1、SP-2型 磁控溅射台说 明 书中国科学院微电子研究所SP-2型溅射台系统控制示意图图1总阀 高阀预抽阀溅射室分子泵机械泵前级阀充气阀上盖MFC1 MFC2SP-2型磁控溅射台操作说明1.接通电源:.接通溅射台总电源（配置415V32A三相四线制）；.开电源机柜面板上的“总电源”开关。.打开冷却水（压力.打开“放气阀”，使腔体充气约5分钟,指示灯灭。注意：一定要使腔体充至大气压强，在腔体尚存压差之前绝对不允许按“升盖”！.“放气阀”按钮灯灭后，按住“升盖”按钮，使腔体盖升到合适位置；.进行装片，调整溅射靶挡板，清洗或换观察窗内的玻璃片；.按 “降盖”按钮，使上盖与腔体对齐盖好；3.抽真空:.按
2、“机器泵开”开关，按下 “预抽阀开”开关，预抽低真空；.开真空计电源，选择低真空测量档；.当真空度至45Pa，按下 “预抽阀关”开关，“预抽阀关”灯亮后，按下 “前级阀开”开关，打开前级阀，右旋 “高阀”旋钮至“ON”位置，指示灯亮，打开高阀。当真空度至5Pa时，开分子泵电源，按下分子泵电源面板上的“启动”按钮。.打开冷却水总开关。.抽工作室至高真空，准备溅射。4.加热烘烤:设定烘烤温度值，右旋“烘烤”旋钮至“ON”的位置上。此步骤也可省略，待工艺要求而定。5.选择溅射方式：射频溅射、直流溅射需要选择靶位，选择开关如图2所示。选择使用几号靶。溅射靶位置图见图3所示。图2图36.通气:加热烘灯前
3、 面1号靶2号靶 3号靶4号靶1005050100直流方式射频方式DC RF.待真空达到所需真空度后，打开气路“总阀”，气路图如“图1”。.选择需用气体，流量显示仪开关置于“阀控”，打开要使用气体的气路阀门；.调节流量至设定值；7.定时:.确定采用“定时“或“不定时“。.若采用定时，设定时间显示器(自左至右各位分别为10分、1分、10秒、1秒)。8.启辉工作一.直流工作条件:.将挡板挡至预溅靶上方；.首先将直流功率调至最低，然后开直流电源开关；再逐渐加大直流电源功率，直至所需功率。注：选择“不定时”，开直流电源开关即启辉。若选择“定时”，开直流电源开关后还需按一下定时器“复零”钮，即可启辉工作
4、，溅射结束后自动关闭直流电源。预溅射后，打开“旋转”开关，同时打开挡板，开始溅射；二.射频工作条件：.打开射频电源“灯丝”开关加热5分钟；.首先将输出功率调至最低，再开射频“板压”开关；注：选择“不定时”，开射频电源“板压”开关即启辉。若选择“定时”，开射频电源“板压”开关后还需按一下定时器“复零”钮，即可启辉工作，溅射结束后自动关闭射频电源。.启辉后调节匹配器的“C1调节”和“C2调节”, 使反射功率指示最小。如果气流,电压等条件不变，匹配只需开始调节一次，但如条件变化，则重新调节匹配；.调好匹配后，增加功率至设定值（此间还需调节匹配）；注：1.启辉时，如反射功率很大，应先降低功率，待调好匹
5、配（反射功率最小）后，再提高功率。这对保护电源使之不受损坏是很重要的。2.溅射时，一定要通冷却水，否则能严重损坏溅射靶。9.取样品步骤.溅射结束后先关射频或直流电源。.关闭连接气体的阀门“阀1”或“阀2”，将流量显示仪阀控开关拨至“关闭”档，关闭总阀。.左旋“高阀”旋钮至“OFF”的位置，高阀旋钮灯灭，关闭“高阀”。.按下 “放气阀”按钮，打开放气阀，使腔体充气。.“放气阀”按钮灯灭后，按下“开盖”按钮，使腔体盖升到合适位置。.取样品。.按下“关盖”按钮，使上盖与腔体对齐盖好。.按下“前级阀关”开关，“前级阀关”灯亮后，按下“预抽阀开”开关，预抽真空室。当真空度至5Pa，按下“预抽阀关”开关，
6、“预抽阀关”灯亮后，按下“前级阀开”开关，右旋 “高阀”旋钮至“ON”位置，打开高阀。10.关机步骤:.溅射结束后先关射频或直流电源； .将所有气路阀门及总阀关闭，将流量显示仪拨至“关闭”档；.按分子泵“停止”按钮，稍后关分子泵电源；关闭“高阀”。.分子泵停止10分钟后，按下“前级阀关”开关。.关水，按下“机械泵关”开关。.检查所有旋钮及开关都应为“关”的位置上，关总电源。注：1）溅射台在不工作时，所有的气路阀门（包括流量计）应处于“关闭”状态。2）溅射完毕后，若不继续溅射，可开机械泵抽真空约5分钟后关机，使腔体内保持在真空状态。10.注意事项:不要随意打开四周侧盖和触动机械或电路部分。万一发生故障请来电话联系咨询后再动手修理。或由我们去人修理。
