1、一、选择题1.最常用的 X 射线衍射方法是( ) 。A. 劳厄法;B. 粉末多法;C. 周转晶体法;D. 德拜法。2.德拜法中有利于提高测量精度的底片安装方法是( ) 。A. 正装法;B. 反装法;C. 偏装法;D. A+B。3.德拜法中对试样的要求除了无应力外,粉末粒度应为( ) 。A. 250 目;C. 在 250-325 目之间;D. 任意大小。4.测角仪中,探测器的转速与试样的转速关系是( ) 。A. 保持同步 11 ;B. 21 ;C. 12 ;D. 10 。5.衍射仪法中的试样形状是( ) 。A. 丝状粉末多晶;B. 块状粉末多晶;C. 块状单晶;D. 任意形状。二、正误题1.大直
2、径德拜相机可以提高衍射线接受分辨率,缩短暴光时间。 ( )2.在衍射仪法中,衍射几何包括二个圆。一个是测角仪圆,另一个是辐射源、探测器与试样三者还必须位于同一聚焦圆。 ( )3.选择小的接受光栏狭缝宽度,可以提高接受分辨率,但会降低接受强度。 ( )4.德拜法比衍射仪法测量衍射强度更精确。 ( )5.衍射仪法和德拜法一样,对试样粉末的要求是粒度均匀、大小适中,没有应力。 ( )三、填空题1. 在粉末多晶衍射的照相法中包括德拜法、聚焦法和平板照相法。2. 德拜相机有两种,直径分别是 57.3 和 114.6mm。测量 角时,底片上每毫米对应2 和 1。3. 衍射仪的核心是测角仪圆,它由试样台、辐
3、射源和探测器共同组成。4. 可以用作 X 射线探测器的有 正比计数器、闪烁计数器和 Si(Li)半导体探测器等。5. 影响衍射仪实验结果的参数有狭缝宽度、扫描速度和时间常数等。四、名词解释1. 偏装法2. 光栏3. 测角仪4. 聚焦圆5. 正比计数器6. 光电倍增管习题:1. CuK 辐射(=0.154 nm)照射 Ag(f.c.c)样品,测得第一衍射峰位置 2=38,试求 Ag 的点阵常数。2. 试总结德拜法衍射花样的背底来源,并提出一些防止和减少背底的措施。3. 粉末样品颗粒过大或过小对德拜花样影响如何?为什么?板状多晶体样品晶粒过大或过小对衍射峰形影响又如何?4. 试从入射光束、样品形状
4、、成相原理(厄瓦尔德图解) 、衍射线记录、衍射花样、样品吸收与衍射强度(公式) 、衍射装备及应用等方面比较衍射仪法与德拜法的异同点。5. 衍射仪与聚焦相机相比,聚焦几何有何异同?6. 从一张简单立方点阵物的德拜相上,已求出四根高角度线条的 角(系由 CuK所产生)及对应的干涉指数,试用“a-cos 2”的图解外推法求出四位有效数字的点阵参数。HKL 532 620 443 541611 540 621.角 72.08 77.93 81.11 87.447. 根据上题所给数据用柯亨法计算点阵参数至四位有效数字。8. 用背射平板相机测定某种钨粉的点阵参数。从底片上量得钨的 400 衍射环直径2Lw
5、51.20 毫米,用氮化钠为标准样,其 640 衍射环直径 2LNaCl36.40 毫米。若此二衍射环均系由 CuKl 辐射引起,试求精确到四位数字的钨粉的点阵参数值。9. 试用厄瓦尔德图解来说明德拜衍射花样的形成。10.同一粉末相上背射区线条与透射区线条比较起来其 较高还是较低?相应的 d 较大还是较小?既然多晶粉末的晶体取向是混乱的,为何有此必然的规律11.衍射仪测量在人射光束、试样形状、试样吸收以及衍射线记录等方面与德拜法有何不同?12.测角仪在采集衍射图时,如果试样表面转到与入射线成 30角,则计数管与人射线所成角度为多少?能产生衍射的晶面,与试样的自由表面呈何种几何关系?13. Cu
6、 K 辐射(0.154 nm)照射 Ag(f.c.c)样品,测得第一衍射峰位置 2=38,试求 Ag 的点阵常数。14.试总结德拜法衍射花样的背底来源,并提出一些防止和减少背底的措施。15.图题为某样品德拜相(示意图) ,摄照时未经滤波。巳知 1、2 为同一晶面衍射线,3、4 为另一晶面衍射线试对此现象作出解释16.粉未样品颗粒过大或过小对德拜花样影响如何?为什么?板状多晶体样品晶粒过大或过小对衍射峰形影响又如何?17.试从入射光束、样品形状、成相原理(厄瓦尔德图解) 、衍射线记录、衍射花样、样品吸收与衍射强度(公式) 、衍射装备及应用等方面比较衍射仪法与德拜法的异同点。18.衍射仪与聚焦相机相比,聚焦几何有何异同?