1、标准清洗流程1标准硅片清洗流程:(1)丙酮溶液超声 35 分钟,无水乙醇超声 35 分钟,前后反复两遍,后用热、冷去离子水冲洗;(2)用 HF 溶液(HF:H 2O)泡 30 秒,冲去离子水 15 分钟;(3)用 I 号洗液(NH 4OH:H202:H20),先把去离子水加热至 85C,倒入 NH4OH 和H202,放入晶片,在烧杯中煮 15 分钟,后用去离子水冲 67 遍;(4)用稀释 HF 溶液(HF:H 2O)泡 30 秒,冲热去离子水 15 分钟;(5)用 II 号洗液(HCl:H 202:H20),先把去离子水加热至 85C,倒入 HCl 和H202,放入晶片,在烧杯中煮 15 分钟
2、,后冲热去离子水 15 分钟,冲冷去离子水 5 分钟;(6)吹干后,烘干备用。2标准玻璃片清洗流程:(1)用有机混合溶液(丙酮:无水乙醇)浸泡抛光片,浸泡时间 6 小时以上;(2)抛光片在此有机混合溶液中超声 10 分钟;(3)丙酮溶液超声 10 分钟,无水乙醇超声 10 分钟,后用热、冷去离子水冲洗;(4)吹干后烘干;(5)浸泡在混合溶液(K 2CrO7:H2SO4:H2O)16 小时以上,后冲热去离子水 15 分钟,冲冷去离子水 5 分钟;(6)吹干后,烘干备用。3标准石英片清洗流程:(1)用有机混合溶液(丙酮:无水乙醇)浸泡抛光片,浸泡时间 6 小时以上;(2)抛光片在此有机混合溶液中超
3、声 10 分钟;(3)丙酮溶液超声 10 分钟,无水乙醇超声 10 分钟,后用热、冷去离子水冲洗;(4)吹干后烘干;(5)浸泡在混合溶液(K 2CrO7:H2SO4:H2O)16 小时以上,后冲热去离子水 15 分钟,冲冷去离子水 5 分钟;(6)吹干后,烘干备用。4氧化进炉前硅片的清洗:(1)丙酮溶液超声 35 分钟,无水乙醇超声超声 35 分钟,前后反复两遍,后用热、冷去离子水冲洗;(2)用 III 号洗液(H 2SO4:H 202),先加入 H202,后缓慢倒入浓 H2SO4,反应温度在 120C 左右,在烧杯中煮 20 分钟,后用去离子水冲 67 遍;(3)用稀释 HF 溶液(HF:H
4、 2O)泡 30 秒,冲热去离子水 15 分钟; (4)用 II 号洗液(HCl:H 202:H20),先把去离子水加热至 85C,然后倒入 HCL和 H202,放入晶片,在烧杯中煮 15 分钟,后冲热去离子水 15 分钟,冲冷去离子水 5 分钟;(5)吹干后,烘干备用。5硅片键合前清洗:(1)用 I 号洗液(NH 4OH:H202:H20),先把去离子水加热至 85C,倒入 NH4OH 和H202,放入晶片,在烧杯中煮 15 分钟,后用去离子水冲 67 遍;(2)用 II 号洗液(HCl:H 202:H20),先把去离子水加热至 85C,然后倒入 HCL和 H202,放入晶片,在烧杯中煮 15 分钟,后冲热去离子水 15 分钟,冲冷去离子水 5 分钟;(3)用 III 号洗液(H 2SO4:H 202), 先加入 H202,后缓慢倒入浓 H2SO4,反应温度在120C 左右,在烧杯中煮 20 分钟,后冲热去离子水 15 分钟,冲冷去离子水 5分钟;(4)吹干后,烘干备用。6.玻璃器皿清洗:(1)丙酮溶液超声 10 分钟,无水乙醇超声 10 分钟,前后反复两遍,后用热、冷去离子水冲洗;(2)浸泡在混合溶液(K 2CrO7:H2SO4:H2O)16 小时以上,后冲热去离子水 15 分钟,冲冷去离子水 5 分钟;(3)吹干后,烘干备用。