1、Visual Defect Introduction,E1-INT3,XY05 Cross section (bipolar):,Layer Code,In-line hold 货如是defect原因，请按照右表格式key in comment.,AC：Arcing,外观：金属表面呈烧焦及熔岩状，而且沿着金属线路熔毁。或圆形爆炸状 成因：在电浆（Plasma）环境中，高浓度的带正电离子经由电弧（ARC）对晶片表面容易蓄积电荷或导电部位放电时所产生的高热熔毁金属线路。 OM figure: M1AC,BC / BV：Blind Contact / Blind VIA,外观： Contact（连接
2、M1/Poly) / VIA (连接M1/M2)的大小变小或完全消失不见。 成因： a, Photo焦距偏差（defocus），以至于contact /VIA部位曝光不足，而无法曝开； b, Photo 光阻涂布不良，使底层被蚀刻掉。 OM figure: COBC V1BV,BR ：bridge,外观： 图形桥接 成因： PHOTO defocus OM figure:,C1：Tape residue,外观：胶带残留，只发生在最上层，可以擦掉。（背面磨薄制程中，胶带粘表面） 成因：透明胶状物 OM figure: Remark:目前SinoMOS尚未涉及到晶背研磨，故不会出现C1的defec
3、t.,C2 ：Foreign contamination,外观：不规则状，非透明物，一般呈现条状。 成因：晶片后续操作中引入，多数在可以清洗掉 OM figure: PAC2,CR ：corrosion,外观： Metal Line侧边有泡状/多颗泡状衍生物，造成金属凹陷。 成因： a,金属蚀刻后的氯（Cl）残留，遇水气后形成盐酸（HCL）而继续腐蚀金属，包 括制程异常造成大量氯残留，PR/Polymer残留氯，放置时间太久； b,其它酸腐蚀（如BPSG中的P遇水气形成磷酸）。 OM figure: M1CR M2CR,CK：Crack,外观：非正常图形定义线条，如护层龟裂，破裂處金屬光澤較強
4、烈（即較亮） 成因：a. VIA龜裂可能SOG不均 或护层结构异常b.護層龜裂 护层应力不协调 或外物DAMAGE。 OM figure: V1CK,C3：Si fragment,外观：有棱角，片岩状碎屑。 成因：晶片破片，叠片以及刮伤等。 OM figure: PAC3,CO：contamination,外观：不规则状物 成因：晶片制程中引入（机台异常或人为操作不当），多数清洗不掉 OM figure: PACO,DC：Dis-color,外观：强光灯或肉眼下可见WAFER表面颜色不均匀，OM下街道颜色不均匀 成因：Film 厚度不均匀 OM figure: OXDC,DM：Damaged
5、（silicon damage）,外观：圆圈状，水滴状，如出现在Silicon裸露的街道为聚集的水滴状，向街道交叉处聚集。 成因：制程中Silicon 裸露时，被氨水damage OM figure: WADM,HL：Hillock,外观：在金属表面或测边 a,原形平顶突起 b,尖顶状突起 c,多角形平頂突起。 成因：金属原子在热循环（Thermal Cycle）中，因热膨胀系数不同而产生的应力之作用而形成的丘状突起。 OM figure: M2HL,HZ：Nitride haze,外观：发生在Nitride 层，强光灯下可见雾状物，OM下为密集的细小PA （暗区检查较好）。 成因：SIN反应
6、中固体产物抽离不及，落在WAFER 上。 OM figure: SNHZ,LD：local defocus,外观：OM下图形有基本形貌，但不同程度变形 成因： defocus (机台异常或WAFER 底部不平坦) OM figure:,MA：mis-alignment,外观：图形便移，与其他图形重叠 全批/单片重复性缺陷 成因： Layer to layer mis-alignment 或REWORK 图形残留 OM figure:,NU：Non-uniform,外观： VIA层有液滴或条状突起 成因：（ a, SOG涂布时湿度控制不良，造成泡沫状或条状突起。 ） ？b, 洗边时，洗边液IPA
7、 （压力流量控制不稳）滴入SOG film上。 OM figure:,OE：over etch,外观： 金属线路变窄 成因： 金属ETCH时 ，polymer 未保护好侧壁导致金属线ETCH 过多，变形 OM figure:,PA：particle,典型PA 1： COPA 外观：a, 多存在于T2位置，呈竖列分布； b, 簇状分布，颗粒size较小且分布相对集中； c, metal会被particle顶起，且突起部分呈现metal色泽。 成因： BPSG process 中产生 OM figure: COPA （check after BPSG）,PA：particle,典型PA 1： CO
8、PA 外观：a, 多存在于T2位置，呈竖列分布； b, 簇状分布，颗粒size较小且分布相对集中； c, metal会被particle顶起，且突起部分呈现metal色泽。 成因： BPSG process 中产生 OM figure: COPA （check after MET）,PA：particle,典型PA 2： M1PA M2PA 外观：a, 不规则块状金属残留，中央有黑色外来物；泪滴状金属残留； b, PA 附近MET1下CONTACT / MET2 下VIA 不变形c, 此种defect一般会造成金属桥接或者是线条扭曲。 成因：MET sputter chamber 中产生或TI
9、W TARGET 产生，造成PHOTO PR 定义不良，导致ETCH RE 和图形变形。 OM figure: M1PA M2PA,PA：particle,典型PA 3： PAPA 外观：a, 不会导致金属变形桥接b, PA较大且于护层中引入，导致PAD 定义时变形，且PA周围有护层残留。 成因： Passivation process引入的particle. OM figure: PAPA,PA：particle,典型PA 4： V1PA 外观：圆形突起, 一般外围有凹痕 成因： SOG process引入的particle. OM figure: VIPA,PB：PR burn,外观：PR
10、内缩，黑色残留物，不易去除。 成因： 高能量过程导致光阻烧焦。 OM figure:,PI：Pits,外观：金屬Pad或是線路上有凹洞,OM 下为非凸起的小黑点。如Pits 产生于ETCH 前，ETCH 后街道一定有RE，RE通常有顆粒狀核心存在。如Pits 产生于ETCH 后，街道CLEAR。只在ALSICU 制程中产生。MET 2 较易发生Pits，如在MET PHOTO有疑似当层pits，请务必到ETCH 后再CHECK。如有RE则为Pits，判断是否报废，如无RE ，则非Pits 请注意判断RE所在FILM，及MET 1/ MET2 上是否有同样defect 成因：在凹洞之中的顆粒狀核
11、心即為Theta Phase （AlOCu ）析出 。黄光显影液腐蚀，ACT槽腐蚀，或MET FILM process 温度过低。 OM figure: M2PI,PITS ON MET,Pits on street,PM：polymer,外观： Pad Contact边缘有丝状或颗粒状残留物。 成因：a, 电浆蚀刻（Plasma Etching）后作为侧壁保护或未饱和分子体（Unsaturated）形成的高分子聚合物（Polymer）未能去除干净而造成的残留。 OM figure:,PC：Poor coating,外观： 光阻覆盖不完全，可导致FILM在该处被ETCH掉。 成因：光阻塗佈不良
12、 OM figure:,PL：PR lifting,外观： Pattern（線路及其他結構）呈歪曲或移位現象 成因：由光阻移位所造成的問題其外觀與薄膜本身移位不同。光阻移位後，是光阻Pattern重疊，所 以在蝕刻後薄膜的 Pattern交接處，仍在同一平面. OM figure: P1PL,PR：PR remaining,外观：薄膜上有深咖啡色、褐色或黑色的脏污残留；许多微小颗粒呈脉状网络分布。 成因：PR 去除不良 OM figure: PAPR M2PR,PW：Powder,外观: OM 下 颗粒状密集 PA， SIZE较小 成因：CVD机台副产物 OM figure: COPW,RE：
13、Residue (ETCH),外观: 非正常图形的FILM图形。 成因：a, 蚀刻时终结点（etching point）侦测错误或提早捉到； b, 蚀刻前有异物或particle覆盖在光阻或薄膜上形成etching mask，阻挡蚀刻的进行。c, FILM 厚度异常导致ETCH 未净 OM figure: M2RE,RE：Residue (ETCH),典型RE ：TIW RE 外观: 金属层非金属区域的异常图形块，无金属颜色。 成因：金属蚀刻时，8330 机台的ALSICU / TIW切换source 时，POLYMAR 掉到WAFER上，挡住TIW ETCH。 OM figure:,RP：R
14、esidue (PHOTO),外观: 不规则块状、条状薄膜残留，边缘平缓，呈现液体流动状。 成因：a, 黄光制程中有particle掉落在晶片表面，阻挡曝光的进行； b, 显影不良造成pattern未显开。 OM figure: M1RP M2RP,RD：repeating defect,外观: 在不同SHOT 的相同位置重复发生。 成因：光罩粘污 OM figure:,RF：roughness,典型RF 1 ：OXRF 外观:切割道或Chip内有黑点状或者是絮状残留，metal gate较易出现此类defect。严重时，强光灯下雾状。 成因：ETCH 导致 OM figure:,RF：rou
15、ghness,典型RF 2 ：M1/M2 RF 外观:金属表面有严重，凸凹不平滑现象经由护层的散射，使金属呈变色现象。 成因：金属溅镀过程中温度越高，粗糙程度越高，而变色现象系由于光线经由金属粗糙化表面散射而使颜色变得更深。 OM figure:,SC：scratch,典型SC 1：MET film SC 外观: a，金属FILM有损伤，刮伤中有金属拉伸现象； b，刮伤区域较为干净，不会产生很多碎屑，刮伤大块金属堆积物ETCH后有RE。c，注意区分Met-1和Met-2. 成因：人为不规范操作，机台异常 ，叠片，斜插，OM 操作不当。 OM figure: M1SC (check at ADI
16、),SC：scratch,典型SC 2： 显影后ETCH前 SC 外观: a, FILM无损伤，或损伤很轻（光阻厚）b，ETCH后检查刮伤区域图形散乱，但在同一平面上c，注意区分Met-1和Met-2. 成因：人为不规范操作，机台异常 ，叠片，斜插，OM 操作不当。 OM figure: M1SC PASC,SC：scratch,典型SC 3：MET ETCH后 SC 外观: a，金属线条有损伤，刮伤边缘有金属被带出； b, 刮伤区域较为干净，不会产生很多碎屑。c, 请注意区分MET1 MET2 成因：人为不规范操作，机台异常 ，叠片，斜插，OM 操作不当。 OM figure: M1SC,S
17、C：scratch,典型SC 4：护层 SC 外观: a, 3PSG的刮痕一般呈现细沙状，有较多细小颗粒被带出来； b, PE-SIN的刮伤一般有应力的表现，且相对较为干净。 （请先确定刮伤是在最表层金属上的层次） 成因：人为不规范操作，机台异常 ，叠片，斜插，OM 操作不当。 OM figure: M1SC,SN：Si precipitate,外观: 金属覆盖区域外有黑色斑点状残留 成因：a, Si斑殘留與金屬蝕刻有極大關聯。因此，分佈 情形受到蝕刻面積效應(Loading Effect)的影響，通常呈中央密，周圍較疏得情形.b, Si斑係金屬蝕刻所殘留的。因此，與金屬層位於同一高度沿著矽析
18、出的痕跡，隱約可見到Grain 的痕跡（多角形）.c,曾发生与MET GATE 产品中,与PROCESS 中MET WET ETCH有关。 OM figure:,SP：Si Precipitate,外观: 金属表面飞蚊状黑色物析出，金属晶界明显。曾发生ALSI制程，为MET FILM 上较粗糙，且有凸起小黑点，ETCH后有细小残留有金属颜色。 成因：MET FILM sputter 温度异常，或结构变化。 OM figure: MET GATE PROCESS,ON MET,RE ON STREET,UD：under develop,外观: PR定义图形，显影后周围有旋涡状彩纹。 成因：显影不良造成光阻不规则残留，ETCH后可导致FILM异常。 OM figure:,WS：water spot,外观: OM 下液滴状透明物体，面积较大在强光灯下为雾状。 成因：CLEAN 或酸槽水槽旋干不良。 OM figure:,答 疑 时 间,By Aiken,
