收藏 分享(赏)

模拟CMOS集成电路设计_ch1_2.ppt

上传人:scg750829 文档编号:8204283 上传时间:2019-06-13 格式:PPT 页数:27 大小:776KB
下载 相关 举报
模拟CMOS集成电路设计_ch1_2.ppt_第1页
第1页 / 共27页
模拟CMOS集成电路设计_ch1_2.ppt_第2页
第2页 / 共27页
模拟CMOS集成电路设计_ch1_2.ppt_第3页
第3页 / 共27页
模拟CMOS集成电路设计_ch1_2.ppt_第4页
第4页 / 共27页
模拟CMOS集成电路设计_ch1_2.ppt_第5页
第5页 / 共27页
点击查看更多>>
资源描述

1、CMOS模拟集成电路设计,绪论、MOS器件物理基础,提纲,2019/6/13,2,提纲,1、绪论 2、MOS器件物理基础,绪论,2019/6/13,3,1、绪论,先修课程:模拟电路基础、器件模型、集成电路原理 教材:模拟CMOS集成电路设计,美毕查德.拉扎维 著,陈贵灿 程军 张瑞智 等译,西安交通大学出版社。 参考教材:CMOS模拟电路设计(第二版)(英文版),美 Phillip E. Allen, Douglas R. Holberg 著,电子工业出版社。,模拟集成电路的分析与设计,Paul R. Gray, Paul J. Hurst,Stephen H. Lewis,Robert G.

2、 Meyer著,高等教育出版社。,绪论,2019/6/13,4,研究模拟集成电路的重要性,研究CMOS模拟集成电路的重要性,Eggshell Analogy of Analog IC Design (Paul Gray),绪论,2019/6/13,5,chapter1绪论,chapter3单级放大器,chapter4差动放大器,chapter5电流源,chapter6频率特性,chapter7噪声,chapter8反馈,chapter9运算放大器,chapter10稳定性及频率补偿,chapter11带隙基准,chapter12开关电容电路,chapter2 MOS器件物理,chapter14

3、振荡器,PLL,AD/DA,Chapter13非线性与不匹配,simple,complex,MOS器件物理基础,2019/6/13,6,2、MOS器件物理基础,2.1 基本概念 2.1.1 MOSFET的结构栅(G: gate)、源(S: source)、漏(D: drain)、衬底(B: bulk),(以n型为例),MOS器件物理基础,2019/6/13,7,MOSFET是一个四端器件,N阱,CMOS技术,MOS器件物理基础,2019/6/13,8,2.1.2 MOS符号,MOS器件物理基础,2019/6/13,9,2.2 MOS的I/V特性 2.2.1 阈值电压(以N型FET为例)耗尽(b

4、);反型开始(c);反型(d),MOS器件物理基础,2019/6/13,10,MS是多晶硅栅和硅衬底的功函数之差;q是电子电荷,Nsub是衬底掺杂浓度,Qdep是耗尽区电荷,Cox是单位面积的栅氧化层电容;si表示硅介电常数。,阈值电压(VTH)定义NFET的VTH通常定义为界面的电子浓度等于P型衬底的多子浓度时的栅压。,MOS器件物理基础,2019/6/13,11,“本征”阈值电压 通过以上公式求得的阈值电压,通常成为“本征(native)”阈值电压,典型值为-0.1V. 在器件制造工艺中,通常通过向沟道区注入杂质来调整VTH 对于NMOS,通常调整到0.7V(依工艺不同而不同),MOS器件

5、物理基础,2019/6/13,12,2.2.2 MOS器件的I/V特性 NMOS,截止区(VGSVTH),三极管区(线性区)(VDSVGS-VTH),饱和区(VDSVGS-VTH),MOS器件物理基础,2019/6/13,13,PMOS截止区 三极管区(线性区)饱和区,ID参考电流方向,MOS器件物理基础,2019/6/13,14,2.3 二级效应 2.3.1体效应 对于NMOS,当VBVS时,随VB下降,在没反型前,耗尽区的电荷Qd增加,造成VTH增加,也称为“背栅效应”,其中,为体效应系数,MOS器件物理基础,2019/6/13,15,2.3.2 沟道长度调制效应 当沟道夹断后,当VDS增

6、大时,沟道长度逐渐减小,即有效沟道长度L是VDS的函数。 定义L=L-L, L/L=VDS为沟道长度调制系数。,MOS器件物理基础,2019/6/13,16,2.3.3亚阈值导电性 当VGSVTH时和略小于VTH ,“弱”反型层依然存在,与VGS呈现指数关系。当VDS大于200mV时,,这里1,VTkT/q,MOS器件物理基础,2019/6/13,17,2.3.4 电压限制 栅氧击穿过高的GS电压。“穿通”效应过高的DS电压,漏极周围的耗尽层变宽,会到达源区周围,产生很大的漏电流。,MOS器件物理基础,2019/6/13,18,2.4 MOS器件模型 2.4.1 MOS器件电容栅和沟道之间的氧

7、化层电容 衬底和沟道之间的耗尽层电容 多晶硅栅与源和漏交叠而产生的电容C3,C4,每单位宽度交叠电容用Cov表示 源/漏与衬底之间的结电容C5,C6,结电容,Cj0是在反向电压VR为0时的电容,B是结的内建电势,m=0.30.4,MOS器件物理基础,2019/6/13,19,器件关断时,CGD=CGS=CovW, CGB由氧化层电容和耗尽区电容串连得到深三极管区时,VDVS,饱和区时,,在三极管区和饱和区,CGB通常可以被忽略。,等效电容:,MOS器件物理基础,2019/6/13,20,2.4.2 MOS小信号模型,MOS SPICE模型,2019/6/13,21,MOS SPICE模型 在电

8、路模拟(simulation)中,SPICE要求每个器件都有一个精确的模型。 种类 1st 代:MOS1,MOS2,MOS3; 2nd代:BSIM,HSPICE level28,BSIM2 3rd代:BSIM3,MOS model9,EKV(Enz-Krummenacher-Vittoz) 目前工艺厂家最常提供的MOS SPICE模型为BSIM3v3 (UC Berkeley) BSIM web site: http:/www-device.eecs.berkeley.edu/bsim3仿真器: HSPICE;SPECTRE;PSPICE;ELDO WinSPICE;Spice OPUS,Fr

9、ee!,MOS SPICE模型,2019/6/13,22,基本的SPICE仿真,MOS SPICE模型,2019/6/13,23,例:采样spice模拟MOS管的输出特性,*Output Characteristics for NMOS M1 2 1 0 0 MNMOS w=5u l=1.0uVGS 1 0 1.0 VDS 2 0 5.op .dc vds 0 5 .2 Vgs 1 3 0.5 .plot dc -I(vds) .probe*model .MODEL MNMOS NMOS VTO=0.7 KP=110U +LAMBDA=0.04 GAMMA=0.4 PHI=0.7 .end,M

10、OS SPICE模型,2019/6/13,24,例:采样spice进行DC分析,* DC analysis for AMP M1 2 1 0 0 MOSN w=5u l=1.0u M2 2 3 4 4 MOSP w=5u l=1.0u M3 3 3 4 4 MOSP w=5u l=1.0u R1 3 0 100KVdd 4 0 DC 5.0 Vin 1 0 DC 5.0.op .dc vin 0 5 0.1 .plot dc V(2) .probe*model .MODEL MOSN NMOS VTO=0.7 KP=110U +LAMBDA=0.04 GAMMA=0.4 PHI=0.7.MOD

11、EL MOSP PMOS VTO=-0.7 KP=50U +LAMBDA=0.05 GAMMA=0.57 PHI=0.8 .end,MOS SPICE模型,2019/6/13,25,例:采样spice进行AC分析,* AC analysis for AMP M1 2 1 0 0 MOSN w=5u l=1.0u M2 2 3 4 4 MOSP w=5u l=1.0u M3 3 3 4 4 MOSP w=5u l=1.0u R1 3 0 100K CL 2 0 5pVdd 4 0 DC 5.0 Vin 1 0 DC 1.07 AC 1.0.op .ac DEC 20 100 100MEG .pl

12、ot ac VDB(2) VP(2) .probe*model .MODEL MOSN NMOS VTO=0.7 KP=110U +LAMBDA=0.04 GAMMA=0.4 PHI=0.7.MODEL MOSP PMOS VTO=-0.7 KP=50U +LAMBDA=0.05 GAMMA=0.57 PHI=0.8 .end,MOS SPICE模型,2019/6/13,26,例:采样spice进行TRAN分析,* TRAN analysis for AMP M1 2 1 0 0 MOSN w=5u l=1.0u M2 2 3 4 4 MOSP w=5u l=1.0u M3 3 3 4 4 M

13、OSP w=5u l=1.0u R1 3 0 100K *CL 2 0 5pVdd 4 0 DC 5.0 Vin 1 0 DC 1.07 sine(2v 2v 100KHz).op .tran .1u 10u .plot tran V(2) V(1) .probe*model .MODEL MOSN NMOS VTO=0.7 KP=110U +LAMBDA=0.04 GAMMA=0.4 PHI=0.7.MODEL MOSP PMOS VTO=-0.7 KP=50U +LAMBDA=0.05 GAMMA=0.57 PHI=0.8 .end,2019/6/13,27,小结,用简单的模型设计(design),用复杂的模型验证(verification); 模型用于: 大信号静态 (dc variables) 小信号静态 (gains, resistances) 小信号动态 (frequency response, noise) 大信号动态 (slew rate) 计算机模型(spice model)用于计算机验证,而非用于设计,

展开阅读全文
相关资源
猜你喜欢
相关搜索

当前位置:首页 > 企业管理 > 管理学资料

本站链接:文库   一言   我酷   合作


客服QQ:2549714901微博号:道客多多官方知乎号:道客多多

经营许可证编号: 粤ICP备2021046453号世界地图

道客多多©版权所有2020-2025营业执照举报