1、铜铟稼硒薄膜太阳能电池,铜铟硒薄膜太阳电池是以多晶CuInSe(CIS)半导体薄膜为吸收层的太阳电池，金属稼元素部分取代铟。又称为铜铟稼硒（CIGS)薄膜太阳电池。CIGS材料属于l-lll-Vl族四元化合物半导体，具有黄铜矿的晶体结构。CIGS薄膜太阳电池自20世纪70年代出现以来，得到非常迅速的发展，目前已经成为国际光伏界的研究热点，并将逐步实现产业化。此电池具有以下特点:三元CIS薄膜的禁带宽度是1.04eV，通过适量的Ga取代In，成为CuIn1-xGaxSe多晶固溶体，其禁带宽度可以在1.04-1.67eV范围内连续调整。 CIGS是一种直接带隙材料，其可见光的吸收系数高达105cm
2、-1数量级，非常适合于太阳电池的薄膜化。 CIGS吸收层厚度只需1.5-2.5m，整个电池的厚度为34m。技术成熟后，制造成本和能量偿还时间将远低于晶体硅太阳电池。抗辐照能力强，用作空间电源有很强的竞争力。转换效率高。2005年美国国家可再生能源实验室(NREL)研制的小面积CIGS太阳电池的转换效率已达到19.9%，是当前薄膜电池中的最高记录。电池稳定性好，基本不衰减。弱光特性好。因此CIGS薄膜太阳电池有望成为新一代太阳电池的主流产品之一。本章将对CIGS薄膜电池的发展历史、 CIGS薄膜的制备方法及材料性能、I薄膜电池的典型结构和异质结特性等方面进行详细介绍。同时本章也将介绍该类电池的新
3、工艺及新技术等发展新动向，如无锡电池和柔性衬底电池等。,第一节 CIGS薄膜太阳电池发展史,20世纪六七十年代，人们开始研究l-lll-Vl族三元黄铜矿半导体材料(Cu，Ag)(In，Ga，AI)(Se，S，Te)2的结构、光学和电学等基本物理特性。1974年，美国Bell实验室的Wagner等川首先研制具有单晶CuInSe2(CIS)/CdS结构的pn异质结光电探测器。并首次报道了光电转换效率5%的单晶CuInSe2太阳电池。晶体CuInSe2由熔体生长技术制备，经切片、抛光、王水刻蚀，最后在Se气氛下600退火24小时得到p型半导体材料。1 975年， Wagner等通过器件优化，制备了单
4、晶CuInSe2/CdS太阳电池，光电转换效率达到了12%。多晶CIGS薄膜电池的发展历史如图6. I所示，主要可分为以下几个阶段:Maine大学首先研制了CIS薄膜电池;Boeing公司采用共蒸发工艺在此后的十几年中保持着世界领先水平;ARCO公司的溅射后硒化工艺在1988年取得世界记录的效率;在1992-1993年，欧洲的ClS研究取得了短暂的领先水平;从1994年至今，美国国家可再生能源实验室(NREL)一直保持着小面积电池的世界记录。,1976年，Maine大学的L.L.Kazmerski首次报道了ClS/CdS异质结薄膜太阳电池，CIS薄膜材料由单晶CuInSe2和Se二源共蒸发制备
5、。厚度5-6m的p-CIS薄膜沉积在附有金膜的玻璃衬底上，然后蒸发沉积6m的CdS作为窗口层形成异质结，电池的效率达到了4%5%，开创了CIS薄膜电他研究的先例。1981年，波音(Boeing)公司的Mickelsen等制备出转换效率9.4%的多晶CIS薄膜太阳电池以后，人们才充分认识到CIS薄膜电池在光伏领域的重要性。Chen等制备的电池具有图6.2的结构。衬底选用普通玻璃或者氧化铝，溅射沉积Mo层作为背电极。 CuInSe2薄膜采用“两步工艺”制备，又称Boeing工艺，即先沉积低电阻率的富Cu薄膜，后生长高电阻率的贫Cu薄膜。蒸发本征CdS和In掺杂的低阻CdS薄膜作为n型窗口层，最后蒸
6、发Al电极完成电池的制备，由此奠定了CIS 薄膜电池的器件结构基础。在此后的六七年，Boeing公司一直处于多晶CIS薄膜电池研制的领先地位。他们制备的CIS薄膜电池的转换效率稳步提高。1982年Chen等采用蒸发Cd1-xZnxS代替CdS做缓冲层，提高了器件的开路电压，使多晶CIS薄膜太阳电池的转换效率达到了10.6% ；1984年，达到了10.98% ；1986年，转换效率达到了11.9% 。,1988年，CIS薄膜电池的研究取得了重大进展。ARCO公司(现美国Shell公司前身)采用溅射Cu、In预置层薄膜后，用H2Se硒化的工艺制备了转换效率达到14. 1%的CIS电池，电池I-V曲
7、线及各性能参数见图6.3。ARCO制备的电池采用玻璃衬底/Mo层/CIS/CdS/ZnO顶电极结构，这种器件结构的设计增大了电池的短路电流密度(Jsc)和填充因子(FF)。其中缓冲层CdS厚度低于50nm，可以透过大量的光并拓宽了吸收层的光谱响应，使电池的短路电流密度达到了41mA/cm2。另外，织构ZnO抑制了光学反射也对Jsc有贡献。ARCO公司的成功使溅射预置层后硒化法和多元共蒸发法共同成为制备高效率CIS薄膜电池的主流技术。CIS薄膜电池经历了连续十几年的发展以后，研究重点变为提高器件的开路电压，需要拓宽吸收层材料的带隙。CuGaSe2和CuInS2比CuInSe2带隙宽，分别为1.6
8、7eV和1.5eV。元素Ga和S的掺入可形成Cu(In,Ga)Se2和CuIn(S,Se)2合金，既可增加材料的禁带宽度，又使之与太阳光谱更加匹配，提高器件的性能。1989年，Boeing公司通过Ga的掺入制备了Cu(In0.7,Ga0.3)Se2 /CdZnS太阳电池，电池的转换效率达到了12 .9%。此电池的开路电压为555mV，这是不含Ga的CulnSe2薄膜电池所达不到的。,进入20世纪90年代，CIS 薄膜电池得到了快速的发展。1993年，L.Stolt等采用四极质谱仪控制多源共蒸发制备CIS薄膜，并使用化学水浴法沉积 (CBD)10 20nm厚CdS作为缓冲层，太阳电池效率达到14
9、.8%。湿法制备的CdS层改善了pn的质量，提高了电池的开路电压与填充因子。1993年，Tarrent等采用掺入元索Ga、S的方法，制备了具有梯度带隙结构的Cu (In,Ga)(Se,S)2, (简称CIGSS)吸收层，器件结构为苏打玻璃衬底/Mo电极/梯度CIGSS吸收层/50nmCdS过渡层/ZnO窗口层/MgF2减反层，电池转换效率达到15.l%。吸收层靠近背电极处的高Ga浓度可以提供强的背电场，表面高S含量可以降低界面复合。同时，Ga、S元素的掺人也提高了吸收层沉积工艺容忍度，梯度带隙的引入库增加了开路电压而保持着电流密度，为CIGS薄膜电池效率的进一步提高奠定了基础。1994年，美国
10、国家可再生能源实验室 (NREL)在小面积CIGS电池研究领域取得突破，这主要归因于“三步共蒸发工艺”的成功应用。1994年，使用“三步法工艺”制备的CIGS太阳电池的转换效率达到了15.9%.器件结构如图6.4所示，这也是至今为止高效率CIGS薄膜电池的典型结构。1994年至今， NREL研制的小面积CIGS电池处于绝对领先地位，电池效率稳步提高，见表6.1。2008年报道的转换效率达到了19.9%，是当前世界上转换效率最高的薄膜太阳电池。,小面积CIGS薄膜太阳电池性能得以显著提高的主要原因:S和Ga的掺人不仅增加了吸收层材料的带隙，还可控制其在电池吸收层中形成梯度带隙分布，调整吸收层与其
11、他材料界面层的能带匹配，优化整个电池的能带结构。用CBD法沉积CdS层和双层ZnO薄膜层取代蒸发沉积厚CdS窗口层材料，提高了电池异质结的质量，改善了短波区的光谱响应。用含钠普通玻璃替代无钠玻璃，Na通过Mo的晶界扩散到达CIGS薄膜材料中，改善CIGS薄膜材料结构特性和电学特性，提高了电池的开路电压和填充因子。CIGS薄膜光伏组件发展始于小面积电池效率超过10%以后。很多公司一直致力于CIGS薄膜电池的产业化发展，并在组件的研制方面取得了很大的进展. 见图6.5。NREL在小面积电池中绝对领先，瑞典乌勃苏拉大学(ASC)小组件的研制处于最高水平，2003年19.59cm2的组件效率达到了16
12、.6%。在这些公司中，美国ARCO SOLAR在大面积CIGS I组件研制中处于领先水平。1987年，ARCO公司采用溅射金属预制层，用H2Se硒化的两步工艺在小面积 (3.6cm2)电池效率12.5%的基础上制备大面积组件。在65cm2的面积上制作14个子电池串联的组件效率为9.7%，在30 30cm2上制作50个子电池的组件效率达到9.1% 。此后该公司几经转手，2001年成为美国Shell Solar公司。该公司在溅射后硒化的基础上开发了快速热处理（RTP)技术，使10 10cm2组件的效率达到14.7%，2004年制备的60cmX90cm的大面积组件效率为13. 1%，单片输出功率可到
13、65Wp，达到产业化水平。,德国氢能和可再生能源研究中心(ZSW)与斯图加特大学合作研究，采用共蒸发工艺制备吸收层CIGS薄膜，电池组件效率逐年提高。1 995年，100cm2组件效率10%。到1998年，面积100cm2组件效率达到12%。2000年，ZSW与德国Wurth公司合作建立了60cm x 120cm大面积组件中试线，年产量达到1 MWp。到2005年，该公司60cm x 1 20cm大面积组件的最高效率达到13%，平均转换效率11.5%，是大面积CIGS薄膜电池的最高记录。2005年是CIGS薄膜电池产业化快速发展的一年。日本的Showa Shell和Honda Motor分别建
14、立了20MW/a和27.5M W/a的生产线。德国Wurth公司的15MW生产线也宣布投产，到2007年CIGS电池全球产能达到了70MW。然而，与其他材料光伏电池相比，CIGS薄膜电池的发展是处于中试向产业化开发阶段。大面积CIGS薄膜电池的研究进展见表6.2，其中包括了目前生产线制造出的最高水平CIGS电池组件。从表中可以看出，以CIGS组件效率已经接近晶体压组件水平，近一步的发展需要提高电池的产量和成品率。,第二节 CIGS薄膜太阳电池吸收层材料,1 、 CIGS薄膜的制备方法,CIGS薄膜材料的制备方法很多，一般认为有真空沉积和非真空沉积两大类。从多年实验研究和产业化发展历史过程来看，
15、依其工艺程序又可分为多元素直接合成法和先沉积金属预制层后在硒气氛中硒化的两步法。各种共蒸发工艺属于第一种方法，这种方法必须在高真空条件下沉积，因此属于真空沉积一类。后硒化方法中金属预制层可用蒸发、溅射等真空工艺沉积也可用电化学法、纳米颗粒丝网印刷等非真空工艺制备。这里重点介绍多元共蒸发方法和金属预制层后硒化法，同时也对其他非真空工艺作简单介绍。 1.1多元共蒸发法多元共蒸发法是沉积CIGS薄膜使用最广泛和最成功的方法，用这种方法成功地制备了最高效率的CIGS薄膜电池。典型共蒸发沉积系统结构如图6.6所示。Cu、In、Ga和Se蒸发源提供成膜时需要的四种元素。原子吸收谱(AAS)和电子碰撞散射谱
16、(EEIS) 等用来实时监测薄膜成分及蒸发源的蒸发速率等参数，对薄膜生长进行精确控制。,高效CIGS电池的吸收层沉积时衬底温度高于530，最终沉积的薄膜稍微贫Cu，Ga/(In十Ga)的比值接近0.3。沉积过程中In/Ga蒸发流量的比值对CIGS薄膜生长动力学影响不大，而Cu蒸发速率的变化强烈影响薄膜的生长机制。根据Cu的蒸发过程，共蒸发工艺可分为一步法、两步法和三步法。因为Cu在薄膜中的扩散速度足够快，所以无论采用那种工艺，在薄膜的厚度中，Cu基本呈均匀分布。相反In ,Ga的扩散较慢。In/Ga流量的变化会使薄膜中lll族元素存在梯度分布。在三种方法中，Se的蒸发总是过量的，以避免薄膜缺S
17、e。过量的Se并不化合到吸收层中，而是在薄膜表面再次蒸发。所谓一步法就是在沉积过程中.保持Cu,In ,Ga ,Se四蒸发源的流量不变，沉积过程中衬底温度和蒸发源流量变化见图6.7(a)。这种工艺控制相对简单，适合大面积生产。不足之处是所制备的薄膜晶粒尺寸小且不形成梯度带隙。两步法工艺又叫Boeing双层工艺，是由波音公司提出的。两步法工艺的衬底温度和蒸发源流量变化曲线如图6.7 b所示。首先在衬底温度400450时，沉积第一层富Cu( Cu/lll1)的CIS薄膜，薄膜具有小的晶粒尺寸和低的电阻率。第二层薄膜是在高衬底温度500550(对于沉积CIGS薄膜，衬底温度为550)下沉积的贫Cu的
18、CIS薄膜，这层薄膜具有大的晶粒尺寸和高的电阻率。“两步法工艺”最终制备的薄膜是贫Cu的。与一步法比较，双层工艺能得到更大的晶粒尺寸。Klenk等认为液相辅助再结晶是得到大晶粒的原因:只要薄膜的成分富Cu , CIGS薄膜表面就被CuxSe覆盖，在温度高于523时， CuxSe以液相的形式存在，这种液相存在下的晶粒生长将增大组成原子的迁移率，最终获得大晶粒尺寸的薄膜。,三步法工艺过程见图6.7(c):第一步，在衬底温度250300时共蒸发90%的In,Ga和Se元素形成(ln0.7Ga0.3)2Se3预置层，Se/(In+Ga) 流量比大于3;第二步，在衬底温度为550一580时蒸发Cu、Se
19、，直到薄膜稍微富Cu时结束第二步;第三步，保持第二步的衬底温度，在稍微富CU的薄膜上共蒸发剩余10%的ln、Ga、Se，在薄膜表面形成富In的薄层，并最终得到接近化学计量比的CuIn0.7Ga0.3Se2薄膜。三步法工艺是目前制备高效率CIGS太阳电池最有效的工艺，所制备的薄膜表面光滑、晶粒紧凑、尺寸大且存在着Ga的双梯度带隙。三步共蒸工艺生长模型见图6.8 ，成膜相变路径沿着Cu2Se-(Ga,In)2Se3相图从富In侧经历富Cu区域最后形成表层具有Cu缺陷薄层的高质量CIGS薄膜。第一步，共蒸发In,Ga,Se形成纤锌矿结构的(ln0.7Ga0.3)2Se3(a)过程)，它的结晶状态对其
20、后CIGS的生长和晶面取向有重要影响。第二步，蒸发Cu和Se。Cu, Se与预制层反应，逐渐形成贫Cu的Cu(In,Ga)5Se8、Cu(In,Ga)3Se5和Cu(In,Ga)2Se3.5等有序缺陷化合物(b)过程)，这一系列化合物和黄铜矿Cu(In,Ga) Se2具有类似的晶格结构，不同之处是这些化合物中存在替位缺陷InCu和GaCu以及Cu空位。继续蒸发Cu和Se，Cu向缺陷化合物内部扩散同时伴随着薄膜中In和Ga的向外扩散，扩散出来的In和Ga和蒸发到薄膜表面的Cu、Se反应形成新的晶核，增加了薄膜的厚度。,ln比Ga的扩散速度快，这导致表面形成低Ga含量的薄膜(c)过程)。在薄膜接近
21、化学计量比后，继续蒸发Cu和Se薄膜变得富Cu，过量的Cu以二次相CuxSe的形式存在(d)过程)。当温度高于5230时， CuxSe以液相的形式存在。第二步完成后，薄膜由满足化学计量比的CIGS薄膜和存在于薄膜表面和晶界处的液相CuxSe二次相组成。第三步，蒸发In、Ga和Se元素，直至CuxSe被完全消耗掉，形成满足化学计量比的CIGS薄膜。这种在液相CuxSe存在下的CIGS薄膜的再结晶可以得到柱状大晶粒。第三步发生的扩散反应与第二步恰好相反，即Cu向外扩散与新蒸发的In, Ga和Se元素反应，同时ln、Ga向薄膜内部扩散，导致形成富In、Ga的CIGS表面层。三步法制备薄膜各元素的分布
22、及薄膜断面结构见图6. 9。从图6.9(a)中可以看出Cu和Se元素分布均匀、而Ga存在着双梯度的分布，即背接触处和表面含量高，这种梯度的形成原因与三步法工艺以及In,Ga元素的扩散系数有关。从图6.9b中可以看出。三步法工艺制备的CIGS薄膜晶粒尺寸为3一5nm，且呈柱状生长，柱状大晶粒密集紧凑贯穿整个薄膜。,1.2 金属预制层后硒化法,后硒化工艺的优点是易于精确控制薄膜中各元素的化学计量比、膜的厚度和成分的均匀分布，且对设备要求不高，巳经成为目前产业化的首选工艺。后硒化工艺的简单过程是先在覆盖有Mo背电极的玻璃上沉积Cu-In-Ga预置层。后在含硒气氛下对Cu-In-Ga预置层进行后处理，
23、得到满足化学计量比的薄膜。与蒸发工艺相比，后硒化工艺中，Ga的含量及分布不容易控制，很难形成双梯度结构。因此有时在后硒化工艺中加入一步硫化工艺，掺入的部分S原子替代Se原子，在薄膜表面形成一层宽带隙的Cu(In，Ga)S2，这样可以降低器件的界面复合，提高器件的开路电压。后硒化工艺流程见图6.10。预置层的沉积有真空工艺和非真空工艺。真空工艺包括蒸发法和溅射法沉积含Se或者不含Se的Cu-In-Ga叠层、合金或者化合物口非真空工艺主要包括电沉积、喷洒热解和化学喷涂等。其中溅射预制层后硒化法已成为目前获得高效电池及组件的主要工艺方法。一般采用直流磁控溅射方法制备Cu-In-Ga预置层，在常温下按
24、照一定的顺序溅射Cu、Ga和In。溅射过程中叠层顺序、叠层厚度和Cu-In-Ga元素配比对薄膜合金程度、表面形貌等影响尤为明显，并直接影响薄膜与Mo电极间的附着力。后硒化工艺的难点在于硒化过程。硒化过程中，使用的Se源有气态硒化氢(H2Se)、固态颗粒和二乙基硒( C2H5)Se2:DESe)等三种，下面介绍这三种硒源的硒化过程。,在H2Se硒化工艺中，气态H2Se一般用90%的惰性气体Ar或N2稀释后使用，并精确控制流量。硒化过程中，H2Se能分解成原子态的Se，其活性大且易于与预制层Cu-In-Ga化合反应得到高质量的CIGS薄膜。H2Se硒化装置比较简单，如图6. 11所示。硒化时，把惰
25、性气体稀释的H2Se通入硒化炉中，同时对预制层进行加热退火，即可得到CIGS薄膜。硒化过程中预制层的加热曲线对制备薄膜质量有很大影响。目前使用H2Se硒化最成功的工艺是快速热退火工艺 (RTP)。RTP工艺中，一薄层Se必须预先沉积在Cu-In-Ga预置层上，以防止薄膜缺Se。然后在1-2min把衬底温度快速提高到500以上，加热速率达到10k/s，对预制层进行退火。快速升、降温可以避免造成过多的材料损失和有害杂质的扩散和氧化。为提高表面的带隙可以通过H2S或者单质S再作S化处理。这种工艺大大缩短了时间，降低了加热成本，同时不影响薄膜的均匀性。这是因为RTP工艺的加热源面对衬底而不是从边缘加热
26、。德国Shell Solar GnbH用此法制备的30mX30cm组件的转换效率已经达到了14%，并且已经完成了20MW/a的生产厂。H2Se作为硒源的最大缺点是其有剧毒且易挥发，需要高压容器储存。固态Se源硒化是将Se颗粒作为硒源放人蒸发舟中。用蒸发方法产生Se蒸气对预制层进行硒化。优点是无毒、廉价，缺点是Se蒸气压难于控制，Se原子活性差，易于造成In和Ga元素的损失，降低材料利用率的同时导致CIGS薄膜偏离化学计量比。因此，需要对固态Se采用高温活化等措施。,固态硒源的硒化多以密闭式硒化工艺”为主，该方法可在薄膜硒化时获得很高的硒气压强，图6. 12为封闭式固态Se硒化装置图。在此装置中
27、，Se颗粒放在密闭的石墨盒中(也可以是不锈钢等密闭容器中)加热蒸发，对样片进行硒化。 “密闭式硒化工艺”可以用于批量化生产，将大批的已配比好的预置层衬底放入很大的密闭式硒化室内进行一次性硒化，Se源可采用固态或H2Se气体。但由于硒化装置热容量大。升降温时间长，对于金属预置层采用真空溅射工艺，不能与Se化工艺连续化作业，是影响生产效率的重要因素。真空溅射金属预置层后进行移动式硒化，在真空条件下完成CIGS薄膜制备的“敞空间硒化工艺”具有生产效率高的优点，该工艺使用固态Se或H2Se气体均可。固态Se源是将硒盒中的固态Se气化，由Ar气或其他惰性气体携带输送到加热的预置层衬底进行硒化，缺点是容易
28、造成Se压不足，影响CIGS薄膜的质量和大面积均匀性。有机金属Se源( C2H5)Se2:DESe)有望成为剧毒H2Se的替代硒化物。用MOCVD法已使用DESe制备出了高质量的Cu(Al,In,Ga)SeS2薄膜。相比于H2Se ，DESe在常温下是液体，可在常压不锈钢容器中储存，泄漏的危险更低。尽管目前每摩尔DESe的成本比H2Se物高5倍左右，但是由于DESe具有更高的分压，硒化等量的预置层的消耗量也仅为H2Se的1/31/4，综合比较使用DESe硒化的成本并不高。Chichibu等采用DESe硒化Cu-In和Cu-In-O预置层所制备的CIGS薄膜晶粒尺寸为1-2m，呈现了良好的结构特
29、性和光学特性，薄膜与衬底间也有良好的附着力。进一步的研究将使这种工艺应用于器件的制备。,1.3 非真空沉积方法和混合法工艺,2) 微粒沉积技术 美国国际太阳能技术集团(ISET)致力于非真空工艺的研发，并取得了超过10%的器件转换效率。沉积工艺如下:制备含有Cu、In的合金粉末:高纯度的金属Cu和In粉末按一定比例在高温氢气氛下熔融，成为液体合金。液体合金在氢气喷射下退火形成粉末，尺寸大于20m的粒子被筛选出来。Cu、In粉末被溶解于水，并加入润湿剂和分散剂。所制备的混合物在球形研磨器中研磨形成“墨水”。“墨水”被喷洒在覆有Mo的玻璃衬底上，并烘干形成预置层。预置层在95%N2+5%H2Se混
30、合气体中440硒化退火，得到满足化学计量比的薄膜。3) 喷雾高温分解法喷雾高温分解法(spay Pyrolysis)是一种潜在的、低成本制备CIGS薄膜的方法。工艺流程如下:首先把金属盐或者有机金属溶解形成溶液，一般选用CuCI2、InCl2及有机物混合溶液.然后把雾状溶液喷射在加热的衬底上，高温分解后得到CIGS薄膜。不同的溶液配比、衬底温度以及喷射速率都对制备的薄膜质量有影响。研究表明，通过控制工艺参数，可以抑制各种二次相的生成，并制备出厚度2m左右，具有良好结构和电学性能的CIGS薄膜。这种工艺的不足之处是制备的薄膜不致密，存在针孔，这将增大器件的串联电阻和降低填充因子。,4) 激光诱导
31、合成法此法是先连续蒸发沉积Cu, In,Ga和Se元素形成接近化学计量比的多层膜结构，然后把多层膜快速高强度的加热(如Ar离子激光器等)，形成CIGS薄膜。早在20世纪80年代，L.D. Laude等采用这种工艺制备了厚度为0.1m的CIGS薄膜，但薄膜太薄不适合于制备器件。单元素Cu层在In层和Se层之间，先熔化的In和Se渗透到Cu层中形成化学计量比的薄膜。薄膜的晶粒尺寸在0.1一1m，在使用高能激光的情况下，增大晶粒尺寸是可能的，材料的光学带隙0.95士0.1eV。5) 混合法工艺艺共蒸发工艺沉积的CIGS薄膜质量高，但是在大面积蒸发时，Cu蒸发源的蒸发速率很难控制，这是目前大面积共蒸发
32、工艺的一个难点。溅射工艺简单、易于大面积沉积，但薄膜质量稍差。美国EPV公司很好地结合了蒸发、溅射工艺的优点，研究出了混合法三步工艺。第一步与“三步共蒸工艺”的第一步基本相同，采用线性蒸发源蒸发In-Ga-Se预置层，这样可以增强薄膜的附着力并易于调整Ga的分布;第二步溅射Cu层，这样即可以精确控制Cu的含量还可以降低热损耗;第三步继续共蒸发ln-Ga-Se层，形成化学计量比的CIGS薄膜。采用混合法工艺。在CIGS 吸收层厚度为1.3m取得了14. 1%的转换效率，甚至在厚度0.71m时，电池的转换效率也达到了12. 1%。这说明混合法工艺在提高工艺重复性和降低材料成本方面具有广泛应用前景。
33、此外, 制备CIGS薄膜的方法还有液相沉积法、电泳沉积法,气相输运技术和机械化学法等。,2、 CIGS薄膜材料特性,CIGS是I一lll一Vl族化合物半导体材料，结构与ll一VI族化合物半导体材料相近。由于CIGS材料的研究起源于CIGS薄膜太阳电池的研究与发展，所以目前大家重点研究CIGS多晶薄膜。而对CIGS单晶材料的研究反而较少，这与Si, Ge及二元半导体InSb和GaAs的情况大不相同。尽管存在着晶界的影响，单晶和多晶薄膜材料依然有许多相似的特性。表6.3给出了CIS薄膜一般的待征参数。后面将对CIGS材料的结构、光电特性等做进一步阐述。 2.1 CIS和CIGS的晶体结构热力学分析
34、表明，CuInSe2固态相变温度分别为665和810，而熔点为987。低于665时，ClS以黄铜矿结构晶体存在。当温度高于810 时，呈现闪锌矿结构。温度介于665和810之间时为过渡结构。 ClS 两种典型结构如图6.13(a,b)所示。在ClS晶体中每个阳离子(Cu, In )有四个最近邻的阴离子(Se)。以阳离子为中心，阴离子位于体心立方的四个不相邻的角上，如图6.13(b)所示。同样，每个阴离子(Se)的最近邻有两种阳离子，以阴离子为中心。2个Cu离子和2个In离子位于四个角上。由于Cu和In原子的化学性质完全不同，导致Cu-Se键和In-Se键的长度和离子性质不同。以Se原子为中心构
35、成的四面体也不是完全对称的。为了完整地显示黄铜矿晶胞的特点，黄铜矿晶胞由四个分子构成，即包含4个Cu、4个In和8个Se原子，相当于两个金刚石单元。室温下，CIS材料晶格常数a =0.5789nm,c=1.1612nm,c/a的比值为2.006。Ga部分替代CulnSe2中的In便形成CuInxGa1-xSe2。由于Ga的原子半径小于In，随Ga含量的增加黄铜矿结构的晶格常数变小。如果Cu和In原子在它们的子晶格位置上任意排列，这对应着闪锌矿结构，如图6.13(a)所示。,2.2 CIS和CIGS相关相图,2.3 CIGS薄膜材料的光吸收和光学带隙,半导体材料的光吸收过程其实是其价带电子吸收足
36、够的能量之后的跃迁过程。这一过程与半导体的能带结构密切相关。研究证明，CIGS材料是一种直接带隙的半导体，具有高达105cm-1的光吸收系数，是制作薄膜太阳电池的理想材料。图6.1给出了几种半导体材料吸收系数与光子能量的关系。,2.4 CIGS薄膜的缺陷和导电类,2.5 Na对薄膜电学性能的影响,20多年前，人们就发现以钠钙玻璃为衬底的CIS薄膜太阳电池的性能远优于其他衬底。研究表明，是玻璃衬底中的Na进人CIS中起到优化的作用。只要Na在CIGS薄膜中占0.01%一0.1%的原子比例，就能明显提高太阳电池的光电转换效率。可以认为少量的Na是高效率CIGS薄膜太阳电池中必不可少的成分。加人Na
37、的传统方法是采用普通廉价的钠钙玻璃作为电池的衬底，此种玻璃中含有的Na可以通过Mo背电极向CIGS薄膜中扩散。可以想到，Mo层的结晶状态、形貌等性质会对Na的扩散产生影响。如果采用不含Na的其他材料做衬底，例如，各种柔性金属衬底材料和聚酞亚胺(PI)衬底，则必须采用适当的方法向CIGS薄膜中掺人Na。多年来，人们对Na在CIGS薄膜太阳电池中的作用机理进行了广泛深入的研究，提出了许多看法，目前尚无统一认识，大体有以下两种说法。,2.6 Ga或Ga/S掺杂与梯度带隙,在吸收层制备工艺中通过掺入适当的Ga形成CIGS化合物来调整带隙，实现太阳光谱的匹配优化，是提高电池性能的主要途径之一。对于获得较
38、高效率的电池，其吸收层稍微贫Cu。在生长CIGS薄膜的过程中，由于Cu ,In和Ga等元素扩散反应的机理不同，同时受化学组分、反应温度影响.薄膜中自然形成的线性带隙梯度为图6.19(a)所示。Mo背接触处存在的高Ga浓度所产生的宽带隙，为提高光生电流收集提供了良好的背面场。进一步地优化带隙分布，使之形成双带隙梯度见图6. 19(b)，不仅可以增强薄膜在Eg1hv2.42eV(CdS) 区间的光生载流子收集，而且通过Eg1调整Ec将pn结界面复合最小化，以获得最佳的Voc和Isc。获得这种双带隙结构的关键在于表层梯度的形成。目前只有多元共蒸三步工艺，能有效地利用元素蒸发速率、生长温度等工艺参数调
39、整，在薄膜表层形成宽带隙实现薄膜带隙的双梯度。利用后续的表层硫化工艺也可以将硒化工艺制备的薄膜带隙结构转变为图6. 19b的形状。Ga/S双渗杂是目前硒化法制备高效电池、组件的主要工艺。目前取得高效率电池的Ga/(In十Ga)比率为0.2-0.3% 。图6.20为Ga含量与薄膜中缺陷浓度的关系曲线，当Ga/(In十Ga)的比率在0.30左右时，薄膜的缺陷浓度最低。当Ga比率高于0.5后，离价带边0.8eV的缺陷能级移向带中形成附加的复合中心。同时薄膜中大量形成深施主GaCu(相对于InCu)，一方面减少了电子的自补偿能力而导致薄膜过高的空穴密度，另一方面通过降低缺陷对(VCu+InCu/GaC
40、u) 的稳定性而抑制了Cu缺陷薄层的形成，导致薄膜表面n型薄层的消失。,第三节 CIGS薄膜太阳电池的典型结构,图6.4已给出CIGS薄膜太阳电池的典型结构。除玻璃或其他柔性衬底材料以外，还包括底电极Mo层、CIGS吸收层、CdS缓冲层(或其他无镉材料)、i-ZnO和Al-ZnO窗口层、MgF2减反射层以及顶电极Ni-Al等七层薄膜材料。下面将分别叙述除吸收层CIGS外的其他各层材料的制备方法和性能。,1 Mo背接触层,背接触层是CIGS薄膜太阳电池的最底层，它直接生长于衬底上。在背接触层上直接沉积太阳电池的吸收层材料。因此背接触层的选取必须要求与吸收层之间有良好的欧姆接触，尽量减少两者之间的
41、界面态。同时背接触层作为整个电池的底电极，承担着输出电池功率的重任，因此它必须要有优良的导电性能。从器件的稳定性考虑还要求背接触层既要与衬底之间有良好的附着性，又要求它与其上的CIGS吸收层材料不发生化学反应。经过大量的研究和实用证明，金属Mo是CIGS薄膜太阳电池背接触层的最佳选择。图6.21给出了Mo/CIS间的能带图，可以看出，由于Mo和CIS之间形成了0.3eV的低势垒，可以认为是很好的欧姆接触。,Mo薄膜一般采用直流磁控溅射的方法制备。在溅射的过程中，Mo膜的电学特性和应力与溅射气压直接相关，Ar气压强低，Mo膜呈压应力，附着力不好，但电阻率小；Ar气压强高，Mo膜呈拉应力，附着力好
42、，但电阻率高。所以，采用先在较高Ar气压下沉积一层具有较强附着力的Mo膜，然后在低气压下沉积一层电阻率小的Mo膜，这样在增强附着力的同时降低背接触层的电阻，可以制备出适合CIGS薄膜电池应用的Mo薄膜。NR EL制备Mo背电极就是采用DC一磁控溅射双层Mo工艺。第一层在10mTor r的气压下溅射沉积0.1m的Mo层，与玻璃具有较好的结合力，电阻率较高为6x10-5.cm。第二层在1mTor r的气压下沉积0.9m，电阻率为1x10-5.cm 。这种双层的Mo是目前制备高效率CIGS薄膜太阳电他背电极通用工艺。Mo的结晶状态对CIGS薄膜晶体的形貌、成核、生长和择优取向等有直接的关系。一般来说
43、，希望Mo层呈柱状结构，以利于玻璃衬底中的Na沿晶界向CIGS薄膜中扩散，也有利于生长出高质量的CIGS薄膜。,2 CdS缓冲层,高效率Cu(In,Ga) Se2电池大多在ZnO窗口层和CIGS吸收层之间引入一个缓冲层。目前使用最多且得到最高效率的缓冲层是ll-Vl族化合物半导体CdS薄膜。它是一种直接带隙的n型半导体，其带隙宽度为2.4eV。它在低带隙的CIGS吸收层和高带隙的ZnO层之间形成过渡，减小了两者之间的带隙台阶和晶格失配，调整导带边失调值，对于改善pn结质量和电池性能具有重要作用。由于沉积方法和工艺条件的不同，所制备的 CdS薄膜具有立方晶系的闪锌矿结构和六角晶系的纤锌矿结构。这
44、两种结构均与CIGS薄膜之间有很小的晶格失配。CdS层还有两个作用:防止射频溅射ZnO时对CIGS吸收层的损害;Cd、S元素向CIGS吸收层中扩散。S元素可以钝化表面缺陷，Cd元素可以使表面反型。CdS薄膜可用蒸发法和化学水浴法(CBD)制备。CBD法得到广泛的应用。它具有如下一些优点（1）为减少串联电阻，缓冲层应尽量做薄.而为了更好地覆盖粗糙的CIGS薄膜表面，使之免受大气环境温度的影响，免受溅射ZnO时的辐射损伤，要求CdS层要致密无针孔。蒸发法制备的薄膜很难达到这一要求，CBD法可以做出既薄又致密、无针孔的CdS薄膜;（2）CBD法沉积过程中.氨水可溶解CIGS表面的自然氧化物，起到清洁
45、表面的作用;（3）Cd离子可与CIGS薄膜表面发生反应生成CdSe并向贫Cu的表面层扩散，形成CdCu施主，促使CdS/CIGS表面反型，使CIGS表面缺陷得到部分修复;(4)CBD工艺沉积温度低，只有60一80，且工艺简单。,化学水浴法中使用的溶液一般是由镉盐、硫脲和氨水按一定比例配制而成的碱性溶液，有时也加人氨盐作为缓冲剂。其中镉盐可以是氯化镉、醋酸镉、碘化镉和硫酸镉，这就形成了CBD法制备CdS薄膜的不同溶液体系，但其反应机理是基本相同的。一般是在含Cd2+的碱性溶液中硫脲分解成S2-离子，它们以离子接离子的方式凝结在衬底上。将玻璃/Mo/CIGS样片放入上述溶液中，溶液置于恒温水浴槽中
46、，从室温加热到6080并施以均匀搅拌，大约30min以内便可完成。CBD工艺制备CdS薄膜的装置见图6.22。CdS材料存在着明显的绿光(Eg2.42ev)吸收，显然不利于短波谱段的光生电流收集。随CdS层厚度或CdS薄膜中缺陷密度的增加，不仅会降低短路电流密度Jsc，还会使CuInSe2和低Ga含量CIGS电池出现明显的J一V扭曲现象。薄化CdS层(50nm)可以基本消除J一V扭曲，从而提高填充因子值。另外，工艺过程中含Cd废水的排放以及报废电池中Cd的流失均造成环境污染，这无疑是使用CdS缓冲层的缺点。,3 氧化锌(ZnO)窗口层,在CIGS薄膜太阳电池中，通常将生长于n型CdS层上的Zn
47、O称为窗口层。它包括本征氧化锌(i-ZnO)和铝掺杂氧化锌(Al-ZnO)两层。ZnO在CIGS薄膜电池中起重要作用。它既是太阳电池n型区与p型CIGS组成异质结成为内建电场的核心，又是电池的上表层，与电池的上电极一起成为电池功率输出的主要通道。作为异质结的n型区，ZnO应当有较大的少子寿命和合适的费米能级的位置。而作为表面层则要求ZnO具有较高的电导率和光透过率。因此ZnO分为高、低阻两层。由于输出的光电流是垂直于作为异质结一侧的高阻ZnO，但却横向通过低阻ZnO而流向收集电极，为了减小太阳电池的串联电阻，高阻层要薄而低阻层要厚。通常高阻层厚度取50nm，而低阻层厚度选用300一500 nm
48、。ZnO是一种直接带隙的金属氧化物半导体材料，室温时禁带宽度为3.4eV。自然生长的ZnO是n型，与CdS薄膜一样，属于六方晶系纤锌矿结构。其晶格常数为a=3.2496埃，c=5.206埃，因此ZnO和CdS之间有很好的晶格匹配。,由于n型ZnO和CdS的禁带宽度都远大于作为太阳电池吸收层的CIGS薄膜的禁带宽度，太阳光中能量大于3.4eV的光子被ZnO吸收，能量介于2.4ev和3.4eV之间的光子会被CdS层吸收。只有能量大于CIGS禁带宽度而小于2.4eV的光子才能进入CIGS层并被它吸收，对光电流有贡献。这就是异质结的“窗口效应”(如果，ZnO和CdS很薄，可有部分高能光子穿过此层进入C
49、IGS中)。可以看出， CIGS 太阳电池似乎有两个窗口。由于薄层CdS被更高带隙且均为n型的ZnO覆盖，所以CdS层很可能完全处于pn结势垒区之内使整个电池的窗口层从2. 4 eV扩大到3.4eV。从而使电池的光谱响应得到提高。ZnO的制备方法很多，其中磁控溅射方法具有沉积速率高、重复性和均匀性好等特点成为当今科研和生产中使用最多、最成熟的方法。此法沉积的高低阻ZnO在波长300700nm的透过率均大于85%。高阻ZnO的电阻率为100-400.cm、低阻Zn的电阻率为510-4 .cm ，均能很好地满足CIGS薄膜太阳电池的需要。,4 顶电极和减反膜,CIGS薄膜太阳电池的顶电极采用真空蒸
50、发法制备Ni-A1栅状电极。Ni能很好地改善Al与ZnO:Al的欧姆接触，见图6 .23，同时，Ni还可以防止A1向ZnO中的扩散，从而提高电池的长期稳定性。整个Ni-Al电极的厚度为1一2m，其中Ni的厚度约为0.05m。太阳电池表面的光反射损失大约为10%。为减少这部分光损失。通常在ZnO表面上用蒸发或者溅射方法沉积一层减反射膜。在选择减反射材料时要考虑以下一些条件:在降低反射系数的波段，薄膜应该是透明的;减反膜能很好地附着在基底上;要求减反膜要有足够的机械性能，并且不受温度变化和化学作用的影响。在满足上述条件后.减反膜在光学方面有如下一些要求:(1) 薄膜的折射率n1应该等于基底材料折射率n的平方根，即n1=n1/2。对CIGS薄膜电池来讲，ZnO窗口层的折射率为1 .9，故减反射层的折射率应为1.4左右，MgF2的折射率为1.39，满足CIGS薄膜电池减反射层的条件。(2) 薄膜的光学厚度应等于该光谱波长的1/4，即d=/4。目前，仅有MgF2减反膜广泛应用于CIGS薄膜电池领域，并且在最高效率CIGS薄膜电池中得到应用。,
