1、PVD磁控溅射镀膜 装饰镀 生产工艺流程 貨件入真空室 抽空加熱處理 洗靶 離子清洗 成膜 冷卻 貨件出爐 清潔真空室 抽空 抽空 根据薄膜的要求 真空度的高低对膜层质量起着至关重要的作用 针对我厂所生产的货件 成膜前的真空度要求达到5 0 10 3Pa 抽空时长约30 60分钟 抽空加热 抽空加热 在达到一定真空度的情况下 比如 2 0 10 2Pa 开启加热 并开转架 目的 对货件及真空室内进行烘烤处理 可减少或消除其表面所吸附的气体 从而可提高膜层的质量和性能 但必须注意 在真空度达到所要求的范围时 才可开启加热 这样可避免货件表面被氧化 加热开启的同时必须开启转架 洗靶 洗靶 也称点靶
2、 在真空度达到一定范围的情况下 本公司生产的货件要求范围在7 0 10 3 5 0 10 3Pa 才可开靶 对靶面进行清洁处理 本公司部分机器由于没有小车挡板 需要单独进行洗靶 目的 清除靶材吸附的气体及清洁靶表面的镀层 离子清洗 离子清洗 工件在预热处理后 表面仍会有一定的脏污存在 或许也有轻微的氧化层 离子清洗是去除脏污和表面氧化层较有效的方法之一 给真空室充入较高压强的Ar气 同时工件加上负偏压后引起辉光放电 被离化的Ar离子在电场的作用下 高能量的轰击工件 而达到把工件表面的脏污溅射出去 起到清洁和活化货件表面的目的 成膜 成膜 当工作气体氩气的压强达到一定时 开靶 并充入适量的反应气
3、体进行溅射 最终得到所要求的薄膜 目前 通入氮气 N2 氧气 O2 甲烷 CH4 乙炔 C2H2 一氧化碳 CO 等气体得到氮化物膜 氧化物膜 碳化物膜等 成膜过程中需注意事项 1 Ar流量及压力是否正常 2 在开靶前先给偏压 开动转架 检查其货件是否有短路现象 3 成膜过程中需注意靶电压 靶电流 压力 偏流等的变化 冷却 冷却 因成膜过程中会产生较高的温度 避免膜层在出炉时受真空室内外温差的影响而产生应力 成膜结束后 要求适当冷却后再出炉 货件出炉后清洁真空室 货件出真空室后需对真空室进行清洁处理 目的 保证后面生产货件时 真空室内具有良好的卫生状态 问题 1 生产过程中 在下述几各阶段转架停转会造成什么样的不良后果 1 加热 2 离子清洗 3 成膜2 成膜过程中 技术员将面层的偏压或占空比设错 会造成什么样的不良后果
