1、 c I | : 1001-3849( 2007) 01-0042-03null l e ) Z E郭崇武, 李健强( g L K , 528100)K 1 :用漂水处理含镍废水中的氰化物,由于生成氢氧化高镍沉淀,次氯酸钠利用率太低,方法不可行。用双氧水破氰效果较好,但过量的双氧水分解后产生氧气,使氢氧化镍沉淀上浮,给沉淀分离带来了困难,用焦亚硫酸钠还原过量的双氧水,能够有效地解决这个问题。加氢氧化钠将废水pH控制在10左右,既可使镍离子完全沉淀,又可以使双氧水破氰反应顺利进行。实践证明,用这种方法处理含镍废水中的氰化物,氰、镍和铜离子的质量浓度能够达到国家排放标准的要求。1 oM : 含镍电
2、镀废水;氰化物;双氧水;破氰方法 m s | : X781. 1 D S M : BMethods for Cyonide Treatment in NickelPlating Waste WaterGU O Chong-wu, LI Jian-qiang O W , - 1 5 e A , q V E | e , P l c e b t e i S E bS ? S , y N c l 9 1 e ) b E ) l e , B a o E E , W a o E , S “ - c e l ) ,v s Z E 1b c l e ) 5 1 , - n V M 1 Z E , B 1 %
3、5 b1 e L 1. 1l ) L ! Y V 5 l ) W c l , , | Q , F _ ) P 0 3 _ i l pH 10P , H F e , Q 3 , 9 A ORP ,? C r b? _ Q F , l M , ORP A M ,V Q | “ s , e i 9 r S S b1 pb 1 2, a H q / , = N ? $oa Q o Ni( OH) 3 b e L , _ Q F , Q o ) | _ _ b1. 2 T e Q , 7 _ 3 5 E s ,y N , T a o E ) c l e ,Q o ) n 5 | = N N 7 3 _
4、, ,Q o ) ? e ? 3 Q bc l 0 i , 100j200 mg/ L,7 e ic42cJan. 2007Plating and FinishingVol. 29 No. 1 Serial No. 172null l : 2006-07-17T e : R ( 1960-) , 3 , 2 , g L K ) = . 5 ,B 1j10 mg/ L, N V n , T e ,Q o ) q , Z E V l b2 e L 2. 1 ? , a H q / ,? r c l e b a H q / , Q = _ ) Q 3 _ ) ) b ? c l F 4 , l CO
5、D b , ? | _ _ b2. 2pH e YV c l | “ s , null( CN-) =0. 83 mg/ L, _ k “ F 30% 1 mL/ L,L pH M e r T Y , Q 30 min k “ e i , T V 1b L V , pH 9j11 S = , e r T z bV 1pH e YpH 8 9 10 11 12 13null( CN -) / ( mgcL -1) 0. 20 0. 08 0. 03 0. 06 0. 12 0. 112. 3 H W V c l | k “ ,s Y _ ) | k “ pH 10,F e , 30min k “
6、 e i , T V 2bV i I , ,c l “ c e , c = N M F 4 , 9 Y e H i bV 2c l e H k “ A CN- i / ( mgcL -1)null( H2O 2) /( mLcL-1) e CN- i / ( mgcL -1)1 2. 09 0. 4 0. 292 4. 51 1 0. 203 13. 5 2. 5 0. 142. 4 0 b T = N 0 e Q b T , T 0 , 5 bL i , s B e K 0 e K A , _ A F s B e , L V ,Q 1 , 1 H W ? r e “ b_ A F = N 0
7、 , e A 4 bc l e V e A ,y N , l ) A , e Q : b T | n , s s 3 , 8 R P , s 4 b ; ) V G e , s bl V s , _ , ? i , r r , r f l , r A c l b s , bA pH e ,F pH , K V g b ; ) V , P l COD 9 , T N COD S , pH e F a V r l COD b4 T ) V c l ) “ d g | “ , s e a i , T V 3b L V , * “ d ) c l e , l e a 0 S E = ) bS 1 pb
8、V 3 g s Tk “ null( CN -) / ( m gcL -1) null( Ni2+ ) / ( mgcL-1) null( Cu2+ ) / ( mgcL-1)1 0. 23 0. 17 0. 272 0. 19 0. 45 0. 313 0. 03 0. 20 0. 144 0. 06 0. 72 0. 705 0. 01 0. 42 0. 22 l ) ! ! g , c l e ) , 5 F v c l ) , ? g V e , l ? r S b c l ) ! ! / ,9 F c l e , l ) r S , 3 b I D : 1 . l ) / M . :
9、 S , 2002. 73. 2 V . $ Q M . : S / , 2003. 494. 3 ; . E M S l $ J . e , 2000, 22( 2) : 8. F o Z ii 3 p 2 L C S / I a ? T 0 ,w S / , C X o Z ii 3 p, , _ g i c q c,| B p I d B , o Z ii 3 p, y + 4 bO i , h 6 g b c = , 6 bo Z ii 3 p S E o p S / 1 “ b = v d B T T , V = , i b : http: / / www. wanfangdata. com. cnhttp: / / www. periodicals. com. cnhttp: / / www. chinainfo. gov. cn/ periodical电镀与精饰编辑部c44cJan. 2007Plating and FinishingVol. 29 No. 1 Serial No. 172
