1、一、名词解释1. 辐射的发射：指物质吸收能量后产生电磁辐射的现象。 2. 俄歇电子：X 射线或电子束激发固体中原子内层电子使原子电离，此时原子(实际 是离子)处于激发态，将发生较外层电子向空位跃迁以降低原子能量的过程，此过程发射的电子。 3、背散射电子：入射电子被样品原子散射回来的部分；它包括弹性散射和非弹性散射部分；背散射电子的作用深度大，产额大小取决于样品原子种类和样品形状。4. 溅射：入射离子轰击固体时，当表面原子获得足够的动量和能量背离表面运动时， 就引起表面粒子（原子、离子、原子团等）的发射，这种现象称为溅射。5. 物相鉴定：指确定材料（样品）由哪些相组成。6. 电子透镜：能使电子束
2、聚焦的装置。 7. 质厚衬度：样品上的不同微区无论是质量还是厚度的差别，均可引起相应区域透 射电子强度的改变，从而在图像上形成亮暗不同的 区域，这一现象称为质厚衬度。8. 蓝移：当有机化合物的结构发生变化时，其吸收带的最大吸收峰波长或位置（最大）向短波方向移动，这种现象称为蓝移（或紫移，或“向蓝” ） 。 9. 伸缩振动：键长变化而键角不变的振动，可分为对称伸缩振动和反对称伸缩振动。10. 差热分析：指在程序控制温度条件下，测量样品与参比物的温度差随温度或时间变化的函数关系的技术。11、球差：即球面像差，是由于电磁透镜的中心区域和边缘区域对电子的折射能力不同造成的。轴上物点发出的光束，经电子光
3、学系统以后，与光轴成不同角度的光线交光轴于不同位置，因此，在像面上形成一个圆形弥散斑，这就是球差。12、明场像：用另外的装置来移动物镜光阑，使得只有未散射的透射电子束通过他，其他衍射的电子束被光阑挡掉，由此得到的图像13、暗场像：或是只有衍射电子束通过物镜光阑，投射电子束被光阑挡掉，由此得到的图像14、X 射线的强度：是指行垂直 X 射线传播方向的单位面积上在单位时间内所通过的光子数目的能量总和。常用的单位是 J/cm2.s。 15、衍射衬度：主要是由于晶体试样满足布拉格条件程度差异以及结构振幅不同而形成电子图像反差。 16、热重法 ：在程序控制温度条件下，测量物质的质量与温度关系的一种热分析
4、方法。17、结构因子 ：是指一个单胞对 X 射线的散射强度，由于衍射强度正比于结构因子模的平方，消光即相当于衍射线没有强度，因此可通过结构因子是否为 0 来研究消光规律 18. 弯曲振动：键长不变而键角变化的振动，可分为面内变弯曲振动和面外弯曲振动等。 19. 二次离子：固体表面原子以离子态发射叫做二次离子。 20. 系统消光：因F2 =0 而使衍射线消失的现象称为系统消光。 21. 复型 ：就是将样品表面形貌复制下来的薄膜复制品。 22. 物相分析：指确定材料由哪些相组成(即物相定性分析或称物相鉴定)和确定各组 成相的含量( 常以体积分数或质量分数表示，即物相定量分析)。 23. 特征振动频
5、率：某一键或基团的振动频率有其特定值，它虽然受周围环境的影响， 但不随分子构型作过大的改变，这一频率称为某一键或基团的特征振动频率。24. 差示扫描量热法：指在程序控制温度条件下，测量物质（样品）与参比物之间的 功率差随温度或时间变化的函数关系的技术。25.X 射线光电效应： 当 X 射线的波长足够短时，起光子的能量就很大，以至能把原子中处于某一能级上的电子打出来，而它本身则被吸收。它的能量就传递给该电子了，使之成为具有一定能量的光电子，并使原子处于高能的激发态。这种过程我们称之为光电吸收或光电效应26.衍射角 ：入射线与衍射线的交角。 27. 磁透镜：产生旋转对称磁场的线圈装置称为磁透镜。
6、28、像散：由透镜磁场的非旋转对称引起的像差。29、色差：由于电子的波长或能量非单一性所引起的像差，它与多色光相似，所以叫做色差。30、吸收电子：入射电子进入样品后，经多次非弹性散射，能量损失殆尽（假定样品有足够厚度，没有透射电子产生） ，最后被样品吸收。吸收电流像可以反映原子序数衬度，同样也可以用来进行定性的微区成分分析。31、特征 X 射线：原子的内层电子受到激发以后，在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和波长的一种电磁波辐射。利用特征 X射线可以进行成分分析。32、二次电子：二次电子是指被入射电子轰击出来的核外电子。二次电子来自表面 50-100 的区域，能量为 0-50 eV。它对试
7、样表面状态非常敏感，能有效地显示试样表面的微观形貌。33、分辨率：是指成像物体上能分辨出的两个物点的最小距离34、景深：是指当成像时，像平面不动，在满足成像清晰的前提下，物平面沿轴线前后可移动的距离 35、焦长：焦长是指物点固定不变（物距不变） ，在保持成像清晰的条件下，像平面沿透镜轴线可移动的距离。36、像差：由于透镜几何形状和电磁波波长变化对电磁透镜聚焦能力不一样造成的图像差异37、等厚干涉条纹：在电镜下我们会看到整个楔形晶体是亮暗相间的条纹，这些条纹很像地图上的等高线，每一条纹对应晶体的相等厚度区域所以叫等厚干涉条纹38、弯曲消光条纹：当样品厚度一定时，衍射束强度随样品内反射面相对布拉格
8、位置偏移矢量 S 变化而呈周期摆动，相应的投射束强度按相反周期摆动，摆动周期为 1T，因而在电镜内显示出相应的条纹。39、衬度：像平面上各像点强度的差别40、双束近似：假定电子束透过晶体试样成像时，除投射束外只存在一束较强的衍射束，而其他衍射束则大大偏离布拉格条件，他们的强度都可以视为零41、消光距离：表示在精确符合布拉格条件时透射波与衍射波之间能量交换或强度振荡的深度周期。42、射线：波长很短的电磁波特征射线：是具有特定波长的 X射线，也称单色 X 射线。43、连续射线：是具有连续变化波长的 X 射线，也称多色 X 射线。44、荧光射线：当入射的 X 射线光量子的能量足够大时，可以将原子内层
9、电子击出，被打掉了内层的受激原子将发生外层电子向内层跃迁的过程，同时辐射出波长严格一定的特征 X 射线45、二次特征辐射：利用 X 射线激发作用而产生的新的特征谱线46、Ka 辐射 ：电子由 L 层向 K 层跃迁辐射出的 K 系特征谱线47、相干散射：X 射线通过物质时在入射电场的作用下，物质原子中的电子将被迫围绕其平衡位置振动，同时向四周辐射出与入射 X射线波长相同的散射 X 射线，称之为经典散射。由于散射波与入射波的频率或波长相同，位相差恒定，在同一方向上各散射波符合相干条件，称为相干散射48、非相干辐射：散射位相与入射波位相之间不存在固定关系，故这种散射是不相干的49、原子散射因子：为评
10、价原子散射本领引入系数 f (fE)，称系数f 为原子散射因子。他是考虑了各个电子散射波的位相差之后原子中所有电子散射波合成的结果50、结构因子：定量表征原子排布以及原子种类对衍射强度影响规律的参数，即晶体结构对衍射强度的影响51、多重性因素：同一晶面族 hkl中的等同晶面数52、系统消光：原子在晶体中位置不同或种类不同引起某些方向上衍射线消失的现象。53、短波限：在各种管压下的 X 射线连续谱都存在一个最短的波长值 ，称为短波限。吸收限：把一特定壳层的电子击出所需要的入0射光最长波长。54、标准零层倒易面 ：零层倒易面中，去掉结构消光条件倒易点的倒易面。55、相机常数： L 被称为相机常数，
11、它是一个协调正、倒空间的比例常数。56、多重性因子：等同晶面个数对衍射强度的影响因子叫多重性因子，用 P 表示。57、晶带：在晶体中，平行于某一晶向的所有晶面统称为一个晶带，这个晶向为晶带轴。58、干涉面：为简化布拉格方程引入的实际存在或不存在的假想（虚拟）晶面 。59、光电效应：以光子激发原子所产生的激发和辐射过程称为光电效应。60、X 射线谱： x 射线管发出的 x 射线束的波长和强度的关系曲线。61、俄歇效应：如果原子在入射的 x 射线光子的作用下， K 层电子被击出，L 层电子向 K 层跃迁，其能量差不是以产生 K 系 X 射线光量子的形式释放，而是被邻近电子所吸收，使这个电子受激发而
12、逸出原子成为自由电子-俄歇电子(Auger electrons)。这种现象叫做俄歇效应。62、连续谱：具有连续波长的 X 射线，构成连续 X 射线谱，它和可见光相似，亦称多色 X 射线。 （或答：管压很低时，X 射线谱的曲线是连续变化的，称连续谱。 ）63、结构因数 F2：反映了晶胞内原子种类、原子个数、原子位置对（hkl）晶面衍射方向上衍射强度的影响。64、等同晶面：晶面间距相同 ,晶面上原子排列规律相同的晶面 .65、晶面：在空间点阵中可以作出相互平行且间距相等的一组平面，使所有的节点均位于这组平面上，各平面的节点分布情况完全相同，这样的节点平面成为晶面。66、晶面间距：两个相邻的平行晶面
13、的垂直距离。67、结构因子：定量表征原子排布以及原子种类对衍射强度影响规律的参数，即晶体结构对衍射强度的影响因子。68、布拉格方程 2d 表示面间距为 d 的（hkl ）晶面上产生了sin=nn 级衍射， n 就是反射级数 。 nSid2： Si69、干涉指数：当把布拉格方程写成 时，这是面间距为 1/n 的实际上存在或不存在的假想晶面的一级反射，若把这个晶面叫作干涉面，其间的指数就叫作干涉指数70、衍射矢量：当束 X 射线被晶面 P 反射时，假定 N 为晶面 P 的法线方向，入射线方向用单位矢量 S0 表示，衍射线方向用单位矢量 S表示，则 S-S0 为衍射矢量。71、倒易矢量：从倒易点阵原
14、点向任一倒易阵点所连接的矢量叫倒易矢量，表示为： r* = Ha* + Kb* + L c*二、填空1. X 射线管中，焦点形状可分为 点焦点 和 线焦点 ，适合于衍射仪工作的是 线焦点 。2. X 射线衍射方法有 劳厄法 、 转动晶体法 、 粉晶法 和 衍射仪法 。3. TEM 的分辨率是 0.1040.25 nm，放大倍数是 10080 万倍；SEM 的分辨率是 36 nm，放大倍数是 1530 万 倍。 4. 解释扫描电子显微像镜的衬度有 形貌衬度、原子序数衬度 和 电压衬度 三种衬度。 6. 光电子能谱是在近十多年才发展起来的一种研究物质表面的 性质和状态的新型物理方法。 7. 电磁波
15、谱可分为三个部分，即长波部分、 中间部分和短波部分，其中中间部分包括（ 紫外线 ） 、 （ 可见光 ）和（红外线 ） ，统称为光学光谱。 Sind28. 光谱分析方法是基于电磁辐射与材料相互作用产生的特征光谱波长与强度进行材料分析的方法。光谱按强度对波长的分布（曲线）特点（或按胶片记录的光谱表观形态）可分为（ 连续）光谱、 （ 带状）光谱和（线状）光谱 3 类。 9. 分子散射是入射线与线度即尺寸大小远小于其波长的分子或分子聚集体相互作用而产生的散射。分子散射包括（ 瑞利散射 ）与（ 拉曼散射 ）两种。10. X 射线照射固体物质(样品)，可能发生的相互作用主要有（ 弹性散射 ） 、 （ 非弹
16、性散射 ） （ 光电子 ）和（ 俄歇电子、荧光 X 射线、吸收、透射 ）等。 11. 多晶体（粉晶）X 射线衍射分析的基本方法为（ 照相法 ）和（ X 射线衍射仪法 ） 。12. 依据入射电子的能量大小，电子衍射可分为（ 高能 ）电子衍射和（ 低能 ）电子衍射。依据电子束是否穿透样品，电子衍射可分为（ 透射式 ）电子衍射与（ 反射式 ）电子衍射。13. 衍射产生的充分必要条件是 (衍射矢量方程或其它等效形式)加F20。 ） 。 14. 透射电镜的样品可分为（ 直接 ）样品和（ 间接 ）样品。15. 单晶电子衍射花样标定的主要方法有（ 尝试核算法 ）和（ 标准花样对照法 ） 。 16. 扫描隧道
17、显微镜、透射电镜、X 射线光电子能谱、差热分析、扫描电镜的英文字母缩写分别是（ STM ） 、 （TEM ） 、 （ XPS ） 、（DTA ） （SEM） 。 XRD 是 X 射线衍射分析，EPMA 是电子探针分析。17. 透射电镜主要由电子光学系统、电源与控制系统、真空系统 三大部分组成。电子光学系统通常称为镜筒，是其核心，主要由照明系统、成像系统 、观察系统 三大部分组成。 成像系统由物镜、中间镜和投影镜组成。18. 利用电子束与样品作用产生的特征 X 射线来分析样品的微区成分，有能谱仪、电子探针 二种方法。 19. 透射电镜的复型技术主要有一级复型法、二级复型法、萃取复型法三类。 20
18、. 在光谱法中，测量的信号是物质内部能级跃迁所产生的发射、吸收或散射光谱的特征波长和强度 。 21. 根据光谱的波长是否连续，可将光谱分为三种类型，即线状光谱、带状光谱和连续光谱。 22. 根据衍衬成像原理，透射电镜可进行二种衍衬成像操作，分别得到 明场像和 暗场像。 23. 电子探针分析主要有三种工作方式，分别是 点 分析、线 分析和面 分析。24. 高能电子束照射在固体样品表面时激发的信号主要有背散射电子 、二次电子 、吸收电子 、透射电子 等。 （至少答四种信号） 25. X 射线管主要由 阳极 、 阴极 、和 窗口 构成。 26. X 射线透过物质时产生的物理效应有： 散射 、 光电效
19、应 、 透射X 射线 、和 热 。 27. 德拜照相法中的底片安装方法有： 正装 、 反装 和 偏装 三种。28. X 射线物相分析方法分： 定性 分析和 定量 分析两种；测钢中残余奥氏体的直接比较法就属于其中的 定量 分析方法。 29. 透射电子显微镜的分辨率主要受 衍射效应 和 像差 两因素影响。30. 今天复型技术主要应用于 萃取复型 来揭取第二相微小颗粒进行分析。 31. 电子探针包括 波谱仪 和 能谱仪 成分分析仪器。 32. 扫描电子显微镜常用的信号是 二次电子 和 背散射电子。33、X 射线物相定量分析方法有 外标法 、内标法 、直接比较法 等。34、电磁透镜的像差包括 球差 、
20、 像散 和 色差 。35、透射电子显微镜的分辨率主要受 衍射效应 和 球面像差 两因素影响。36、材料的性能由其内部的微观组织结构决定37、.X 射线的本质是 电磁波（电磁辐射） ，与所有的基本粒子一样，X 射线具有 波粒 二象性。波长较长的 X 射线，能量 较低，穿透性弱，称为软 X 射线，可用于非金属的分析。X 射线的频率 、波长 以及其光子的能量 、动量 p 之间存在如下关系： =h =h c=h38、K 系特征谱线包含 K 和 K 两种类型谱线，其中波长 K 大于 K ，能量 EK 小于 EK,强度 IK 大于 IK (填大于，小于或等于)39、当 X 射线照射物质时，其强度随透入深度
21、呈 指数 衰减。40、一束 X 射线通过物质时，它的能量会分为三部分： 被散射，被吸收，通过物质继续传播。41、非相干散射会增加连续背底，给衍射图象带来不利的影响42、只有当入射 x 射线的波长 小于 k 时才能产生荧光辐射。43、产生衍射必须满足布拉格方程；在满足布拉格方程的方向并不一定都有衍射线发生。44、用单色 x 射线照射多晶体粉末试样，衍射线分布在一组以入射线 为轴的圆锥面上。在 45、垂直于入射线的平底片上，得到一组 同心圆 。一般用以试样为轴的圆筒底片来记录，可看到一系列的对称弧线。46、获得衍射花样的基本方法有劳埃法、周转晶体法 、粉末 法。47、结构振幅是以单个 电子 散射能
22、力为单位的、反映一个 晶胞 散射能力的参量，是单位晶胞中所有原子散射波叠加的波。48、影响多晶体衍射强度的因数有多重性因子 、吸收因子、结构因数、温度因子、角因子。49、X 射线衍射仪的主要组成部分有 X 射线发生器、测角仪、探测器、记录单元和自动控制单元。50、透射电子显微镜中用磁场来使电子波聚焦成像的装置就是电磁透镜，它由 线圈 、 铁壳 、 极靴 、三部分组成。51、为使景深和焦长明显增大，在电镜中插入一个直径较小 的光阑。孔径半角越 小 ,景深越大53、透射电镜是以波长极短的电子束作为照明源 ，用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨率、高放大倍数的电子光学仪器。电子枪是透射电镜的电子源。电子束
23、斑直径为几十微米。常用的是热阴极三极电子枪。由发夹形钨丝阴极、栅极帽和阳极组成。54、在透射电镜的成像系统中，物镜是一个强激磁、短焦距透镜，像差小，它决定了电镜的分辨率。作用是形成电镜的第一幅高分辨率电子显微图像或电子衍射花样。56、质厚衬度是建立在非晶体样品中原子对入射电子的散射 和 透射电镜小孔径角成像基础上的成像原理。57、复型成像是根据复型膜的质厚衬度成像，而晶体薄膜成像是根据衍射衬度成像。让透射束通过物镜光阑，而把衍射束挡住得到图象衬度的方法叫明场成像。58、倒移矢量 g 的大小 晶粒间距倒数和方向 垂直晶粒 。hkl59、若倒易阵点 G 落在厄瓦尔德球面上，则可能发生衍射。60、相
24、机常数 是一个协调正、倒空间的比例常数L61、明场像看到的是透射束 成像。暗场像看到的是 衍射束成像。62、背散射电子来自样品表层几百纳米的深度范围，且随样品 原子序数 增大而增多，既可用作形貌分 析，也可用来显示原子序数衬度，定性地作成分分析。二次电子在表层 5-10nm 深度发射出来，能非常有效地显示样品的表面形貌。特征 X 射线可用来判定微区中存在的元素 。63、SEM 的构造包括电子光学系统、信号收集处理 、图象显示和记录系统、真空系统。64、在入射电子束作用下被轰击出来并离开样品表面的样品的核外电子被称为二次电子。它在表层 5-10nm 深度发射出来，能非常有效地显示样品的表面形貌。
25、65、在透射电镜中主要有三种光阑：聚光镜光阑、物镜光阑、选区光阑。66、粉末法可分为照相法 和衍射法。在粉末多晶衍射的照相法中包括 德拜-谢乐法 、 聚焦照相法 和 针孔法 。67、SEM 的构造包括电子光学系统、信号收集处理、图象显示和记录系统、真空系统。68、扫描电子显微镜的放大倍数是阴极射线电子束在荧光屏上的扫描宽度与电子枪电子束在样品表面的扫描宽度的比值。在衬度像上颗粒、凸起的棱角是 亮 衬度，而裂纹、凹坑则是 暗 衬度。70、分辨率最高的物理信号是 俄歇电子或二次电子 为 5 nm，分辨率最低的物理信号是 特征 X 射线 为 100 nm 以上。71、扫描电子显微镜可以替代 金相显微镜进行材料金相观察，也可以对 断口 进行分析观察。72 在透射电镜的成像系统中，物镜是一个强激磁、短焦距透镜，像差小，它决定了电镜的分辨率。作用是形成电镜的第一幅高分辨率电子显微图像或电子衍射花样。74、电子束斑大小、检测信号的类型以及检测部位的原子序数 是影响扫描电子显微镜分辨率的三大因素。 （入射电子激发电压）75、多晶体衍射的计数测量方法有连续扫描测量法 和阶梯扫描测量法两种。76、布拉格公式 2d 。sin=77、晶带定律 hu+kv+lw=0。78、通常将窗口安在与靶面成 3-6的方向上接受 X 射线。79 外标法同素异形体 ，内标法仅限于粉末试样 。
