1、 论文作逝江太堂竺 红里呈 堪答 辩 委 员 会 主 席： 逝江太堂副 塾 援答 辩 日 期 ：浙江大学 研 究 生学 位论文独 创 性 声明表 或 撰 写 过的 研 究 成果 ，也不 包 含 为 获 得浙江大学 或 其 他 教 育 机 构 的 学 位或证书 而 使 用 过的 材 料。 与 我 一 同工 作 的 同志 对 本 研 究 所 做的 任 何 贡 献 均 已在论文中 作 了 明 确的 说明 并 表 示 谢意 。月学 位论文版权使 用 授 权书 艿 难宦 畚脑诮 饷 芎 笫视帽 臼谌月 ， 第 滦 髀邸浙江大学 硕 士 学 位论文光 学 邻 近 校 正 诠嬖 虻 腛 谀 偷 腛 本 章
2、小结 图 目录浙江大学 硕 士 学 位论文，中 规 模集 成，极 大规 模集 成琔 究 其 缘由，集 成电路产业 能 如此 快 速发展 ，主 要 归 功于集 成电路制 造技 术 的集 成电路的 密集 程度 随 着摩 尔 定 律 稳 步 提升 ，而 与 此 同时 ，晶体 管 尺 寸 也在浙江大学 硕 士 学 位论文膏 附 ；赶 卷掩多 图 集 成电路设 计 流 程从 现 阶 段 集 成电路所 处 环 境 来 看 ，纵 观 整 体 设 计 流 程，位于后 端 的 版图 设 计咛崛 錾 杓瓢 嫱随后 将其 交付 生产厂商 完成制 造环 节 。由此 可 见，版图 的 验 证工 作 尤 为 重要，是保
3、证集 成电路可 制 造性 的 重要因 素 ，而验 证规 则 一 般是由生产厂商 提出。浙江大学 硕 士 学 位论文 。盎鑫 “ 。 ” 。 ，丝椤 蝚 。 瑊 、浙江大学 硕 士 学 位论文图 纳 米级 光 刻矢 真图胫 嵴彰 骷 际琌浙江大学 硕 士 学 位论文弧 ：海 海 骸 璮浙江大学 硕 士 学 位论文憾图 修正 后 版图 与 仿真结果浙江大学 硕 士 学 位论文通 过相邻 区 域 透 射 度 有 嘁 评 词迪 对 比 度 。射 现 象 。一；，、图 离 轴照 明 原 理示 意 图图 常 见离 轴照 明 光 源谏M腹馇浙江大学 硕 士 学 位论文 图 浜侠 胫 嵴彰 鞯 母 夹渭 际其
4、 中 ，宽度 为 氖 歉 及 系统 偏差 两种 。 其 中 ，随 机 缺 陷 主 要 包 含 灰尘 在硅材 料表 面的 随 机 吸附 导 致集浙江大学 硕 士 学 位论文本 章 小结晶圆图 清 晰地为 我 们描 述 了 集 成电路制 造的 各个 环 节 ，以单晶硅的 表 面处 理浙江大学 硕 士 学 位论文经过光 照 后 ，胶 中 产生了 光 化学 反应 ，其 结构 也发生了 较大变 化，所 以光 刻胶 的宏 观性 能 也出现 了 明 显变 化。光 刻胶 必须 具备 有 几 大特 性 ： 感光 性 ，要 能 在光 刻环 节 接 受 在掩模上 曝光 的 图 形。 因 为 感光 胶 在某溶 液 中
5、 有 溶 解 特 性 ，所 以人们利 用 这 种 特 性 在晶圆 上涂 抹 一 层薄胶 ，令 其 某个 区 域 感光 。 经显影后 ，即 可 在涂 有 感光 胶 的 晶圆 上 获 得掩模图 形；粘 附 性 ，这 个 特 性 使 得光 刻胶 与 晶圆 表 面的 待刻层能 够 紧 紧 地粘合在一 起 ，便 于将电路版图 转 换到 晶圆 上 ；均 匀性 ，光 刻胶 必须 要均 匀地分布 在晶圆 表 面，以此 确保 在感光 胶 上 能 够 清 晰地对 电路版图 进行 显影，与 此 同时 ，还 要覆盖 到 晶圆 的 整 个 表 面，用 来 保 护 没有 电路版图 的 区 域 ；较轻 薄，若 光刻胶 太厚
6、 的 话 ，会 影响曝 光 、显影等 随 后 生产环 节 的 开展 ，理想 的 光 刻胶 厚 度 为 的 范 围 内 。浙江大学 硕 士 学 位论文图 将光 刻胶 涂 于晶圆 表 面集 成电路生产过程的 核 心成分为 光 刻过程，光 刻成像 的 原 理就是通 过光 刻机系统 里 的 光 学 照 明 系统 将掩模板 上 的 版图 图 形转 换到 早 已涂 满 光 刻胶 的 晶圆 上 。此 环 节 的 理论依 据 是应 用 了 光 刻胶 感光 性 的 特 性 ，当 光 强的 强弱程度 发生变 化时 ，在光 刻胶 上 会 产生比 较显著 的 分割 线 ，可 将掩模上 的 图 形在曝 光 后 继 承
7、下来 ，即可 实 现 版图 图 形从 掩模板 到 晶圆 表 面的 转 移 工 作 。 光 刻机 的 主 要成像 机 理如图 所示 。浙江大学 硕 士 学 位论文后 ，可 能 会 应 用 极 紫外 光 光 强图 光 刻机 系统 示 意 图在将集 成电路版图 从 掩模板 转 移 到 晶圆 表 面的 工 作 中 ，平面光 源由于光 学 性质 统 一 ，所 以可 作 为 用 来 成像 的 光 源。 一 般而 言 ，光 刻机 的 成像 光 源通 常 是系统光 源加 上 一 个 凸 透 镜来 构 成，这 样 的 组 合巧 妙 地利 用 了 点光 源若 在凸 透 镜焦 点上 ，则 其 发出的 光 线 经透
8、镜后 变 为 平行 光 出射 这 一 性 质 ，以此 即 可 获 得符 合光 刻要 求的 平面光 源。 除 了 调 整 光 源本 身 的 物 理特 性 能 够 改善 集 成电路版图 在晶圆 表 面的成像 质 量之 外 ，更改光 源的 形状也能 达 到 同等 的 效 果 。 我 们可 以在成像 光 源与 聚光 透 镜组 之 间添 加 一 个 指定 图 形来 作 为 光 刻系统 光 源的 波前过滤 器。 因 为 用 来 光刻的 光 源拥 有 部 分相干 特 性 ，在此 情 形下，添 加 一 个 圆 形孔 径就等 效 为 添 加 一 个低 通 滤 波器，聚光 透 镜的 数 值 孔 径决 定 了 低 通 滤 波器的 截 止 频 率 。 若 所 添 加浙江大学 硕 士 学 位论文图 典 型光 刻工 艺 过程概 览光 刻过程会 因 为 基底 的 不 平整 受 到 较大程度 上 的 影响，所 以要 先 通 过化学 机 等 方 法 把 基底 打磨 平滑 。 我 们阶 段 ，随 后 在基底 表 面均 匀的 方 法 将光 刻胶 里 的 溶 剂 完全 挥 发掉 ，这 样 胶 层就变 为 了 固 态 薄膜 。曝 光 的 示 意图 【 】。
