1、1,一.问题描述,线路板线路局部脱落，脱落的线路与基材基本没有粘接力，观察脱落线路铜箔毛面，线路边缘均出现氧化现象，见下图：,2,二.分析过程,1.肉眼观察脱落的线路及焊盘，铜箔毛面大部分都成棕黑色，铜箔已经发生氧化反应。 2.用SEM观察脱落线路铜箔毛面，铜瘤表面完整，具体见以下的SEM图,元素分析无异常。,3,脱落线路铜箔毛面一,4,脱落线路铜箔毛面二,5,铜箔毛面元素分析表一,谱图处理 : 类型： 默认值 可能被忽略的峰 : 2.139, 9.718 keV 处理选项 : 所有经过分析的元素 (已归一化) 重复次数 = 3 标准样品 : C C 1-Jul-2008 02:16 PM O
2、 SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM Cl KCl 1-Jun-1999 12:00 AM Cu Cu 1-Jun-1999 12:00 AM 元素 重量 原子 百分比 百分比 C K 23.09 59.35 O K 2.17 4.19 Cl K 0.35 0.30 Cu K 74.40 36.15 总量100.00,6,铜箔毛面元素分析二,谱图处理 : 类型： 默认值 可能被忽略的峰 : 2.150, 9.720 keV 处理选项 : 所有经过分析的元素 (已归一化) 重复次数 = 3 标准样品 : C C 1-Jul-2008 02:16 PM O SiO2 1-Jun-19
3、99 12:00 AM Cu Cu 1-Jun-1999 12:00 AM 元素 重量 原子 百分比 百分比 C K 5.17 21.93 O K 0.86 2.75 Cu K 93.97 75.32 总量100.00,7,基材面SEM一,8,基材面SEM二,9,基材面元素一,谱图处理 : 类型： 默认值 可能被忽略的峰 : 9.712, 11.500 keV 处理选项 : 所有经过分析的元素 (已归一化) 重复次数 = 6 标准样品 : C C 1-Jul-2008 02:16 PM O SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM Na Albite 1-Jun-1999 12:00
4、AM Al Al2O3 1-Jun-1999 12:00 AM Si SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM P GaP 1-Jun-1999 12:00 AM Cl KCl 1-Jun-1999 12:00 AM K MAD-10 Feldspar 1-Jun-1999 12:00 AM Ca Wollastonite 1-Jun-1999 12:00 AM Fe FeS2C 1-Jul-2008 11:06 AM 元素 重量 原子 百分比 百分比 C K 47.65 61.81 O K 31.89 31.05 Na K 0.69 0.47 Al K 1.89 1.09 Si K
5、0.82 0.46 P K 0.28 0.14 Cl K 0.92 0.40 K K 0.86 0.34 Ca K 0.53 0.21 Fe K 14.47 4.04,10,基材面元素二,谱图处理 : 类型： 默认值 可能被忽略的峰 : 7.580, 9.700 keV 处理选项 : 所有经过分析的元素 (已归一化) 重复次数 = 5 标准样品 : C C 1-Jul-2008 02:16 PM O SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM Al Al2O3 1-Jun-1999 12:00 AM Si SiO2 1-Jun-1999 12:00 AM P GaP 1-Jun-1999
6、 12:00 AM Ca Wollastonite 1-Jun-1999 12:00 AM 元素 重量 原子 百分比 百分比 C K 72.62 79.90 O K 20.86 17.23 Al K 1.44 0.70 Si K 2.60 1.22 P K 1.21 0.51 Ca K 1.28 0.42 总量100.00,11,SEM图说明： 1.铜箔毛面无粘附树脂； 2.铜箔毛面元素分析无异常； 3.基材面元素分析有较多的铁元素； 4.基材表面有铜瘤压过的凹坑；,12,三、切片分析图片,切片图说明：,铜箔与PP分层处，PP层有10-14UM深度的铜瘤压过的凹痕；,13,14,四.分析结论,以上的检测结果证明： 1.铜箔元素分析无异常！脱落的基材面分析到异常元素铁！ 2.铜箔铜瘤及粗化层与PP间有压合后的凹坑，但铜箔毛面无粘附树脂。,
