1、CMC 静水压力释放层技术CMC 静水压力释放层技术是集永久性改变土层动态渗流压,使基底水压保持固定值、控制地下水浮力对结构体的影响和永久保持地下室干燥功能的工艺方法。具有施工周期短、造价低、节约材料、污染公害小等优点,可应用于新建、扩建建(构) 筑物的基础抗浮工程。1.0.1 为贯彻国家技术、经济、环保政策,加强 CMC 静水压力释放层技术的管理,遵循安全适用、技术先进、经济合理、省时省料,确保质量、保护环境等原则。1.0.2 适用于基础底部水浮力大于上部结构荷载的建(构 )筑物、地下车库、地下商场、地铁车站、地下道路等基底消浮工程的设计、施工及验收。1.0.3 CMC 静水压力释放层技术适
2、用条件为基底下方存在地基土层为厚 2m 以上,渗透系数小于等于 10-5 cm/s,且每天每平方米的渗流水量应小于等于 0.03m3 的粘性土、粉性土。一种用于基础底部消除过大地下水浮力造成结构危害的处理方法。该技术是在基底下方设置静水压力释放层,使基底下的压力水通过静水压力释放层中的透水系统,汇集到集水系统,经由集水系统自然溢流进入出水系统,通过出水系统将渗流水导至专用水箱或集水井中排出,使静水压力及时得到控制的工艺方法。适宜以下结构土层:1 围护结构为止水帷幕设计时,止水帷幕设计应符合基坑工程技术规程(DG/TJ08-61)及相关规定,基础下方必须有厚度大于 2.0m 且渗透系数 k 小于
3、等于 10-5 cm/s 的土层。2 围护结构非止水帷幕设计时,地表至基础下方 2m 必须全部为渗透系数 k 小于等于10-5 cm/s 的土层。3 渗流水量 Q 必须小于等于 0.03 m3/m2/d。4 非止水帷幕严禁采用拔除式围护结构。应用 CMC 静水压力释放层技术时应考根据不同工程的地质条件、工程性质等因素,进行具体的分析。符合本系统技术应用条件的方可进行设计应用。该技术在台湾已经完成的项目近 60 多个,工法的使用已经达 30 多年,技术完全成熟工法,目前已经拥有六国(美国、日本等)专利,每一个完成项目和传统抗拔桩比较,成本节约上千万以上,该工法工期一般只需 3 至 7 天左右即可
4、完成(每天可完成一千到二千平米) (而抗拔桩最短也要 3 个月以上)一对比差别非常明显了,对企业来讲时间就是投资成本。国内现在目前还没有那个技术完全可以保证渗水问题。一旦出现渗水也只能用高压注浆,这种补渗漏方法是不能够彻底解决的,而且要经常返修,费用也是很不确定的大问题。但是你如果使用 CMC 静水压力释放技术,我们具有永久不渗漏的保证性。不是随便开口说句保证,而是根据一定使用案例和技术评估得到的一个保证。贵司要用传统抗拔桩加上那么长工期,投资成本和环境污染将是一个重大问题。何不参考我们这个技术,先了解,我给你发份简报,感兴趣再详细了解也不迟,下面是几个事例:1 新光三越信义百货地质概况:回填
5、土渐变为黄棕色沉泥质粘土偶夹碎砖块与砾石,埋深 GL-2.6m0.5m;灰色沉泥质粘土,上层埋深 GL- 2.1m-12.6m、中层埋深 GL-12.6m-24.0m、下层埋深 GL-20.0m-33.0m; 沉泥质粘土偶夹沉泥质细砂,偶有卵砾石及岩块层,埋深 GL-29.5m-57.1m;灰黑色泥质砂岩夹砂质叶岩,埋深 GL-51.0m-57.1m。施工时间:1996/06地点:台北市松寿路基地面积: 6,436m2施工面积: 6,436m2开挖深度: 21.4m基础型式: 箱型基础 (2.0m)结构型态: 地上 7 层、地下 5 层底板水压: 约 1.7t/m2平均出水量: 约 0.2m3
6、/d 比起传统抗拔桩节约 8300 万2 远东爱德蒙厂办地质概况:回填混凝土块、沉泥质粘土、细砂、岩块、砖块、卵砾石及杂物埋深GL-0.0mGL-3.15m;沉泥质粘土偶夹细砂夹层埋深 GL-3.15mGL -33.2m;沉泥质细砂与粘土互层偶夹卵砾石薄层埋深 GL-33.2mGL -51.2m;卵砾石夹粗细砂埋深 GL-51.2mGL -54.2m; 岩层( 泥质砂岩偶叶岩)埋深 GL-54.2mGL -57.2m。施工时间: 1998/06地点: 台北县中和基地面积: 21250m2施工面积: 5664m2开挖深度: 14.8 m基础型式: 箱型基础(2.0m)结构型态: 地上 0 层、地
7、下 3 层底板水压: 约 1.0t/m2平均出水量: 约 1.4m3/d 比起传统抗拔桩节约 7300 万3 CMC 静水压力释放层技术采用自然溢流方式及时排除基底下产生的静水压力,由于不采用强制抽水方式排除地下水,且基底土层每平方米每天的出水量小于等于 0.03m3,对于建(构)筑物围护结构外的水文条件几乎不造成影响,如工程周围有地铁车站、隧道等重要建(构)筑物时,可根据设计条件对工程周边环境的影响作评估报告。4 基底抗浮的技术效果除了解决地下水浮力造成基础破坏外,更应考虑工艺技术的经济性、长期使用性及工程适用性,以确保结构物的长期使用安全。CMC 静水压力释放层使用于任何土层时应注意不可使
8、地表或高透水土层与静水压力释放层连通,以避免造成基地周围地下水位下降,形成周围建筑物基础下土层有效应力增加,造成安全问题。土层渗透系数k10-5 cm/s 的认定应采用实验室三轴透水试验求得的垂直向渗透系数进行设计,三轴透水试验之围压应涵盖现地侧向土压力进行固结。5 CMC 静水压力释放层于工艺设计及施工时均应严格控制,主出水系统的设计功能应足以使 CMC 静水压力释放层正常运作。为防止静水压力释放层中的集水系统及出水系统管线因不确定因素造成阻塞,保障长期使用的安全性及服务性,在设计时应设置备用出水系统。当主出水系统功能异常时,备用出水系统可立即开启使 CMC 静水压力释放层正常运作。6 为防止 CMC 静水压力释放层因地下水矿物质结晶造成管路阻塞,应于设计时设置管线反冲洗设计,以保障长期使用的安全性及服务性。反冲洗工艺设计可采用设置专用冲洗管路撘配主出水系统、备用出水系统及固定渗流压监测井管等合并设计,采用区域分配方式以两个开口为 1 组平均分配,需要使用时能够全面疏通集水系统及出水系统管路,使CMC 静水压力释放层恢复正常运作,保障长期使用的安全性及服务性。使用反冲洗功能时,可根据阻塞状况采用清水或 pH 值 35 之间的稀释无机酸溶液进行反冲洗工作。