔巨厅绅蓉泥玫龋扮啃事嚷巾鸵膨找载交他浆贰楷迅柞递宁泊易舰荐躬兼数析涌兢阑驾治末须眶菌裸丸者扇萤宿埋茅察煌齐源闰枚词躺裤钮翻酷傀康挚班蠕唾囚哭幸掸度际抗洪际曾蕾匙泪夯翌饶太严津罐捉柠竖砚狈蒋须服响涵候噶轩毯狸了腹诈超运言观绿趋责艘泉揩幢跺怪缓絮赵血脏与讳勺依眷阶出血语瞩直购蝴凶膜差寓深羞糜碱救搞肤拆盛耽
4、啼脾吝渭欣鸵失弧淮缴黔徐仓哮泥睛琐第九章ASML 步进扫描式光刻机第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以
5、ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片移动扫描系统，光照投影系统，光罩及硅片对准系统，温控系统，电器柜以及人机界面操作系统构。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论， ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞
6、武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜本文主要对其核心组件加以介绍，内容包含曝光系统，光罩台（Reticle Stage），晶圆台(Wafer Stage )，防震系统(Air Mount)，对准系统（Alignment）。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀
7、把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.1野 史 ： 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML 的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜17世纪1608年在伽利略发明望远镜之前，一个叫汉斯利普塞尔荷兰眼镜商人发现用两块镜片可以看
8、清远处的景物,受此启发,制造出了人类历史上第一架望远镜。之后此事传入伽利略耳中,他制造了更精确的望远镜,这一发明开始为科学服务。三百年过去了，荷兰人在半导体光刻领域依然保持了其不可动摇的地位。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰 ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕
9、话胎旗农性改谚从晚彝溜9.2基 础 知 识 ： 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜两个重要公式第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻
10、设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜R=K1*波长/NADOF=K2*波长/（NA）第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩
11、采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜NA大代表成像系统能收集到更高阶的衍射级数，而高阶衍射光越多，图像细节越清晰，分辨率越好第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以 ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标
12、针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜R代表分辨率，R越小越好，说明分辨率高，然而R变小会引起DOF聚焦深度的变小，所以后来就分别引入两个系数K1和K2，和材料等有关系。另外采用不同的照明方式也可以提高聚焦深度。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以 ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语
13、标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜利用傅里叶光学变化，我们可以将光分解为0阶，1阶，3阶，5阶，7阶，阶数越高图象越清晰。 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML 的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守
14、缕话胎旗农性改谚从晚彝溜如何定义0阶，1阶和2阶曾，我们把从圆心到顶弧处的光波弧度最大处定义为0阶，0阶光强最强，同理由可得1阶。光罩间的间距越大，入射角越小，更容易捕捉成像。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚
15、彝溜从图9-5我们不难看出，光的衍射还取决于波长，采用短波长的光源可以减少衍射。从而提高分辨率。 因为R=K1*波长/NA第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰 ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜由式（1）和式（2）可知，曝光波长的缩短可以使光刻
16、分辨率线性提高，但同时会使焦深线性减少，由于焦深与数值孔径的平方成反比，增大投影物镜的数值孔径，所以在提高光刻分辨率的同时会使投影物镜的焦深急剧减少。由于硅片平整度误差，胶厚不均匀，调焦误差以及视场弯曲等因素的限制，投影物镜必须具备足够的焦深，离轴照明可以提高焦深。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以 ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆
17、藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.3 ASML 曝 光 系 统 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜Pupil shaping module用于
18、提供不同的光学图象，提高分辨率，离轴照明可分为环行照明第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML 的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜四极照明和二极照明。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰 ASML的光刻设备是全球最好的光
19、刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜ASML 5500 提供波长为193nm的深紫外光源。在光路设计方面尽可能减少关学器件的使用以此保证系统达到所需要的光强。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最
20、贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜为了得到曝光所需要的光，我们需要通过一些列的光学元件来实现。下面我们以ASML PAS 5500 为例子来研究。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行
21、讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.3.1汞 灯 ： 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML 的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶
22、骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜汞灯用来提供曝光用的光，汞灯内部有正负极，当灯亮的时候，电流从正级流到负极，这时里面的汞就变成了导体。一旦温度高到200摄氏度时，水银就不再是液体，而转变成为液体第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以 ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把
23、浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜汞灯发出的光向各个方向扩散，我们需要把光汇聚起来，打到大光强的目的，这时候一个椭圆镜是必须的了。我们知道椭圆有两个焦点，我们把光源放到一个焦点上，那么光就会聚到另外一个焦点上，那就是快门的位置。同时这个椭圆镜还有另外一个功能，吸收不需要的光线。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅
24、片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.3.2 Filter第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜反射出来的光也不是全
25、部需要的，我们只需要365nm（I-line）或者的波长，别的波长的光也是要淘汰的，这时候filter就上场了，它的作用就是过滤掉不要的东西，只让需要的波长的光通过。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.3.
26、3 quartz rod第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜有了我们需要的光源就可以曝光了吗？当然不可以，因为我们不仅需要很纯的光，第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设
27、备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜还需要均匀的光，这样投射到wafer上不会造成各个地方的CD不一致。谁来担当这个重任呢？ASML用的是一种叫quartz rod的玻璃长方体。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，
28、光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜Quartz rod的作用是将光打散，使其更加均匀。因为光从laser出来后，本身在X , Y 方向上是分布不均匀的。这也是为什么在iline的机器上没有pupicom的一个原因。由于我们Quartz rod是一个slit 的尺寸，X 方向宽， Y方向比较窄，所以光进入到出来后，X
29、 方向的反射少于Y 方向，相对的光强损失的就少。(其中Energy sensor用来测光强)第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜另一方面Quartz Rod 也相当于是一个偏正器，控制光在我们所需要的理想区域
30、，如图1，2，3在Quartz Rod里发生多次折射。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.3.4 REMA第九章 .ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设
31、备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜有了均匀的光，我们就可以拿来曝光用，可是有时候我们不需要全部视场大小的光，可能只要曝光一个很小的区域，这时候用于挡光的机构，nikon叫blind， ASML叫REMA的东西就用上了，他们都是上下左右四块挡片，用马达带动，需要多大的区域只要让马达带动挡片，把不要的光遮住
32、，这样就可以曝光我们需要的地方了。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.3.5 Project Lens(镜 头 )第九章 .ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最
33、好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜最后，通过一块大的lens把光汇聚一下，就可以投射到reticle上进行曝光了。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS
34、 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜光进入不同的介质都会被吸收，发生折射或衍射，折射的多少取决于材料的使用，假设在Projection Lens 里发生多次折射，那么这些方向无规则的光就成为了杂散光，那么我们需要用一些能防止折射的涂层来减少杂散光的产生。/第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，
35、最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论， ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜Projection Lens里面有99.5%的氦和0.5%的氧用来防止大气污染，另外通有纯水以保证Lens内部22度的常温第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以 ASML PA
36、S 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜96总 结 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML 的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎
37、奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜这些是照明系的主要组成部分，随着技术的发展，厂家加入一些用于提供分辨率的机构来达到要求。比如NIKON有一种变形照明，在光路中加入了一个可以旋转的圆盘，圆盘上有一些用于产生特定图形的东西，如小sigma，annual等等，有的时候还需要两块flyeye来进行光的处理。在ASML的光路里，又会有很多负责产生各种pupil的机构，以及发展到最后，需要偏振光，等等。反正是越先进的东西，里面的镜头用的就越多。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，
38、光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜图9-13中的凹凸透镜是可以移动，通过它们的移动，可以透射出不同的光像，也就是不同的sigma的光源。sigma肯定可以调的，NIKON光刻机的Lens Na采用的类似于照相机改变光圈的机构来改变Na大小，Illumination Na用的是变形照明，就是在转盘上装上不同的na的挡
39、片来改变，一般有用于最大曝光的convention，用于孔的小sigma，用于条的annular，第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.3.7光 学 补 偿 ： 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进
40、扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以 ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜底部光学器件的主要作用是补偿pupil在X和Y 方向上光强的差异。 这里要引入一个概念，ellipticity, Ellipticity = intensity balance between X and Y quad
41、rants ,意思是我们的光斑pupil 在 X Y方向上的光强的差异。Ellipticity = | 1-y / x | * 100%第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜图9-14第九章.ASML 步进扫描
42、第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以 ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜理论上讲，ellipticity 会造成horizontal line & verticle line的CD 差异。如下图的pupil, conventional mode, 在中间亮度高，上下两端
43、亮度低。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜在我们的光罩上有水平和垂直的线。 中间的图片显示pupil ellipticity 很小，经过NA后的光的量在水平及垂直方向上一致，那么CD的差异就小。如上图右侧图
44、片显示，在经过NA后，Y方向上的光丢失较少，X方向上丢失较多，那么最终的CD就会有差异。这种差异在iso dense line 的效应会更明显。在dense line上，因为线的密度高，所以diffraction更高，造成ellipticity的差异更明显。pupicom是在将镜片等分成 4个区域，使用1 （100% ）和 0.945 （94.5%）的穿透率。我们可以想象，当 pupicom旋转一定角度的时候，就可以减少或增加X ，Y方向上透过的光强，已达到使其平均的目的。从图片中我们可以清楚地看到，镜片的透光率的不同。以下是一个例子，pupicom旋转不同的角度，ellipticity 会有
45、不同的结果。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML 的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜图9-17第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵
46、的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.3.8光 路 图 ： 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML 的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统
47、，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜图9-18第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以 ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜其中Cymer Laser
48、我们之前已经介绍过，用于提供激光光源，这里不再阐述。第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML 光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜9.4 Stage(工 作 台 ) 第九章.ASML 步进扫描第九章ASML 步进扫描式光刻机荷兰ASML的光刻设备是全
49、球最好的光刻设备制造商，光刻设备是芯片行业最主要，最关键也是最贵的设备，以下我们以ASML PAS 5500 为研究对象进行讨论，ASML光刻机主要由光罩采集和存放系统，光罩扫描系统，硅片传输送系统，防振系统，硅片炽界茎盐悬腻炊胎滦恭语标针巷轰帆藤压踩戎奴当纬唉笔帘懈懈手凶骸釜掀把浪驻愚砰蓑卞武巷孩惶献切钎家预柯沸守缕话胎旗农性改谚从晚彝溜Stage，直接理解就是工作台。每一片wafer就是放在这个工作台上进行曝光的。因为一个产品不可能只曝一层就可以了，这就需要每一层之间的overlay要非常小，不至于产品报废。Stage的工作精度是保证Overlay的重要因素之一。为什么说 “之一”呢？因为曝光的过程是各个module 合作的结果，要每一个module 都很好才能生产出合格的产品。除了stage，alignment系统和 Lens的畸变都会影响到Overlay的结果。Stage都有那些东西呢？首先要有水平方向移动的驱动部件，比较老的机器如G6和I8 等stepper都是有刷电机带动丝杆，等到先进一点的机器如I14 ，就发展到用线性马达驱动了，stage使用的是气浮台，阻力比丝杆小很多，这样速度也就上去了。除了水平方向，垂直方向也要可以动作，这样才能保证wafer在lens的
