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Mentor_Graphics公司软件介绍.doc

上传人:精品资料 文档编号:9777793 上传时间:2019-09-03 格式:DOC 页数:2 大小:33KB
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1、 Mentor Graphics 公司软件介绍软件名称 软件特点 适合范围系统单芯片验证系列随着芯片设计的日趋复杂,如何验证产品的功能,确认它们的表现符合原来的设计要求,这已变成一个困难的挑战,Mentor 提供了许多重要工具,让客户得以解决这方面的问题。在硬件描述语言的仿真、硬件与软件的协同验证、多核心内嵌式系统的除错以及可测试设计(Design-for-Test)等方面,Mentor 都居于市场领先的地位;此外,在美 125国以外的地区,Mentor 也是仿真工具市场的领导厂商,因此公司有能力协助客户解决这方面的问题 无论是今天正在面对的设计困难,或是明天即将面对的设计挑战。Seamles

2、s:可提供早期而精确的硬件软件协同验证; Nucleus:嵌入式实时操作系统; XRAY:芯片制造前与制造后的软件除错工具; FastScan:芯片测试资料的自动产生工具; VStation 和 Celaro:硬件仿真工具/虚拟原型建构系统。硬件描述语言与FPGA 设计在 VHDL 及混合硬件描述语言的仿真、FPGA 组件的合成、以及设计的捕捉与管理等方面,Mentor Graphics 都是市场的领导厂商,这让公司成为百万逻辑闸等级的 FPGA 设计领域里,唯一有能力提供整合式设计解决方案的厂商;除此之外,无论是高阶硬件描述语言的设计与仿真,或是设计的捕捉与管理等方面,Mentor 也提供了

3、非常杰出的独立应用工具。 ModelSim:提供数字仿真的功能;HDL Designer Series:设计的输入、分析与管理工具; Precision Synthesis:强大的FPGA 合成解决方案。 实体设计与分析随着深次微米制程技术的不断发展,它也带来了许多复杂的实体效应,设计人员必须克服这些效应所产生的影响,才能把他们的设计转换为实际的芯片。Mentor 是实体验证市场的领导厂商,公司提供了整套的工具,让设计人员能在制程日渐精密的组件设计中,迅速找出及修正其中的所有重要错误。Calibre:速度最快且结果最精确的深次微米设计实体验证工具; Calibre OPC 与 PSM:次波长光

4、学制程修正及相偏移光罩的发展工具;ADvance MS:混合模拟讯号设计解决方案; Eldo:晶体管阶层的仿真工具; EldoRF:射频分析工具; IC Station:全订制型集成电路设计与察看的整合式工具流程。电路板与系统设计今天,全世界许多最大的系统设计公司都在使用 Mentor 提供的工具与组件库,而且随着公司最近在这个产品线上所做的投资,Mentor 已经做好了准备,有能力协助客户升级到新一代系统设计工具与方法,让他们能够很快的完成设计工Board Station系列:不受限制的企业设计环境; Expedition系列:最适合个别设计人员或小型工程团队的设计环境;AutoActive RE:最佳的绕线作业作 即使在电路复杂性迅速成长的压力下。环境,不但能立刻增加工程师的生产力,还能与 Expedition 及 Board Station 整合在一起。 DMS:数据管理系统。

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