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电工学半导体器件.ppt

上传人:hwpkd79526 文档编号:7272610 上传时间:2019-05-12 格式:PPT 页数:46 大小:1.23MB
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资源描述

1、,海南风光,10.1半导体的基础知识,P型硅,N型硅 10.2 PN结及半导体二极管 10.3 稳压二极管 10.4 三极管,第10章 半导体器件,中国矿业大学(北京)信息所,模拟电路:研究输出与输入信号之间的大小、相位、失真等方面的关系。基本电路元件:晶体管、场效应管、集成运算放大器。基本模拟电路:信号放大及运算(信号放大、功率放大)、信号处理(采样保持、电压比较、有源滤波)、信号发生(正 弦 波发生器、三角波发生器等)。 研究方法:建立等效模型,近似计算。,10.1.1 本征半导体,现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗,它们的最外层电子(价电子)都是四个。,10.1 半导体的基本知识,硅

2、和锗的共价键结构,共价键共 用电子对,+4表示除去价电子后的原子,完全纯净的、结构完整的半导体晶体,称为本征半导体。本征半导体的导电能力很弱。,10.1.2杂质半导体,在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就会使半导体的导电性能发生显著变化。,N型半导体(主要载流子为电子,电子半导体) P型半导体(主要载流子为空穴,空穴半导体),N型半导体,多余电子,磷原子,硅原子,硅或锗 +少量磷 N型半导体,空穴,P型半导体,硼原子,硅原子,空穴被认为带一个单位的正电荷,并且可以移动,硅或锗 +少量硼 P型半导体,杂质半导体的示意表示法,10.2.1 PN 结的形成,在同一片半导体基片上,分别制造P型半导体和

3、N型半导体,经过载流子的扩散,在它们的交界面处就形成了PN结。,10.2 PN结及半导体二极管,P型半导体,N型半导体,空间电荷区,PN结处载流子的运动,扩散的结果是使空间电荷区逐渐加宽,空间电荷区越宽。,内电场越强,就使漂移运动越强,而漂移使空间电荷区变薄。,所以扩散和漂移这一对相反的运动最终达到平衡,相当于两个区之间没有电荷运动,空间电荷区的厚度固定不变。,10.2.2 PN结的单向导电性,PN结加上正向电压、正向偏置的意思都是: P区加正、N区加负电压。,PN结加上反向电压、反向偏置的意思都是: P区加负、N区加正电压。,PN结正向偏置,内电场减弱,使扩散加强, 扩散飘移,正向电流大,P

4、,N,+,_,PN结反向偏置,N,P,+,_,内电场加强,使扩散停止, 有少量飘移,反向电流很小,反向饱和电流 很小,A级,10.2.3 半导体二极管,(1)、基本结构,PN结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。,(2)、伏安特性,导通压降: 硅管0.60.7V,锗管0.20.3V。,反向击穿电压U(BR),(3)静态电阻Rd ,动态电阻 rD,静态工作点Q(UQ ,IQ ),(3)静态电阻Rd ,动态电阻 rD,静态电阻 :Rd=UQ/IQ(非线性),动态电阻:rD =UQ/ IQ,在工作点Q附近,动态电阻近似为线性,故动态电阻又称为微变等效电阻,例1:二极管:死区电压=0 .5V,正向压降

5、0.7V(硅二极管)理想二极管:死区电压=0 ,正向压降=0,二极管半波整流,例2:二极管的应用(设RC时间常数很小),uo,C,1.电路分析,例1:求VDD=10V时,二极管的 电流ID、电压VD 值。,解1:,正向偏置时: 管压降为0,电阻也为0。 反向偏置时: 电流为0,电阻为。,解2:,返回,Vi VR时,二极管导通,vo=vi。,Vi VR时,二极管截止, vo=VR。,例2:理想二极管电路中 vi= Vm sint V,求输出波形v0。,解:,返回,利用二极管的单向导电性可作为电子开关,0V 0V,导通 导通,导通 截止,截止 导通,截止 截止,0V 5V,5V 0V,5V 5V,

6、0V,0V,0V,5V,例3:求vI1和vI2不同值组合时的v0值(二极管为理想模型)。,解:,返回,两个二极管的阴极接在一起 取 B 点作参考点,断开二极管,分析二极管阳极和阴极的电位。,V1阳 =6 V,V2阳=0 V,V1阴 = V2阴= 12 V UD1 = 6V,UD2 =12V UD2 UD1 D2 优先导通, D1截止。 若忽略管压降,二极管可看作短路,UAB = 0 V,例4:电路如左图,D1承受反向电压为6 V,流过 D2 的电流为,求:UAB,在这里, D2 起钳位作用, D1起隔离作用。,返回,例5:求(1).vI=0V,vI=4V,vI=6V 时,输出v0的值。 (2)

7、. Vi=6sint V 时,输出v0的波形。,解:(1) .,vI=4V时,D导通。,vI=0V时,D截止。v0 = vI,vI=6V时,D导通。,(2). Vi=6sint V (理想模型),返回,例6: 理想二极管电路中 vi=V m sint V,求输出波形v0。,ViV1时,D1导通、D2截止,Vo=V1。,ViV2时,D2导通、D1截止,Vo=V2。,V2ViV1时,D1、D2均截止,Vo=Vi。,返回,例3:,例7:二极管限幅电路:已知电路的输入波形为 v i ,二极管的VD 为0.6伏,试画出其输出波形。,解:,Vi 3.6V时,二极管导通,vo=3.6V。,Vi 3.6V时,

8、二极管截止, vo=Vi。,返回,10.3 稳压二极管,当稳压二极管工作在反向击穿状态下,当工作电流IZ在Izmax和 Izmin之间时,其两端电压近似为常数,正向同二极管,稳定电流,稳定电压,例:稳压二极管的应用,稳压二极管技术数据为:稳压值UZW=10V,Izmax=12mA,Izmin=2mA,负载电阻RL=2k,输入电压ui=12V,限流电阻R=200 。若负载电阻变化范围为1.5 k 4 k ,是否还能稳压?,UZW=10V ui=12V R=200 Izmax=12mA Izmin=2mA RL=2k (1.5 k 4 k),iL=uo/RL=UZ/RL=10/2=5(mA) i=

9、 (ui - UZ)/R=(12-10)/0.2=10 (mA) iZ = i - iL=10-5=5 (mA) RL=1.5 k , iL=10/1.5=6.7(mA), iZ =10-6.7=3.3(mA) RL=4 k , iL=10/4=2.5(mA), iZ =10-2.5=7.5(mA),10.4 半导体三极管,10.4.1 基本结构,NPN型,PNP型,三极管符号,基区:较薄,掺杂浓度低,集电区:面积较大,发射区:掺 杂浓度较高,发射结,集电结,10.4.2 电流放大原理,发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流IE。,1,进入P区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电

10、流IB ,多数扩散到集电结。,EB,RB,Ec,从基区扩散来的电子漂移进入集电结而被收集,形成IC。,2,要使三极管能放大电流,必须使发射结正偏,集电结反偏。,静态电流放大倍数,静态电流放大倍数,动态电流放大倍数,动态电流放大倍数,IB : IB + IB,10.4.3 特性曲线,IB 与UBE的关系曲线(同二极管),(1)输入特性,死区电压,硅管0.5V,工作压降: 硅管UBE 0.7V,(2)输出特性(IC与UCE的关系曲线),IC(mA ),Q,Q,输出特性,IC(mA ),当UCE大于一定的数值时,IC只与IB有关,IC=IB , 且 IC = IB 。此区域称为线性放大区。,此区域中

11、UCEUBE,集电结正偏,IBIC,UCE0.3V称为饱和区。,此区域中 : IB=0 , IC=ICEO , UBE 死区电压,,称为截止区。,输出特性三个区域的特点:,(1) 放大区IC=IB , 且 IC = IB , BE结正偏,BC结反偏,(2) 饱和区IC达饱和, IC与IB不是倍的关系, IBIC 。BE结正偏,BC结正偏 ,即UCEUBE (UCE0.3V ,UBE0.7V),(3) 截止区UBE 死区电压, IB=0 , IC=ICEO 0 ( ICEO穿透电流,很小, A 级),例: =50, USC =12V,RB =70k, RC =6k当USB = -2V,2V,5V

12、时, 晶体管的静态工作点Q位 于哪个区?,USB =-2V, IB=0 , IC=0, Q位于截止区,USB =2V, IB= (USB -UBE)/ RB =(2-0.7)/70=0.019 mAIC= IB =500.019=0.95 mA ICS =2 mA , Q位于放大区 IC最大饱和电流ICS = (USC -UCE)/ RC =(12-0)/6=2mA,=50, USC =12V,RB =70k, RC =6k当USB = -2V,2V,5V时, 晶体管的静态工作点Q位 于哪个区?,USB =5V, IB= (USB -UBE)/ RB =(5-0.7)/70=0.061 mAIC= IB =500.061=3.05 mA ICS =2 mA , Q位于饱和区(实际上,此时IC和IB 已不是的关系),三极管的技术数据:(自学) (1)电流放大倍数 (2)集-射间穿透电流ICEO (3)集-射间反向击穿电压UCEO (BR) (4)集电极最大电流ICM (5)集电极最大允许功耗PCM,

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