1、无锡松煜科技有限公司2017.8.30技术指标成膜种类： Al2O3设备温度： 250成膜厚度： 5-10nm可控产能： 6000-7200片 /h气路系统气密性： 1 10-7pa.m3/s成膜均匀性： 3%真空度： 10Pa生长速率： 0.012nm/s保养周期： 6个月保养一次Uptime： 98%以上TMA耗量： 10g/h氮气需求： 优于 99.9999%技术特点： 支持多种制程， perc，双面电池。 设备占地空间小； 维修方便； 保养周期长，长达半年； 设备成膜质量好，致密切均匀度良好，在 2-10nm都可满足均匀性的需求，也可以做的更厚，根据需求进行工艺调整，调整方便，只需更改
2、时间即可； 设备产能高，一台设备可完成 200MW的产能； 设备稳定性高，尽可能的减少了运动部件，使设备的运行更加稳定可靠； 设备对于干泵采取了必要措施的保护，使泵的维护周期更长。PERC电池工艺路线工艺原理工艺为 85个循环 10nm，可根据要求成膜的厚度进行控制，控制的模式为控制循环数量。设备简介设备简介设备自动化：设备占地面积小，产能高，性价比高！设备外形尺寸：气路原理TMA用量少，主要依靠饱和蒸汽压进行气体输送，降低了设备 TMA源量的消耗！自动化夹具：装卸片的设计充分考虑表面摩擦损伤！维护保养设备维护简单，半年维护一次！ Coo大幅降低， uptime大幅上升！设备成膜均匀：设备气流方向原理 ,良好的气流设计是成膜的关键，我公司生产的ALD设备膜厚可做到 2nm以下依然保持良好的均匀性， 5nm以上均匀性可达到 3%以内；同时对源的量的用量得到了有效的控制，基本可控制在 10g/h以内，设备的 COO得到有效控制！推拉舟工艺过程中硅片与舟都不会运动，所以设备更加稳定可靠，故障率低，配合超长时间的保养周期，使设备的利用率达到98%!真空系统图：谢谢大家！
