1、1、反应选择性是有机合成技术中的重要内容，请叙述反应选择性的相关内容？答：反应选择性又称反应专一性。一个化学反应若同时可生多种产物，其中某一种产物是最希望获得的，则这一种产物产率的大小代表了这反应选择性的好坏。反应选择性是评价一个反应效率高低的重要标志。合成反应的选择性：一个反应可能在底物不同部位或方向进行，从而形成几种产物时的难易程度。可以分为：（1）化学选择性；（2）区域选择性；（3 ）立体选择性。化学选择性：不使用活化或保护等策略，反应试剂对不同的官能团有不同的反应活性。如果反应中所使用的某种试剂对一个有多官能团的分子起化学反应时，只对其中一个官能团起作用。区域选择性：相同的官能团在分子
2、的不同位置，反应活性不同，或生成产物的稳定性不同。如果反应中所使用的某种试剂只与分子的某一特定位置官能团的分子起作用，而不与其他位置上的相同官能团作用。立体选择性：一个反应可能生成两种空间结构不同的立体异构体，生成的两种异构体的量不同，称反应具有立体选择性包括顺反异构，对映异构，非对映异构选择性。这种反应常与反应物的位阻、过渡状态的立体化学要求以及反应条件有关。控制选择性的因素：热力学控制：由各个反应产物的稳定性来确定；动力学控制：由各个反应的反应速率确定。2、化学反应工程的选择性、转化率、收率、产率如何计算？比如原料中有 A、B、C 产物中有 A、D、E 、F 等.选择性 S%=（目的产物的
3、产率/转化率）*100% 转化率 CA%=反应物 A 转化掉的量/流经催化床层进料中反应物 A 的总量 产率 =选择性*转化率 产率= 实际产量/ 理论产量 收率=（目的产物生成量 /关键组分起始量）100%3、化学反应的选择性和特异性有什么区别选择性是指对不同东西反映的速度或结果不同。特异性是指只对某种东西有反应。比如葡萄糖与浓硝酸或别的东西发生氧化作用，结果不一样。金只溶于王水就是特异性。4、请叙述评价有机合成技术的基本要求？答：（1）有机合成的要求：合成的反应步骤越少越好，每步反应的产率越多越好，原料越便宜越好（2）有机合成的目的：尽可能地选择最便宜易得的原料，通过有机反应将原料化合物经
4、“拼接”和“裁剪”最终转化成复杂分子结构。（3）有机反应的作用：使原来分子中的某一个或几个化学键断裂并形成一个或几个新的化学键，从而完成原料分子到目标分子的转化。在设计有机化合物合成时，既要考虑如何建立分子骨架结构，又要考虑在碳胳部位引入官能团，有时还要满足分子的立体化学要求。5、请叙述基团保护及基团保护基的要求？ 答：在有机合成中，含有 2 个或多个官能团的分子，为使其中某个官能团免遭反应的破坏，常用某种试剂先将其保护，待反应完成后再脱去保护剂。理想保护基的要求：引入保护基的试剂应易得、稳定以及无毒；保护基不带有或不引入手性中心；保护基在整个反应过程中是稳定的；保护基的引入以及脱去，收率是定
5、量的；脱保护后，保护基部分与产物容易分离。6、请叙述相转移催化剂的种类及季盐型相转移催化剂的催化效率规律？答：一、 常用的相转移催化剂 1、聚醚 链状聚乙二醇:H(OCH2CH2)nOH 链状聚乙二醇二烷基醚:R(OCH2CH2)nOR2、环状冠醚类:18 冠 6、15 冠 5、环糊精等3、季铵盐:常用的季铵盐相转移催化剂是苄基三乙基氯化铵(TEBA)、四丁基溴化铵、四丁基氯化铵、四丁基硫酸氢铵(TBAB)、三辛基甲基氯化铵、十二烷基三甲基氯化铵、十四烷基三甲基氯化铵等。4、叔胺:R4N X ,吡啶,三丁胺等5、季铵碱(其碱性与氢氧化钠相近)易溶于水，强吸湿性。6、季膦盐二、应用特点。 (1)
6、不使用昂贵的特殊溶剂,且不要求无水操作,简化了工艺; (2)由于相转移催化剂的存在,使参加反应的负离子具有较高的反应活性; (3)具有通用性,应用广泛. (4)原子经济性。 (5)催化剂价格较贵。 (6)用于催化非均相有机反应相转移催化剂效率大小规律1 较大的季铵离子比较小的季铵离子有效。2 催化剂的效率随季铵离子中最长链的长度增加而增强。3 比较对称的离子比只含一个长链的离子有效。要使催化剂溶于有机介质中并发挥作用，对季铵离子烃基的碳原子数有一个最低要求。较好的催化剂应具备最基本的亲脂性，而且在代正电的季杂原子周围具有较大的基团。四丁基铵的催化作用比十六烷基三甲铵强得多，虽然后者的碳原子总数
7、比前者多三个。当季原子所受的位阻比其电荷所遭的掩盖少时，相关联的阴离子或许与季阳离子形成比较紧密的离子对。4 季膦离子比相应的季铵离子催化剂更有效，热力学上也更稳定。5 较有效的催化剂是被烷基取代而不是被芳基取代的季离子。7、请以邻硝基甲苯、溴素、氢氧化钠水溶液、双氧水、铁粉、盐酸为主要原料，设计出 2-氨基-3,5- 二溴苯甲醛的合成工艺路线。8、请设计并合成下列化合物（15 分）9、请阐述倒易点阵的定义及其与正点阵的关系，并画出(hk0) 面族的倒易点阵。为了便于处理晶体结构同其 X 射线衍射效应的关系，最初由 P.P.厄瓦耳引进的概念。设原空间点阵的一组基矢为 A1、A 2、A 3，若用
8、下式定义另一组基矢则由新的一组基矢 B1、B 2、B 3 所表示的点阵与原空间点阵有互为倒易的关系，称它是原空间点阵的倒易点阵。上述条件相当于。两个互为倒易的点阵之间存在以下关系： 由基矢决定的平行六面体的体积互为倒数,可由下式表示，式中。 原点阵中指数为 h、 k、 l 的一族平面垂直于其倒易点阵中以上述指数为系数表示的一条直线 H，即,而且阵面族的面间距同直线上相邻阵点间的距离成反比。这样，就可以用一个倒阵点来代表正点阵中的阵面族。而倒阵点就可以和衍射图样上的衍射斑点联系起来。倒易点阵的引入除了解释晶体的 X 射线衍射图样外，倒易点阵的概念在固体理论中也非常重要，作出由原点出发的诸倒易点阵
9、矢量的垂直中分平面，则为这些平面所完全封闭的最小体积就是第一布里渊区。固体理论中习用的倒易点阵的尺寸为这里定义的 2 倍。=倒易点阵1921 年德国物理学家 Ewald 引入了倒易点阵的概念。一是空间的取向用晶面法线方向表示.二是面间距离法线的长度代表面间距倒数.|hkl | dhkl = 1 对于一族平行的点阵面(h00), 其面间距 d 1/h，从点阵原点对(h00)面作法线，从原点为起点截出法线的一段长度 = 1/d 作为倒易矢量，则 h，取不同的 h 值得到一直线倒易点阵。(hk0)为一族平行于带轴的点阵面。从原点对这些点阵面作法线，所有法线都在同一平面。从坐标原点为起点截出法线一段长
10、度为 = 1/d，得到一平面倒易点阵。倒易点阵(hk0) 晶面族10、请给出立方 ZnS 的系统消光规律。答：立方 ZnS 的衍射条件立方 ZnS 晶体也是面心立方格子，结构基元 Zn(0,0,0), S (1/4, 1/4, 1/4),按面心方式平移得到。F=F Zn2+ + FS 2- = f Zn2+ + f s2- ei(H/2+K/2+L/2)1+ ei （H+K）+ ei （H+L）+ ei （K+L） 当 HKL 奇偶混杂时：F=0，即衍射线消光；当 HKL 全奇或全偶时：F=4 f Zn2+ + f S2- ei (H/2+K/2+L/2)当 HKL 全奇时：F= 4 (f + + if-) , | F |2=FF*, 衍射线较强当 HKL 全偶时，且 H + K + L = 4n, F = 4(f+ + f-)，衍射线较强KHL 全偶时，且 H + K +L = 4n + 2, F = 4(f+ - f-），衍射线较弱11、简介至少5 类石墨烯材料（包括薄膜、粉体等形态）的合成方法，并比较各自的优缺点。
