1、ITO 电化学腐蚀规律研究 材料科学系 蒋程 捷 顾雄 指导老师: 蒋益明 摘要: 建立 电化学 极化曲线扫描 方法, 表征 ITO(氧化铟锡)透明导电薄膜电化学腐蚀现象,发现 ITO 薄膜阴极极化下发生严重电化学腐蚀。利用 SEM 和 XRD 分析了 ITO 腐蚀产物,并通过极化曲线和四探针法测方块电阻得到 ITO 的腐蚀随电压、 pH 值、氯离子浓度的变化规律。结果表明, ITO 经腐蚀后三价的铟转化为单质的铟,且 ITO 腐蚀的强度随电压、酸度(或碱度)、氯离子的浓度的增大而增强。 该研究对理解氧化物腐蚀特殊规律,促进低腐蚀率优良 ITO 薄膜制备技术发展就有重要意义。 关键词 : IT
2、O 薄膜 极化曲 线 电化学腐蚀 引言 In2O3:Sn( ITO) 透明导电氧化物薄膜 具有电阻率低、 高可见光率、高红外光反射率、 易刻蚀和易低温制备等优点, 是平板显示器件三大关键材料之一,广泛应用于光电信息显示产业,对平板显示器件的质量和成本起着至关重要的作用。 一般而言, ITO 是空气稳定性的材料, 但是近年来随着制备工艺日趋多样化及使用条件日趋复杂化,由于 ITO 腐蚀而导致器件失效的问题日渐突出 , 众多的平板显示生产线上已经不同程度出现了 ITO 腐蚀问题。 例如在加工制备过程中 ,主流 ITO 象素电极的制造工艺均采用湿法刻蚀,刻蚀液是由 HCl、 HNO3 和H2O 组成
3、的 混酸,这种刻蚀的本质 就是 电化学腐蚀 1,因版图设计的电极走线不当而 产生 缝隙腐蚀等; 在 使用过程 中, 由 于 受 到 空气中水氧 2-4、杂质(如氯离子)等因素影响 , 电极之间存在的电压差 引的起 电化学腐蚀 导致器件 性能下降 5;在 返修 过程 中 , 数据线金属成膜 可能会 引入一些灰尘杂质 和 盐酸 、 硝酸混合刻蚀液 , 灰尘杂质、金属膜和刻蚀液就构成了微观原电池, 产生 电化学腐蚀 。 由此可见, ITO 薄膜 电化学 腐蚀是个极其重要的问题,它在平板信息显示产业的各个环节都不可避免地存在着。 深入系统 地 研究 ITO 电化学 腐蚀 规 律和机理, 可以为 平板显
4、示器件腐蚀失效分析、寿命评估、防腐抗蚀以及功能薄膜的制备提供重要理论依据和应用指导 , 对低缺陷 TFT-LCD 平面显示器件的实现、提高平面显示阵列基板的良品率、器件的可靠性与失效分析以及寿命评估都具有显著的 科学意义和 实际意义 。 目前 ITO 透明导电薄膜的研究主要在新型透明导电氧化物薄膜的开发,新工艺的探索,薄膜光电性能的表征,器件制备等方面。对腐蚀方面的研究 还 未引起足够重视 , 国际上与 ITO 有关腐蚀的报道寥寥无几。如 Scott 等人 7采用 FTIR光谱研究了 ITO/MEH-PPV 界面,发现氧会 透过 ITO 进入高分子材料,使得组件操作前与操作后 ITO 与高分子
5、间会产生许多反应 8-11; Folcher 等 14,15研究了 ITO在 HCl 溶液中的电化学腐蚀行为,采用 QCM 获取 ITO 的腐蚀动力学规律结合SEM 观察腐蚀形貌 ; 姜妍彦等 16研究了不同铅离子注入程度的 ITO 在酸碱溶液中的电化学稳定性,采用方块电阻间接获取了 ITO 在酸碱溶液中的腐蚀动力学规律。以上研究涉及腐蚀动力学 规律 、腐蚀产物的定性讨论, 并且 都不同程度地观察到了 ITO 腐蚀产物。 但是由于 ITO 是一种特殊的、非化学计量的功能氧化物薄膜,它的独特 结构必然导致一系列电化学方面的新现象和规律 ,目前对 ITO透明导电氧化物薄膜腐蚀研究还是非常不深入和
6、不 系统的, 由于表征技术上的局限, ITO 相关的腐蚀机制、电化学交互反应机理尚未被澄清 ; ITO 的处理和与之对应的防腐机制研究 相对 缺乏 ; 低腐蚀速率的优良 ITO 薄膜制备技术也处于起步阶段。 由于氧化物薄膜相关腐蚀研究刚刚起步,因此本课题首先建立电化学极化曲线扫描方法表征 ITO电化学腐蚀,然后研究了不同条件下 ITO电化学腐蚀规律,该研究 对理解氧化物腐蚀特殊规律,促进 ITO 刻蚀工艺和低腐蚀率优良 ITO 薄膜制备技术 发展就有重要意义。 1 实验 实验材料: ITO 薄膜, 深圳南方玻璃有限公司 生产(透射率 =83%、 面电阻 =10 / ,厚度 180 nm)。 实
7、验用试剂: NaCl 分析纯 500 g/瓶 上海文 旻 生化科技有限公司 NaOH 分析纯 500g/瓶 上海大合化学有限公司 KCl 分析纯 500g/瓶 上海展云化工有限公司 无水乙醇 分析纯 500ml/瓶 上海振兴化工一厂 硫酸 浓度 95%-98% 500ml/瓶 太仓市直塘化工有限公司 盐酸 浓度 36.0%-38.0% 500ml/瓶 太仓市直塘化工有限公司 Na2B4O7 10H2O 500g/瓶 江苏强盛化工有限公司 KH2PO4 500g/瓶 上海文 旻 生化科技有限公司 Na2HPO4 12H2O 500g/瓶 上海文 旻 生化科技有限公司 琼脂粉 BR 100g/瓶
8、上海文 旻 生化科技有限公司 分析仪器: 电化学测试:电化学工作站( CHI660B,上海辰华仪器厂); pH 值测量: 精密酸度计 ( PHS-2C(A)型 ); 电阻率测试:半导体电阻率测试仪( BD-86A 型); 结构分析: X 射线衍射仪( Rigaku D/max-B X-ray diffractometer) , Cu-K 源,扫描速率为 1.2/ min; 表面形貌观察:扫描电子显微镜 ( FE-SEM, Philips-XL30) ; ITO 透射光谱 : CVI 240; 将 ITO 玻璃切割成 1cm 2cm 的 小块 ,并在有 ITO 薄膜的一侧用石蜡封上铜导线,制成实
9、验时所使用的 电极 (如图 1 所示)。 ITO 的电化学腐蚀 测试 采用传统的三电极体系(如图 2 所示), 工作电极是 ITO 薄膜, 饱和甘汞电极作为参比电极,铂 片 作为对电极 。 图 1 实验所制的样品 图 2 标准三电极电解池 2 结果与讨论 2.1 ITO 电化学 腐蚀产物 2.1.1 ITO 电化学 腐蚀 将 ITO 薄膜在 0.1M 的 NaOH 溶液中分别进行阳极 极化 和阴极 极化 , 阳极极化过程中 ITO 薄膜没有发生变化;而阴极极化过程中, ITO 透射率逐渐降低,同时参比电极表面产生大量气泡。极化 前后 ITO 薄膜透射率和循环伏安曲线分别如图3 和图 4 所示
10、, 可见, ITO 作为阳极时基本不发生腐蚀,而作为阴极时 则 发生了强烈的 电化学 腐蚀。 -0 .8 -0 .6 -0 .4 -0 .2 0 .0 0 .2 0 .4 0 .6 0 .8-0 .0 0 0 0 20 .0 0 0 0 00 .0 0 0 0 20 .0 0 0 0 40 .0 0 0 0 60 .0 0 0 0 80 .0 0 0 1 00 .0 0 0 1 2Current/(A/cm2)Po ten ti al /V vs . S CEb e f o re ca t h o d i z a t i o na f t e r ca t h o d i z a t i o
11、n400 500 600 700 800 900 1000 1100020406080100Transmittance/%Wa v el en gth /n ma s re ce i v e da f t e r a n o d i z a t i o n a t 1 . 5 Va f t e r ca t h o d i z a t i o n a t -1 . 5 V图 3 ITO 的循环伏安曲线 图 4 ITO 的薄膜透射率曲线 2.1.2 腐蚀产物的 SEM 图像 图 5 为 ITO 腐蚀产物 SEM 扫描图像, a.未腐蚀 ITO 表面 b.阳极腐蚀后 ITO 表面 c.0.1mol
12、/L 的 NaOH, -1.5V 电压阴极腐蚀后的表面 d.0.05mol/L 的 H2SO4 溶液中 , -1.0V 电压阴极腐蚀后的表面 e.0.1mol/L 的 NaOH 溶液中 , -1.5V 电压阴极腐蚀 并在 0.05mol/L 的 H2SO4 浸泡 后的表面 图 5 ITO 在不同条件下腐 蚀后的 SEM 图像 从图中可以看出, ITO 经过阴极腐蚀后,表面变得凹凸不平,无规则地附着着白色颗粒。而在酸中 浸泡一段时间发现白色颗粒消失了 。 2.1.3 腐蚀产物 XRD 分析 腐蚀产物 XRD 结果如图 6 所示。可以看出,经过阳极腐蚀的 XRD 结果与原样几乎完全相同,也印证了
13、ITO 在阳极不发生腐蚀;而阴极腐蚀的 XRD 结果多出了三个峰。查阅数据后得到,此三个峰与铟的 XRD 峰对应,可以判断,腐蚀产物的白色颗粒是铟 (In)单质。因而可以认为,在腐蚀过程中, ITO 中三价铟被还原为了单质的铟,相应地在阳极负二价的氧则被氧化为了氧气 从而产生气体释放出来。 图 6 三种样品的 XRD 结果 2.2 电 位 对 ITO 电化学腐蚀 的影响 为考查阴极电位对 ITO 腐蚀的影响,将 ITO 薄膜置于 0.1mol/L 的 NaOH 溶液中,分别施加 -1.4V,-1.45V,-1.5V,-1.6V 电位,扫描极化曲线,结果如图 7所示。 当腐蚀电压 低于 -1.4
14、V 时, 极化 曲线没有 变化, 实验的样品几乎完全没有变化。 只有当阴极电压大于 -1.4V 时,才发生 电化学腐蚀,因此 可以认为,在0.1mol/L 的 NaOH 溶液的介质中, -1.4V 为 ITO 发生电化学腐蚀的临界电压。图 8 为不同腐蚀电压 下,腐蚀电流密度达到峰值的时间,图中可以看出,随着腐蚀电压增加,达到峰值电流密度的时间迅速减小。 当腐蚀电压进一步提高时, ITO薄膜上开始冒出大量的气泡,此时水的电解作用开始加强,将会影响对 ITO 电化学腐蚀的测量,因而不再提高腐蚀电压。通过以上实验现象,可以得到 ITO的电化学腐蚀随电压的增大而加剧,并且存在一个临界电压,在此电压以
15、 下 ITO基本不发生腐蚀,而当大于此电压时, ITO 的腐蚀迅速加剧。 图 7 ITO 在 0.1mol/L 的 NaOH 溶液中在不同腐蚀电压下的极化曲线 图 8ITO 在 0.1mol/L 的 NaOH 溶液中达到极化电流峰值时间随电压的变化图表 2.3 pH 值对 ITO 的电化学腐蚀 的影响 2.3.1 腐蚀时间随 PH 的变化 如图 9 为 pH 值下的 ITO 阴极 极化曲线, 可见 随着 pH 值增加 , 腐蚀电流密度增加 。当 pH 值降至 11 以下后, ITO 的腐蚀开始变得十分缓慢,当 pH 值 大于12.5 后,随着 pH 值的增大, 达到峰值腐蚀电流密度时间几乎不变
16、,如图 10 所示,这表示 腐蚀反应的剧烈程度不再明显增大。 图 9 腐蚀电压 1.5V 时不同 PH 值下的极化曲线 图 10 最大腐蚀电流出现时间随 PH 值大小变化图表 2.3.2 样品 方块电阻随 pH 的变化 将不同 PH 值下腐蚀后的 ITO 样品进行方块电阻的测量。由于样品的面积有限,不同位置所测得的方块电阻的大小不同,因而对一样品的不同位置分别进行测量并进行对比。考虑到方块电阻的测量适合于大面积的薄膜的测量,而实验所使用的 ITO 样品大小偏小,故选取样品中心处的测量值作为该样品的方块电阻大小。先对未发生腐蚀的 ITO 样品进行测量,可以得到此样品的方块电阻的大小约为 20/
17、。使用不同浓度的 NaOH 溶液作为腐蚀介质,多次测量后得到图11 所示。随着 pH 值的增大,腐蚀样品的方块电阻也随之增大 ,当 pH 值的大小为 13.23 时,方块电阻的大小已超 出 量程, 大于 20000/ 。可见,随着 pH 值的增大,腐蚀反应进行得越剧烈, ITO 腐蚀率越大, 腐蚀反应后的样品的方块电 阻也就越大。 图 11 腐蚀产物方块电阻的大小随 PH 值的变化 2.4 ITO 的电化学腐蚀在酸性环境中随电压的变化 与在碱性 条件 下不同,在酸性条件下, 阴极 电压增大容易引 起 水电解 析氢 ,因此酸性条件下阴极腐蚀电压范围控制在 -0.8V 1.0V。图 12 表示 0
18、.05mol/L 的H2SO4 溶液 中 , 不同阴极电压下 ITO 腐蚀极化曲线, 图中可以看出, 随着电压的增大, 腐蚀电流密度增大,相应的 腐蚀反应的剧烈程度也增加,相 对 于碱性条件,酸性条件下腐蚀 反应更容易发生。 图 12 在 0.05mol/L 的 H2SO4 溶液中不同电压下的 ITO 腐蚀极化曲线 2.5 氯离子对 ITO 的电化学腐蚀的影响 对一般材料而言,氯离子的存在将诱发并加剧腐蚀 17, ITO 电极在加工工艺和使用过程中不可避免的接触到氯离子 18,因此考查氯离子对 ITO 电化学腐蚀的影响具有重要的实际意义。图 13 为 在 0.1mol/L 的 NaOH 溶液中
19、加入不同浓度的 NaCl 溶液,在 -1.5V 的腐 蚀电压下的极化曲线,可见,随着氯离子浓度的增加 ,达到峰值电流的时间逐步减少,相应 ITO 的腐蚀也变得剧烈。在反应的过程中,氯离子得到一个电子而转变为氯原子,氯原子与铟氧键作用而将其打开,形成新的化合物,从而加速了腐蚀反应的发生。 19 图 13 腐蚀电流 -1.5V, 0.1mol/L 的 NaOH 溶液中,不同浓度 氯离子下 ITO 腐蚀 的极化曲线 3 结论 对 ITO薄膜分别进行阴极极化和阳极极化,发现 ITO为阳极时不发生腐蚀,而作为阴极时会发生明显的 电化学 腐蚀现象。 改变 环境参数 ,研究了 ITO 阴极电化学腐蚀 规律,
20、 得到如下结果:一、 ITO 阴极腐蚀 存在一个临界电压,在此电压以下 ITO 基本不腐蚀,而超过这一电压后会发生 电化学 腐蚀 ,且随着阴极电压的增大,腐蚀电流密度增加; 二、 ITO 薄膜在酸性条件下更容易发生电化学腐蚀,腐蚀电流密度 随 着 酸度的增大而增强,在碱性条件下, ITO 的腐蚀随碱度的增大而增强;三、氯离子 将 加速 ITO 电化学 腐蚀, 腐蚀 程 度随 氯离子浓度 的增大而增强 。 参考文献 1 M. Scholten and J.E.A.M. van den Meerakker, J. Electrochem. Soc. 143, 442 (1993) 2 M. Pow
21、alla, D. Hariskos, E. Lotter, M. oertel, J. Springer, D. Stellbogen, B. dimmler and R. Schaffler, Thin Solid Films 431-432, 523 (2003) 3 J.S. Hong, B.R. Rhee, H.M. Kim, K.Ch. Je,Y.J. Kang and J.S. Ahn, Thin Solid Films 467, 158 (2004) 4 Y. H. Kim, S. H. Lee, J. Noh and S. Han, Thin Solid Films, 510,
22、 305 (2006) 5 H. Cachet, M. Froment and F. Zenia, J. Electrochem. Soc., 143 (1996) 203 6 林鸿涛,刘伟,现代显示, 66, 24( 2006) 7 J. C. Scott., J. H. Kaufman, P.J. Brock, R. DiPietro, J. Salem, J. Appl. Phys. 79, 2745 (1996) 8 C. I. Chao, K. R. Chuang, and S. A. Chen, Appl. Phys. Lett. 69, 2894 (1996) 9 A. R. S
23、chlatmann, D. W. Floet, A. Gilberer, F. Garten, Appl. Phys. Lett. 69, 1764 (1996) 10 E. Gautier, A. Lorin, J. M. Nunzi, A. Schalchli, J. J. Benattar, Appl. Phys. Lett. 69, 1071 (1998) 11 C. Guillen and J. Herrero, Surface & Coatings Technology 201, 309 (2006) 12 J. McElvain, H. Antoniadis, M. R. Hue
24、schen, J. Appl. Phys. 80, 6002 (1996) 13 H. Aziz, Z. Popovic, C. P. Tripp, N. X. Hu, A. M. Hor, and G. Xu, Appl. Phys. Lett. 72, 2642 (1998) 14 G. Folcher, H. Cachet, M. Froment and J. Bruneaux, Thin Solid Films 301,242 (1997) 15 R. Subasri and T. Shinohara, Electrochemistry Communications, 5, 897 (
25、2003) 16 姜妍彦,满金仓,史维东,刘振民,材料导 报, 13, 66( 1999) 17 H. Cachet, M. Froment and F. Zenia, J. Electrochem. Soc., 143_1996.442. 18 彭雅芳,蒋益明,俞宏坤,复旦学报已录用待发表 19 G. Folcher, H. Cachet ), M. Froment, J. Bruneaux Anodic corrosion of indium tin oxide films induced by theelectrochemical oxidation of chlorides, Thin Solid Films 301_1997.246248 致谢: 感谢 指导老师蒋益明在实验项目的过程中对我们的帮助与指导,也要感谢材料科学系物理电子学研究生王浩在实验过程中对我们的帮助与启发 ,使得没有学术经验的我们可以比较顺利地完成此项工作。