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类型PECVD问题总结.doc

  • 上传人:11xg27ws
  • 文档编号:6486879
  • 上传时间:2019-04-14
  • 格式:DOC
  • 页数:2
  • 大小:28.50KB
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    PECVD问题总结.doc
    资源描述:

    1、PECVD 段问题总结色差原因:片间色差主要是石英管两边功率不匹配,没有达到一个平衡的状态。片内色差是石英管的一侧功率过小造成的,石墨框的边缘氮化硅沉积过厚导致硅片边缘镀膜偏薄,还有工艺腔掉片落在石英管上。解决方法:当出现某一侧硅片整体膜厚偏薄或偏厚时,就较少或增加对应某一侧的微波功率,每次调节幅度在 100-200W 之间,观察调试结果,若片间色差有所好转就继续加大调节幅度,若无明显好转,就调节另一侧的微波功率。当出现中间一排或两排镀膜不均时,就加大两边微波功率,调节幅度是 100-200W,同时加大传输速度,幅度在 1-2,若无明显改善就减少两侧微波功率,调节幅度 100-200w,同时减

    2、小传输速度 2cm/min 左右。当出现片内色差时,当是边缘一竖排出现片内色差,就加大某一侧微波功率,无好转就打开工艺腔看是否碎片落在石英管上。当出现某一块石墨框有片内色差时,清理石墨框边缘较厚的氮化硅,当某一竖排出现片内色差时,开盖检查工艺腔石英管上是否有碎片,并清理干净。工艺压强不稳定原因:造成工艺压强过大或波动很大的原因有以下几种,真空滤网没有清理干净、盖板的密封圈上有杂物、密封圈有破损、石英管有裂纹。解决方法:当出现工艺腔真空波动较大时,一般是 2 号门、3 号门密封圈上有杂物,还有一种原因就是真空滤网没有清理干净,这时我们需要用无尘布擦拭密封圈,开盖清理真空滤网。当出现真空抽不下时,

    3、根据不同情况做相应不同的处理。当真空在 1mbar 以上时,是比较大的漏真空,此时检查是否有密封圈破损,石英管是否有裂纹,发现有不符合要备件要即时更换,当真空在 0.1-1mbar 之间时,检查石英管是否有裂纹,密封圈上是否有明显杂物,用无尘布清理密封圈,或更换好的石英管。当真空在 0.1mbar 以下时开盖用无尘布擦拭密封圈。卡盘原因:石墨条破损、出料腔真空抽不下、传输皮带脱落、传感器错误。解决方法:当出现卡盘时,我们先查看报警记录,如果是出料腔真空抽不下,使 3 号门不能正常打开导致的卡盘,需要检查出料腔的密封圈和 4 号门的密封圈,发现有破损的进行更换。如果是由于传感器错误造成的卡盘,需

    4、要打开盖板,用吸尘器清理传感器。然后查看各传输皮带是否有脱落,发现有异常的皮带进行更换。待被卡盘的石墨框出来后,检查石墨框的石墨条是否完整,发现有破损要进行更换。最后开盖检查腔体内是否凸起的部位阻止石墨框的传输。氮化硅膜表面有异物原因:进料腔工艺腔内有异物,加热后分解到硅片表面,污染了硅片表面。石英管冷却不好,表面缠绕的胶带受热分解污染了硅片表面。解决方法:当发现镀膜后的硅片表面有污染物时,先要排除是前段造成的污染。然后检查石英管风冷情况,若发现石英管的排风口风量很小或没有风,就要请设备进行维修。最后将工艺腔和进料腔打开,看是否有塑料类废弃物掉在腔体内,造成了污染,若有将其清理干净即可。镀膜偏红原因:偏红是氮化硅的厚度偏薄,是由于沉积的时间过短或微波功率偏小所致。解决方法:将传输速度减小,传输速度每减小 1cm/min 膜厚就会增加 0.8nm 左右。或者增加微波源两侧的微波功率。通常我们使用第一种方法。镀膜偏白原因:偏白是氮化硅的厚度偏厚,是由于沉积的时间过长或微波功率偏大所致。解决方法:将传输速度加快,传输速度每增加 1cm/min 膜厚就会减小 0.8nm 左右。或者减小微波源两侧的微波功率。通常我们使用第一种方法。

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