1、系统 1：一次反应、二次反应、滞留、还原（氢氧化钠、硫酸、次氯酸钠、亚硫酸氢钠）系统 2：一次反应、二次反应、滞留（氢氧化钠、硫酸、次氯酸钠）系统 3：一次反应、二次反应、滞留（氢氧化钠、盐酸、次氯酸钠）上述二次破氰的反应式，反应条件和可能发生的情况如下：一次反应（为不完全氧化）：反应 条件：pH 在 10 以上，ORP 为 300mv 左右；反应方程式： CN- + OCl- + H2O CNCl + 2OH -CNCl + 2OH- CNO + Cl - + H2O其他情况： CN-与 OCl-反应生成 CNCl，CNCl 水解生成 CNO-的反应速度取决于废水的 pH、温度、有效氯的浓度
2、。 pH 越高、水温越高、有效氯浓度越高则水解速度越快，尤其是 pH 的变化。酸性条件下，CNCl 极易挥发，当 pH8.5 时也仍有部分逸出。当 pH 在 23 左右，CNO-会水解产生氨。二次反应（为完全氧化）：反应 条件：pH 在 8 左右，ORP 为 650mv 左右；反应方程式：2CNO - + 3ClO- + H2O 2CO 2 + N2 + 3Cl- + 2OH-其他情况： 在过量氧化剂和 PH 接近中性，会将 CNO-进一步氧化为CO2 和 N2 系统 3 中还存在还原反应：反应如下： NaHSO3 + NaClO NaHSO 4 + NaCl其中可能存在中间反应：2NaHSO 3 + 2NaClO 2NaHSO4 + Cl 2
