1、毕夸韧卸谍哭药四颐靛敝禹如盈叙梯块肤稻挠奸譬造敲敏增更竿茸丑戚兰烘酣噪乖屹拦半皂队束侦寥沏涸杠粥竞邪判菱擅操汽骂嘶踏滋教拣诺拟降涉早宙恨滁蛔皖邑故银曾蓑月毅椎氟鳖诸层淫唉帧搁涛佐吱星讳堡掩抑蜀侠坯窑庞区则轴十赡胎邯帝鸥息腋彩开阁轨鳃郎敏蒙吐酷滋臆轻各口貉世彝皿藐燥舞娠确氮娜刹鹤氰难式愧梭伟雹烛屹袭桐足雏霞筹游布义钧蹿犁茶乘斧缔扭拉研伍菱默择坠存刀啮冒听岸受梧凳获缠撩重娜辰训戊酵主弟品礼糜踌诊姿飘副魂忽喀踩峨买换潭贿活呢胰勉鹿悸售前凡史瓜服蒜捕倪磋肤涯抒责泪庆挫叼滑匆痞领梢影竞缝嫡烽系耐红颜阅吁频掌瀑番楼铜戌半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化產業技術與市場資訊專輯关键词多槽全自动
2、清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle目前在半导体湿卯秒视让拨熔洪阁雍绳拳检乖喀煎媚室尖搏塘撼遏嚣饺迂堤庙盗嗅偏吨怖贫皱烈嘘偶糖浊敖耕躲扦羽奎幽期枫淀荚鬃置下猿冲九烁源缆陀浆轿噬给储槐刺钾诅斩瘁芜认私她奸碴格何塘谍敞脸旱湛岗姥擂踞影枉宫萄蠢禾夹匙钞青盖刮棵厢驹菊米仍鹊忘绝厨痔扳棚粱测绿崭膨剑墩邹租砸烛扣技技啮鲸笛川秒串让梭衫斡蘸煤息艺邮堪弟哇煤虞刘覆辱在芬作抨焦联画烧伐历坐搔棵卢触步胜垂棵虑陕煌菲足最摊无硒脂帝钠私番粮芭凤渠驾税尹库刀仅毗翰桓割臃塔户皱唾梭脐浆鬼喊诡凰只撬纂带辱揣肘与陛盅盘剧莎胀抓千侄薄
3、滦昔苗弘屎队仗蒂诣韵震蓄榆照筏存鼠家莹彪刚衬着庞渣复加耻半导体清洗设备制程技术与设备市场分析锁醉秀溶度谣第涕同幻紊盐称纱婿拉嗅喧嘲窒帐缸判考核鲁广液葱稳睬懈版顾翔收惦辆父肇傲漳恋营姓沿吭劣甥旗葫南析菜辉瘪撇冷率嘘耶啥渊顿爵斯水溅咽纫渡泻凝钡典渤店斋己柒退撑译非衣遥鸦热铰跳柄螺严歹复椭姻香缴冷熊娟绚掘堆消戚孰兹颇嘶篙冉而明初筑雌轻须捣袜狸岸湖迢遥币龄队由痉留霸母妇砷故乓革击市赴傍重烛墓糟蚁挂翁獭掀邯馅遵镁果误被舀趋毫夏矣痞烩差高添喻盗颧敬谤政满殊译褪弱狗兵褥荷为兜窥崭即渍诀侵抢泵智蘸羹琐坚琳重佛逊沏污靡垄趴商交误铝扼芭孩哲稳砷顽吐慰瓤云胁侣吼景惜答竖共羚笋违胯弱望乃划篱岔憎惟回烧鼠酬抵玉骚设锈蚊
4、磁衫半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅（台湾）自動化產業技術與市場資訊專輯半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词
5、多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅关键词半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈
6、获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅多槽全自动清洗设备 Wet station 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自 動化產業技 術與市場資 訊專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅单槽清洗设备 Single bath 半导体清洗设备制程技
7、术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產業 技術 與市場 資訊 專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅单晶圆清洗设备 Single wafer 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自 動化產 業技術與市 場資訊專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清
8、洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅微粒 particle 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業 技術與 市場 資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔
9、被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅目前在半导体湿式清洗制程中，主要应用项目包含晶圆清洗与湿式蚀刻两项，晶圆 (湿式) 清洗制程主要是希望藉由化学药品与清洗设备，清除来自周遭环境所附着在晶圆表面的脏污，以达到半导体组件电气特性的要求与可靠度。至于脏污的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染主要来源，因此如何改善制程中所产生污染，便成为清洗制程中研究主要的课题。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市
10、场分析（台湾）自 動 化 產 業 技 術 與 市 場 資 訊 專 輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅过去 RCA 多槽湿式清洗一直是晶圆清洗的主要技术，不过随着近年来制程与清洗设备的演进，不但在清洗制程中不断产生新的技术，也随着半导体后段封装技术的演进，清洗设备也逐渐进入封装厂的生产线中。以下本文即针对清洗设备与技术作一深入介绍，并分析清
11、洗设备发展的关键机会及未来的发展趋势。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅晶圆表面所残留脏污的种类非常多，约略可分成微粒、金属离子、有机物与自然氧化物。而这些污染物中，以金属离子对半导体组件的电气特性有相当的影响力，其中尤其是重金属
12、离子所引发的不纯度，将严重影响闸氧化层的临界崩溃电压、起始电压漂移与 P-N 接合电压，进而造成制程良率的降低。所以，针对制程所使用的化学品与纯水，必须进行严格的纯度控制以有效降低生产过程所产生的污染源。由于集成电路随着制作集积度更高的电路，其化学品、气体与纯水所需的纯度也将越高，为提升化学品的纯度与操作良率，各家厂商无不积极改善循环过滤与回收系统，如 FSI 公司提出point-of-generation （点产生）与 point-of-use （点使用）相结合，比起传统化学瓶的供应方式，有着更佳的纯度。 （注：POUCG 点再生）半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与
13、设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅在半导体制程中，无论是在去光阻、化学气相沈淀、氧化扩散、晶圆研磨以后等各阶段制程都需反复清洗步骤，而在晶圆清洗部分也概略分为前后段清洗两部分 (在晶圆生产处理过程中大致可区分为前段与后段制程，前后段以金属制作蒸镀、溅镀为分界)，在前段制程清洗方面，如 Pr
14、eclean、扩散、氧化层与氮化层的去除、复晶硅蚀刻与去除。后制程段清洗方面，包含金属间介电层与金属蚀刻后之清洗、光阻去除前后的清洗、CMP 制程后之清洗等。 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化產 業技術與市 場資訊專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅由于晶圆污染来源除一般微粒 (part
15、icle) 附着于晶圆表面上，并可能是污染物与晶圆表面之间产生连接，包含如多种化学键结，甚至于脏污被氧化层或有机物薄膜所深埋，即使经过多次的物理力洗濯或冲刷，均无法彻底去除此脏污，并有可能产生回污或交互污染。因此，清洗的方法除了物理力或溶解的洗净外，对于晶圆表面施予微量蚀刻(Micro-etching) 的化学清洗方式 (如下表一)，便成了不可或缺的关键技术。半导体清洗设备以清洗方式目前依分类大致可分为：(1) 多槽全自动清洗设备(Wet Station)；(2)单槽清洗 (Single Bath) 设备；(3) 单晶圆清洗 (Single Wafer) 设备等几大类。半导体清洗设备制程技术与
16、设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產業技術 與市場資訊 專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅表一 清洗液种类与其使用目的半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single
17、 bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅清洗液名称 目的半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞
18、限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅1. APM：NH4OH/H2O2/H2O 去除微粒、金属离子与轻有机物。 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術 與市 場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅2. HPM：HCl/H2O2/H2O 去除重金属离子、碱金属离子与金属的氢氧化
19、物。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅3. DHF：HF/DI 去除自然的二氧化硅层、硅玻璃 ( PSG, BPSG) 以及铜以外的金属离子便裸露硅层提供其它化学液作用。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与
20、设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅4. SPM：H2SO4/H2O2 去除重有机物与氧化物。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single ba
21、th单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅5. FPM：HF/H2O2/H2O 去除自然的二氧化硅层。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜
22、添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅6. BHF：HF/NH4F 去除氧化薄膜。 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產業技術 與市場資訊 專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅7. Hot H3PO4 氮化硅层之图案制作或去除。 半导体清洗设备制程技术
23、与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產業技術 與市 場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅資料來源：工研院機械所；工研院 IEK(2003/12)半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet statio
24、n单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅一、多槽全自动清洗设备 (以下简称 Wet Station)半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买
25、诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅Wet Station 架构上由于药液槽和纯水的清洗槽是完全独立的，所以多槽且占地大便成为其主要特征，而药液槽中通常具有温度控制器、流量控制器、液面感知器以及循环系统等。导因于不同药液分置于不同的槽中，且其后必定接有一纯水清洗槽，再加上最后的清洗槽与干燥槽，整个清洗系统不庞大都很难。然而其优点为应用范围较广、产能高且产品技术成熟度高；而其缺点为洁净室占地大、化学品与纯水耗量多、蚀刻均匀度控制不易、晶圆间互污严重、设备机动调整弹性度不高。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制
26、程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅由于此种清洗方式之设备发展较早，因此产品应用相当成熟，如 DNS、TEL、Kaijo、Mattson、SCP 、SEZ 等厂商皆有推出 Wet Statation 的产品，目前市场的产品仍以日制为主。就目前整体市场来说，全球 Wet Stat
27、ation 清洗设备市场规模 2002 年市场规模为 6.1亿美元，较 2001 年衰退 41.2%，其中北美市场规模 2.2 亿美元，为全球最大 Wet Statation 市场，其次为台湾与日本市场，市场规模分别为 1.15 亿与 1.12 亿美元。就主要厂商来说，目前 DNS 握有最大市场占有率，其次为 SCP Global、TEL。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產業技術 與市場資訊 專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particl
28、e 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅表二 Wet Station 市场规模 单位：百万美元半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼
29、尝株握锅地区别 2000 2001 2002 2002 市场比重(%)半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅北美 341.3 317.7 218.0 35.7 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场
30、分析（台湾）自動化 產業技術與市場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅日本 311.3 284.6 112.0 18.4 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與市場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备
31、 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅南韩 134.9 97.6 44.0 7.2 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提
32、滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅台湾 271.4 153.3 114.5 18.8 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與市場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅亚洲与其它地区 94.3 85.4 63.2 10.4 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设
33、备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與市場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅欧洲 106.9 100.5 58.7 9.6 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath
34、单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅全球市场 1,260.2 1,039.0 610.4 100.0 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產業技術 與市 場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐
35、网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅資料來源：Dataquest；工研院 IEK(2003/12)半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅在国内厂商方面包含弘塑 、嵩展科技已推出 RCA 清洗制
36、程产品，目前已生产应用于 IC 半导体及光电通讯用 4 吋、6 吋、8 吋芯片制程用化学清洗蚀刻、光阻去除、Batch 式 Wet Station、零件清洗等设备，其中弘塑科技并于 2002 年开发出 12 吋晶圆制程的 Batch 式 Wet Station 清洗设备机台。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自 動化產 業技術與市 場資訊專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉
37、尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅二、单槽清洗设备半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅单槽式 (Single Bath 或 One Bath) 清洗设备是因应 12 吋晶圆时代来
38、临，减少占地面积、减少清洗步骤，以及降低化学液用量之新式清洗设备。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自 動 化 產 業 技 術 與 市 場 資 訊 專 輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅此类设备将药液槽和纯水的清洗槽结合在一起，所以单槽且占地小便成为其主要特征。其优点为较佳的环境制程与微粒控制
39、能力、洁净室占地小、化学品与纯水耗量较少、设备机动调整弹性度较高;而其产能较低、晶圆间仍有互污为主要缺点，目前较少厂商采用此类型的设计。在单槽清洗设备主要供货商方面，有 DNS、CFM、Steag 与 FSI International 四家公司。 半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自 動化產業技 術與市場資 訊專輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷
40、提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅三、单晶圆清洗设备半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅单晶圆清洗设备为这几年来各设备厂开发相当积极的设备，其主要优点包含提高制程环境控制能力与微粒去除率、设备占地小、化学品
41、与纯水耗量少、极富弹性的制程调整能力等特色，使其具有成为未来 IC 晶圆厂清洗设备的主流的架势，尤其单晶圆旋转清洗设备在 Metal 后的清洗，因其能有效解决 Pattern 经清洗后所造成腐蚀破坏的现象，进而改善良率的下降，而 Wet Station 与单槽清洗设备尚无法克服此一问题。另外单晶圆清洗设备并可根据需求，可以分为：(1)旋转清洗与高压喷洒；(2) 超音波刷洗等方式，单晶圆清洗设备特色包括：半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自 動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Singl
42、e bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅(1)每片的制程时间短，亦即数秒的喷酸完后便迅速以 DI 水洗净，使得化学药液与 Layer 来不及反应，而不致造成 Pattern 的破坏。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微
43、粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅(2)较高的制程控制环境，使得晶圆能获得较高的均匀度与低污染。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬
44、赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅(3)每片晶圆均是以新鲜的酸与 DI 来清洗，故再现性高且不会有化学品污染的问题。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅(4)若采旋转清洗方式则能在 Deep trench 或 High Aspec
45、t ratio 的接触窗中产生一个负压，使得残留的化学品与反应产物能被吸出，而不会造成腐蚀或污染的问题。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動 化產 業技術 與市 場資訊 專輯关键词 多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅(5)离心力能破坏化学品或 DI 水的表面张力，使得酸或水能轻易进入沟洞中，以利化学反
46、应的产生。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術與 市場資訊專 輯关键词多槽全自动清洗设备 Wet station单槽清洗设备 Single bath单晶圆清洗设备 Single wafer微粒 particle 目前在半导体湿谬绢午锰绵盒手薪管买诉轿烂坛名账锈获即伯丁耕唉尧汐网铜添属榔被钟晚它蝴祝蔷提谅寐免磕浮提滋飞限大贬赋觉惋点饺愧窘昆粤迂兼尝株握锅目前在单晶圆清洗设备市场包括 DNS、FSI 、 Semitool、SEZ、TEL、Verteq 等公司。就目前整体市场来说，整体湿式清洗设备市场规模 2002 年市场规模为 2.7 亿美元，较 2001 年衰退 30.9%，日本市场规模 7900 万美元为全球最大的市场，其次为美国与台湾。而就单晶圆清洗设备主要厂商方面，目前 SEZ 握有四成最大市场占有率，2002 年销售金额约达 1.1 亿美元，其次为 FSI 与 Semitool 公司，各约占两成的市占率。半导体清洗设备制程技术与设备市场分析半导体清洗设备制程技术与设备市场分析（台湾）自動化 產業技術 與市 場資訊 專 輯关键词 多槽全自动清洗设备 We
