1、四实验测量及数据处理：数据记录表格金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间 4min)膜厚 d=532.8*10-10m电流 I/mA 正向电压 V+/mA 负向电压 V-/mV 平均电压 V/mV0.3514 0.427 -0.425 0.4260.4467 0.542 -0.54 0.5410.5625 0.682 -0.681 0.68150.6885 0.835 -0.833 0.8340.7995 0.992 -0.989 0.99050.9569 1.187 -1.184 1.18551.459 1.806 -1.808 1.8072.951 3.652 -3.654 3.6533.
2、643 4.51 -4.511 4.5105金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间 8min)膜厚 d=1065.6*10-10m电流 I/mA 正向电压 V+/mA 负向电压 V-/mV 平均电压 V/mV0.7294 0.184 -0.186 0.1851.6518 0.418 -0.42 0.4192.965 0.752 -0.752 0.7524.64 1.177 -1.177 1.1777.938 2.014 -2.015 2.014510.128 2.57 -2.57 2.5711.401 2.893 -2.893 2.89313.888 3.524 -3.525 3.524516
3、.703 4.238 -4.239 4.2385金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间 12min)膜厚 d=1598.4*10-10m电流 I/mA 正向电压 V+/mA 负向电压 V-/mV 平均电压 V/mV1.867 0.207 -0.207 0.2076.2 0.684 -0.684 0.68412.07 1.328 -1.329 1.328517.3 1.906 -1.905 1.905520.63 2.27 -2.272 2.27124.51 2.698 -2.698 2.69827.37 3.013 -3.015 3.01432.84 3.615 -3.615 3.61538.
4、94 4.284 -4.288 4.286金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间 20min)膜厚 d=2664*10-10m电流 I/mA 正向电压 V+/mA 负向电压 V-/mV 平均电压 V/mV4.561 0.253 -0.25 0.25158.936 0.494 -0.491 0.492516.42 0.906 -0.904 0.90521.28 1.174 -1.176 1.17535.59 1.962 -1.956 1.95946.73 2.576 -2.581 2.578552.64 2.906 -2.904 2.90556.4 3.11 -3.112 3.11166.32
5、3.657 -3.658 3.6575金属薄膜电阻率测量数据记录表(溅射时间 25min)膜厚 d=3330*10-10m电流 I/mA 正向电压 V+/mA 负向电压 V-/mV 平均电压 V/mV0.7984 0.03 -0.03 0.031.263 0.048 -0.047 0.04753.43 0.13 -0.129 0.12956.279 0.238 -0.237 0.23755.472 0.226 -0.224 0.22510.243 0.423 -0.421 0.42213.139 0.497 -0.496 0.496527.08 1.12 -1.116 1.11850.83 2
6、.097 -2.095 2.096Excel处理的电压随电流变化的关系图： 由 F ，根据已经处理得到的 V/I,代入求得 F：=2d/m V/I F/*m5.328E-08 1.237 2.98716E-071.0656E-07 0.2538 1.22577E-071.5984E-07 0.1101 7.97622E-082.664E-07 0.0552 6.66496E-080.000000333 0.041 6.18803E-08F-d 的图像：五讨论：本实验中采用测量同一电流状况下的正反向电压可以减小实验的误差。六结论：由以上数据图像可得，溅射薄膜的电阻率随着膜厚的增加而减小；薄膜厚度 d 由公式 d=kVIt 给出，其中 k 为常数；
