1、标准清洗流程1标准硅片清洗流程：（1）丙酮溶液超声 35 分钟，无水乙醇超声 35 分钟，前后反复两遍，后用热、冷去离子水冲洗；（2）用 HF 溶液（HF:H 2O）泡 30 秒，冲去离子水 15 分钟；（3）用 I 号洗液(NH 4OH:H202:H20),先把去离子水加热至 85C，倒入 NH4OH 和H202，放入晶片，在烧杯中煮 15 分钟，后用去离子水冲 67 遍；（4）用稀释 HF 溶液（HF:H 2O）泡 30 秒，冲热去离子水 15 分钟；（5）用 II 号洗液(HCl:H 202:H20),先把去离子水加热至 85C，倒入 HCl 和H202，放入晶片，在烧杯中煮 15 分钟
2、，后冲热去离子水 15 分钟，冲冷去离子水 5 分钟；（6）吹干后，烘干备用。2标准玻璃片清洗流程：（1）用有机混合溶液（丙酮：无水乙醇）浸泡抛光片，浸泡时间 6 小时以上；（2）抛光片在此有机混合溶液中超声 10 分钟；（3）丙酮溶液超声 10 分钟，无水乙醇超声 10 分钟，后用热、冷去离子水冲洗；（4）吹干后烘干；（5）浸泡在混合溶液(K 2CrO7:H2SO4:H2O)16 小时以上，后冲热去离子水 15 分钟，冲冷去离子水 5 分钟；（6）吹干后，烘干备用。3标准石英片清洗流程：（1）用有机混合溶液（丙酮：无水乙醇）浸泡抛光片，浸泡时间 6 小时以上；（2）抛光片在此有机混合溶液中超
3、声 10 分钟；（3）丙酮溶液超声 10 分钟，无水乙醇超声 10 分钟，后用热、冷去离子水冲洗；（4）吹干后烘干；（5）浸泡在混合溶液(K 2CrO7:H2SO4:H2O)16 小时以上，后冲热去离子水 15 分钟，冲冷去离子水 5 分钟；（6）吹干后，烘干备用。4氧化进炉前硅片的清洗：（1）丙酮溶液超声 35 分钟，无水乙醇超声超声 35 分钟，前后反复两遍，后用热、冷去离子水冲洗；（2）用 III 号洗液(H 2SO4：H 202),先加入 H202，后缓慢倒入浓 H2SO4，反应温度在 120C 左右，在烧杯中煮 20 分钟，后用去离子水冲 67 遍；（3）用稀释 HF 溶液（HF:H
4、 2O）泡 30 秒，冲热去离子水 15 分钟； （4）用 II 号洗液(HCl:H 202:H20),先把去离子水加热至 85C，然后倒入 HCL和 H202，放入晶片，在烧杯中煮 15 分钟，后冲热去离子水 15 分钟，冲冷去离子水 5 分钟；（5）吹干后，烘干备用。5硅片键合前清洗：（1）用 I 号洗液(NH 4OH:H202:H20),先把去离子水加热至 85C，倒入 NH4OH 和H202，放入晶片，在烧杯中煮 15 分钟，后用去离子水冲 67 遍；（2）用 II 号洗液(HCl:H 202:H20),先把去离子水加热至 85C，然后倒入 HCL和 H202，放入晶片，在烧杯中煮 15 分钟，后冲热去离子水 15 分钟，冲冷去离子水 5 分钟；（3）用 III 号洗液(H 2SO4：H 202), 先加入 H202，后缓慢倒入浓 H2SO4，反应温度在120C 左右，在烧杯中煮 20 分钟，后冲热去离子水 15 分钟，冲冷去离子水 5分钟；（4）吹干后，烘干备用。6.玻璃器皿清洗：（1）丙酮溶液超声 10 分钟，无水乙醇超声 10 分钟，前后反复两遍，后用热、冷去离子水冲洗；（2）浸泡在混合溶液(K 2CrO7:H2SO4:H2O)16 小时以上，后冲热去离子水 15 分钟，冲冷去离子水 5 分钟；（3）吹干后，烘干备用。
