1、材料试样显微组织显示(下),不锈钢 (Fe - 0.15% C - 0.15% S 13% Cr) 热变形 (约 98 HRB). Beraha CdS 试剂腐蚀. 白色晶粒为铁素体, 灰色细长条物为硫化锰, 其余为马氏体. 水平方向为试样的纵向.,碳素工具钢(1.05%C)球化退火组织 钼酸钠试剂腐蚀.渗碳体颗粒(棕红色)和铁素体基体均被染色,Fe-1%C 二元合金热轧组织中的渗碳体Beraha 钼酸钠试剂染色腐蚀. 箭头处为自原奥氏体晶界析出的先共析渗碳体. 珠光体中的渗碳体也被染色. 明视场照明.,Beraha 含硒酸腐蚀剂 用于铜合金300 mL 乙醇 2 mL HCl 0.5 1 m
2、L 硒酸 储存于暗色瓶中 浸蚀,退火并冷拉海军黄铜(Cu 39.7% Zn 0.8% Sn) 横向截面用Beraha硒酸试剂腐蚀,在偏振光下观察. 相被染色并有退火挛晶,相染色不均匀,热挤压并冷拉Muntz金属(Cu- 40% Zn), Beraha硒酸试剂染色腐蚀,有孪晶的FCC 晶粒染色成黄红色; 相不均匀染色,其周围边界为浅兰色. 明视场.,Beraha 磺酰胺酸腐蚀剂,Beraha 基于HCl和K2S2O5的腐蚀剂,奥氏体不锈钢(Fe-0.08%C-18%Cr-9%Ni-3.5%Cu) 热轧及固溶退火 Berahas BI 试剂腐蚀. 等轴有孪晶的FCC奥氏体晶粒. 微弱的垂直线是合金
3、的偏析造成的(垂直方向为试样的纵向) 偏振光+灵敏色片,Hadfield 热变形高锰钢 (Fe-1.12%C-12.7%Mn-0.31%Si) 固溶处理 Beraha 3号磺酰胺酸试剂腐蚀, 偏振光加灵敏色片. 有退火孪晶的奥氏体晶粒.,Fe-39%Ni 变形合金, 退火 用Beraha 磺酰胺酸 3号试剂腐蚀 偏振光加灵敏色片不同取向并有退火孪晶的奥氏体晶粒.,古罗马时代熟铁铁钉(钉头下面部分), Beraha磺酰胺酸腐蚀剂腐蚀 在偏振光加灵敏色片照明条件下观察. 显示出不同取向的铁素体晶粒; 铁素体内的变形孪晶即纽曼(Neumann)带; 深棕红色条状炉渣 (中部垂直向上偏右方向);,7M
4、o双相不锈钢中的奥氏体, 铁素体, 和相816 退火并时效 48 h 电解腐蚀 部分铁素体 (棕黄色) 转变为相 (橙色) 还有新形成的奥氏体, 原奥氏体未被染色,微差干涉衬度(DIC)照明光路原理图 DIC (Differential Interference Contrast) 1.光源 2. 起偏振器 3. 入射光反射器 4. DIC 棱镜5. 反射光物镜 6. 试样表面 7. 检偏振器 7a.波片,关于微差干涉衬度(DIC)的译名 DIC (Differential Interference Contrast)不少显微镜公司把微差干涉衬度译为微分干涉衬度或微分干涉对比其实,这里的dif
5、ferential 一词丝毫没有“微分”的意思.这里的differential 一词是指试样表面不同相,或不同取向的晶粒,或不同组织之间的微小高低差别,微差干涉衬度 (DIC) 照明 对色彩的作用 调节沃勒斯顿(Wollaston)棱镜 产生不同色彩 色彩显示高度差别 色彩没有物理意义 试样无须腐蚀,工业纯铁在低温下受冲击载荷后产生的变形孪晶,又称Neumann带(左)明视场 (右)DIC照明,铝青铜 抛光后未经腐蚀 明视场,铝青铜 抛光后未经腐蚀 DIC,Al-Fe-Mg-Mn 未经腐蚀 明视场,Al-Fe-Mg-Mn 未经腐蚀 DIC,Al-Fe-Mg-Mn 未经腐蚀 DIC 照片旋转18
6、0显微组织的凸凹情况与上图相反,Fe-Si 合金 未经腐蚀 明视场,Fe-Si 合金 未经腐蚀 DIC,Fe-Si-Cr-Mn 合金 未经腐蚀 DIC,Fe-0.12%C-0.6%Mn-0.25%Si-30%Ni合金. 抛光后放入液氮中, 使奥氏体通过切变转变为马氏体, 产生表面浮突. 未经腐蚀, DIC 照明.,Cu 26% Zn 5% Al形状记忆合金 在FCC 基体上的1马氏体未经腐蚀 DIC照明,Au 19% Cu 5% Al, 一种新的珠宝合金,利用马氏体相变使表面形成闪闪发亮的波纹状. 试样抛光后加热到100C,保持2 min, 然后淬入水中.由于马氏体通过切变形成使表面呈波纹状,
7、再抛光后又形成新的马氏体,从而形成交叉状形貌.未经腐蚀. DIC照明,含填料的高密度聚乙烯, 抛光未经腐蚀, DIC照明.,染色腐蚀技术并不是单纯地为了使显微组织好看,而是为了增强显微组织的反差,更好地分辨出组织细节中的不同相和不同取向的晶粒以及显微偏析的程度,人的眼睛只能辨别为数不多的不同灰度色调(包括黑与白),但是却能够分辨上千种只有细微差别的颜色.,材料试样显微组织的彩色显示以及暗视场、偏振光、DIC等照明方式的广泛使用,对试样制备的质量提出了更高的要求.任何微小的制备缺陷都会暴露无疑,从而显著降低最终显微组织的质量.,只有使用半自动制样设备新型制备表面以及新型磨料(特别是胶体状非晶态二
8、氧化硅单晶金刚石和多晶金刚石),才有可能高效率地制备出高质量并具有重现性的试样.,纯铜的滑移痕迹（DIC照明, 500X）（振动抛光后用台钳夹紧并稍加压力，使自由表面产生塑性变形,出现滑移台阶）,纯铜的滑移痕迹（DIC照明, 500X）（上述试样同一视场,移动 Normaski 棱镜,使呈现橙红色）,超合金材料上的显微硬度压痕(DIC照明, 500X）（压痕附近的滑移痕迹和棱角状橙色TiN夹杂）,对于某些组织比较复杂的试样,例如氮化铝的金镍钼镀层,需要利用显微镜的多种照明方式,才能将镀层的显微组织看清.,氮化铝基底上的钼镍金镀层(明视场照明,400X),氮化铝基底上的钼镍金镀层(暗视场照明,400X),氮化铝基底上的钼镍金镀层(DIC照明,400X),电子元件(明视场照明)铜(圆状区域)以及不同类型的纤维板,电子元件(暗视场照明)金属与陶瓷元件和不同相之间可清晰分辨,
