1、琦芯科技股份有限公司CHEESHIN TECHNOLOGY CO., LTD.ITO薄膜簡介與產品介紹1ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司大綱 透明導電薄膜的介紹與應用 ITO薄膜的特性及製程介紹 ITO薄膜的結晶性 V.S. 製程參數 公司的簡介與產品介紹2ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司透明導電薄膜的介紹 透明導電膜 (Transparent conducting oxides films, TCOs)： 在可見光的範圍內具有高穿透： T85%。 低電阻 ： 10-3 W-cm 。 種類： 金屬薄膜 金屬氧化物半導體薄膜應用領域 片電阻 值 需求 光穿透度需求液晶顯示
2、器 100 W/sq. 85%觸控面板 100 W/sq.-1000 W/sq. 85%抗靜電塗層 100-109 W/sq. 85%太陽能電池 100 W/sq. 80%電致色變元件 20 W/sq. 80%有機發光二極體 100 W/sq. 85%3ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司電阻式觸控面板 透明導電薄膜的應用範圍薄膜電晶體 4ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司有機發光二極體 電致色變元件5ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司非晶矽可撓太陽電池 染料敏化太陽電池6ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司導電特性 ITO薄膜的導電性 屬於 N型半導體，導
3、電機制有種，一種雜質摻雜機制，另一種則為氧空位機制。 由於 Sn4+ 取代 In3+ ，提供額外的電子。 氧空缺 提供個額外的電子。 (O22V o+2e-)InOSnAbsent O atomSn substitutionalSn interstitiale-e-e-Sn+7ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司透光特性 ITO薄膜的可見光可穿透 能隙寬約為 3.5-4.3 eV，可見光波長範圍對應的能量為 1.7-3.1 eV，不足以讓電子在能帶間躍遷而產生光的吸收，故在可見光的範圍內有很高的穿透。GlassPETITO filmTiO2 film8ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股
4、份有限公司ITO薄膜的製程介紹 磁控濺鍍法 (Magnetron sputtering) 為目前在多製程中和積體電製程技術相容性較高的技術，具有可續生產高品質薄膜的特性，低製程溫且適用在大面積的各種基板上，因此磁控濺鍍法是目前使用最普遍用沉積 ITO薄膜的技術。 脈衝射鍍法 (Pulsed laser deposition) 固定脈衝頻、能量約為 40-300 mJ的準分子射，將射脈衝轟擊在 ITO靶材上，並加上垂直方向的磁場。此種製程下之成膜速低，非常耗時。 電弧放電子鍍 (Arc discharge ion plating) 電弧子鍍乃是運用電弧放電電漿，將原料進蒸發與子化，藉由基材通以負
5、偏壓吸引子加速撞擊並還原沉積於基材表面形成鍍膜的工作方式。在沉積過程中會有微粒產生，導致薄膜變粗糙影響鍍膜的品質。9ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司 反應性蒸鍍 (Reactive evaporation) 藉著對被蒸鍍物體加熱，用被蒸鍍物在接近熔點時的高溫所具備的飽和蒸氣壓，進薄膜沉積。在真空中通過電流加熱、電子束轟擊加熱和鐳射加熱等方法，使薄膜材料蒸鍍成為原子或分子，它們隨即以較大的自由程作直線運動，碰撞基片表面而凝結，形成一層薄膜。 子束濺鍍法 (Ion beam sputtering) 子束助鍍法 (Ion beam assisted deposition)10ITO薄膜簡
6、介與產品介紹琦芯科技股份有限公司ITO薄膜的結晶性 V.S. 製程參數 製程溫 對薄膜電阻、載子遷移、載子濃有密切之關聯。 提高製程溫時將使薄膜之結晶性得以提昇，而具有結晶性的薄膜之可見光穿透與導電特性有明顯助益。 氧分壓 ITO薄膜之應用原理是用添加之錫及氧形成之空孔決定載子濃。另一方面，氧空孔的形成會造成結晶學上之缺陷結構，而使得載子之遷移下降。 在濺鍍過程中，導入之氧分壓若增加，會使得薄膜組織更接近化學計量比之組成、結晶之缺陷減少、載子之遷移增加、載子之密降低，因此若要兼顧載子之遷移及密，必須得到最佳氧分壓之製程參數。 11ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司沉積具結晶型的 IT
7、O薄膜 高光學穿透以及低電阻。 ITO薄膜的光穿透與低電阻和薄膜的結晶性息息相關。Light入射Light穿透ITO film Substrate散射反射吸收Electron carrier transportElectron scatteringcrystallineamorphousSubstrate12ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司 具結晶型的 ITO薄膜之獲得： 製程溫在 150 oC以上。 對 ITO薄膜進 200 oC退火處理。13ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司初沉積 -非結晶結構14ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司低程結晶15ITO薄膜簡介
8、與產品介紹琦芯科技股份有限公司高程結晶16ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司公司簡介 2007-12 竹科基地正式啟用 琦芯科技設於新竹科學園區 -竹南基地的廠房，將於 2008年 1月 2日正式啟用。 2008-12 捲對捲濺鍍設備 正式啟用捲對捲濺鍍設備進 ITO Film的生產。 2009/1S 開始正式量產。 2009-01 科專計畫 計畫為期 1年 9個月，開始經濟部科專計畫，開發彩色軟性顯示器，從基材、濺鍍、阻水氣三方面著手，將有助我司技術面的卓越提升，以及與他司的技術交流。 2009-11 後結晶產品問世 國內第一家生產後結晶 ITO Film。 2010-12 設置第
9、二代產線17ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司非結晶型 -霧面公司的產品 -產品型式產品型式18ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司結晶型19ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司非結晶型 -亮面20ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司公司的產品 -產品類別產品類別 非結晶型霧面 KCG-400A-11 K2G-400A-13 結晶型 PCG-400A-21 P2G-400A-23 PCN-400A-24 非晶型亮面 VSC-400A-1A T2C-400A-1B T2C-400B-1F KCN-400A-1421ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司材料
10、驗證項目 物性量測 HC層的硬、附著性、耐熱性以及耐化學特性 電氣特性 電阻值以及電阻均勻性 光學特性 穿透、霧、清晰以及色調 (b*) 環境測試 恆溫恆濕、高溫測試、低溫測試以及冷熱衝擊 耐久性測試 畫線與打點測試22ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司 物性量測 HC層的硬： 500g/3H 附著性：百格刮刀，符合 ASTM-5B 等級 耐熱性：烘烤條件 150oC/60 min， R/R0 1.3，熱縮收 1.0% 耐化學特性：丙酮、甲苯以及酒精浸置 60 min。 電氣特性 阻值規格： 400100 sq./ohm。 阻值均勻性： U 10%。 光學特性 環境測試 恆溫恆濕： 60oC/90%RH， 120 h/240h。 低溫測試及高溫測試： -20oC與 60oC/240 h。 冷熱衝擊： 70oC/-20oC 循環 100次。23ITO薄膜簡介與產品介紹琦芯科技股份有限公司CHEESHIN TECHNOLOGY CO., LTD.THE END24ITO薄膜簡介與產品介紹
