1、 2011-5-1Training For RENARENA培训Overview / 概述 Part 1:components of the rena /第一部分： RENA清洗机的组件 Part 2:turn on the rena /第二部分： RENA的开机 Part 3:operating system /第三部分：操作系统 Part 4:turn off the rena /第四部分： RENA的关机Part 1 Components of the RENA RENA清洗机的组件 1 InTex. / InTex 1 台 2 intermediate transports (inpu
2、t station/output station). /进料台、出料台各 1个 1 chiller. /冷却器 1个 1 electrical cabinet. /电器柜 1个 1 InOxSide. /InOxSide 1 台 2 intermediate transports (input station/output station). /进料台、出料台各 1个 1 chiller. /冷却器 1个 1 electrical cabinet. /电器柜 1个intex / inOxSideChiller（冷却器）Electrical Cabinet （电器柜）Electrical Cab
3、inet Inside 电器柜内部图Chemical pipes and exhaust pipes化学品供应管和排风管CDA and DI-water pipes压缩空气和纯水供应管Hot air system热风系统General information / 概述InTexPurpose: washing the speck and etch a suede on the surface of the wafers. /目的 : 清洗硅片表面的污渍，并在硅片表面刻蚀出绒面。InOxSidePurpose : remove the phosphor glass and the phospho
4、r endowed silicon film from the bottom surface and the edges of the wafers. /目的 : 去除硅片表面的磷硅玻璃；去掉背面及四周的 P-N结。Working process /工作流程EtchbathInput stationOutputstation ACD Rinse 3AcidicRinse Rinse 2Alkaline Rinse Dryer 1 Rinse 1InOxSideEtch bathInput stationOutputstation ACD Rinse 3AcidicRinseRinse 2Rin
5、se 1 Alkaline RinseIntex工作流程制绒槽 上料台下料台 干 燥 漂洗 3# 酸 洗 漂洗 2#碱 洗 吹 干 漂洗 1#InOxSide刻蚀槽 上料台下料台 干 燥 漂洗 3# 酸 洗漂洗 2#漂洗 1# 碱 洗IntexStations / 各槽子位置图Stations Station 1 - Etch bath: The wafers are etched with an acid mixture. / 槽 1 制绒槽 : 用酸液在硅片表面刻蚀出绒面。 Station 2 - Rinse 1: The wafers are exempt from the media
6、of the previous station. /槽 2 漂洗槽 1: 去除来自上一个槽子的化学品。 Station 3 - Alkaline clean bath: The wafers will be alkaline rinsed to avoid specking./槽 3 碱洗槽 : 用碱液清洗硅片表面的污渍。 Station 4 - Rinse 2: The wafers are exempt from the media of the previous station. /槽 4 漂洗槽 2: 去除来自上一个槽子的化学品。 Station 5 - Acidic clean ba
7、th: The wafers surface will be treated with an acid mixture. /槽 5 酸洗槽 : 用酸液清洗硅片表面。 Station 6 - Rinse 3: The wafers are exempt from the media of the previous station. /槽 6 漂洗槽 3: 去除来自上一个槽子的化学品。 Station 7 Air Channel Dryer: In the last step the wafers are air dried on both sides. /槽 7 空气干燥槽 : 在最后一步中 ,
8、硅片的两面使用热空气吹风干燥 .Part 2 Turn on the RENA第二部分 RENA 的开机Step 1. Check the media supply such as DI-water、 CDA、 HF 、HNO3、 HCl、 KOH and so on. / 检查气、水和化学品的外部供应。例如 DI-water、 CDA、 HF 、 HNO3、 HCl、 KOH 等等 .InOxSideChecking before power on/开机前检查CDACold-waterChecking before power on/开机前检查Cold waterTurn on the RE
9、NA / RENA 开机Step 2. power on ,the switch is located at electrical cabinet . /第二步：开机，开关位于电器柜上Step 3. turn on the displayer； wait a moment. /第三步：打开显示器，等待，直至主界面出现。Step 4. Login 。 Click the “Login” button at the main screen， enter the login name and the password at the message window， click “Login” . /
10、第四步：登陆。 点击Login 进入登陆界面，输入用户名及密码，点击 Login 进入 。Turn on the RENA / loginRENA的开机 / 登陆User management / 用户组管理Dependent on the user group, various functions are enabled or disabled. (10.6.1)不同的用户组，拥有各种不同的权限。 Operator 操作工 Process engineer (process) 工艺工程师 Service 维护人员 Administrator 管理员Part 3 operating syste
11、m/操作系统3.1 Main screen module overview / 主界面模块概观In the main screen, a machine overview is shown.The main screen is divided into three areas. Info bar ,Button bar , main screen.在主界面下，显示了机器的概观。主界面被分成 3个区域：信息栏，按钮栏 ，主界面 Conveyor modules: / 传送带模块（滚轮模块） Conveyor 1 Conveyor 2 Conveyor 3Main screen module ov
12、erview主界面模块概观 Process modules: / 过程模块 Etch bath Dryer etch bath Rinse 1 Alkaline clean bath Rinse 2 Acidic clean bath Rinse 3 Air Channel DryerSoftware interface of RENA InTexRENA InTex 的软件界面Software interface of RENA InOxSideRENA InOxSide 的软件界面Status boxes and info box状态框和信息框第一个显示区域：模块操作模式。第二个显示区域：
13、错误指示。第三个显示区域：模块状态显示。信息框，附加的显示区域，显示模块的一些重要的过程值。Info bar / 信息栏In the info bar, the following information is displayed: / 在信息栏中，以下信息被显示：1. Time / 时间2. Date / 日期3. Operating mode: / 操作模式- Current operating mode (OM) of the complete machine. / 当前机器的操作模式。4. Operating mode request: / 操作模式请求- If an operatio
14、n mode change-over is performed, this is always a request. The controller checks if the requested operating mode is feasible. Decisive for this is the status of the individual modules. An OM change can take place only when all modules are available for the new OM.- 在操作模式改变之前，都会发送一个请求给控制器。控制器再逐一检查请求的
15、操作模式是否可执行，只有当所有的模块都准备好在新模式下运行之后，操作模式的改变才会成功。5. Login name: / 登陆名- Name of the current user logged in the system. / 当前登陆系统的用户名字Button bar / 按钮栏Sign off from the System / 从系统中退出Help file for currently visible main screen / 当前界面的帮助文件User management / 用户管理To the main screen media supplies / 进入材料供应界面Back from media supplies / 从材料供应界面返回主界面Return back to the main screen from all other screens / 从其他界面返回主界面
