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笼型倍半硅氧烷的合成与表征.pptx

1、笼型倍半硅氧烷的合成与表征,主要内容:,课题研究背景与意义:,多面体低聚倍半硅氧烷是一类纳米尺度笼型结构的低聚硅氧烷,兼具无机与有机化合物的共同特性,即具有高的热稳定性、良好的介电性能、优异的溶解性、阻燃性等特点。在航天材料、介电材料、光电材料、生物医学材料、耐热阻燃材料和催化剂等领域有广泛的应用。,笼型倍半硅氧烷简介(POSS):,多面体低聚倍半硅氧烷(Silsesquioxane,简称POSS)是一类纳米尺度的低聚硅氧烷,俗称笼型倍半硅氧烷,结构简式为(RSiO3/2)n。其中R基团可被乙烯基、氨基、苯基、氢原子,烷基等各类有机基团代替,POSS化合物中的Si原子与O原子的比例为1:1.5

2、,n可以为6、8、10、12等,形成不同结构。而n=8的POSS是研究最多的一种,称为立方T8。POSS以Si-O-Si键为主体框架,Si-O键的键能为443.7kJ/mol,Si-O-Si的键长较长,键角大,容易旋转,链主要为螺旋结构并且柔性大,因此链之间的相互作用力小,表面张力小,热稳定性好。根据这些性质得POSS在无催化剂时结构相对稳定。,POSS的分类:,半缩合POSS,全缩合POSS,POSS合成方法:,本课题研究的主要内容:,1. 八乙烯基笼型倍半硅氧烷( OvPOSS )的制备表征2.八苯基笼型倍半硅氧烷( OPS )的制备表征3.八 氨基笼型倍半硅氧烷( OapPOSS )的制

3、备表征,OvPOSS的制备:,OPS的制备:,OapPOSS的制备:,OvPOSS表征,FT-IR,1H NMR,13C NMR,= 128.70 和137.05处出现的吸收峰分别为乙烯基上-CH和-CH2的碳吸收峰,= 77.00 处为溶剂中的碳吸收峰。,OvPOSS表征,XRD分析,2为9.8时是一个强衍射峰,其他衍射峰 2分别为13.1、19.6、21、22.9、23.7、29.6和30.24,衍射峰的强度高,因此晶像含量大,所以乙烯基POSS是一种高度结晶的物质。,OvPOSS表征,SEM分析,乙烯基POSS在溶液中缓慢结晶时,最终形成的晶体形貌为方形,尺寸在几微米到几十微米。,OvP

4、OSS表征,DSC分析,TGA测试,乙烯基POSS具有优异的耐高温性能,材料的热分解温度的形成原因以材料的化学结构为主,其中主要因素是它的键能、键之间的相互反应性以及分子内缺陷。键能越大时(Si-O键的键能为422.5kJ/mol),材料的热稳定性能就会越大,由于POSS特殊的笼形结构,使分子中含有的体积较大结构限制了分子链的运动,所以最终使乙烯基POSS具有耐高温的优良性能。,OPS表征,FT-IR,XRD分析,XRD谱图中2=7.96、18.82、25.26分别出现三个尖锐的衍射峰,表明OPS具有较好的晶型结构。但在XRD谱图中出现了一些杂峰,再根据与SEM图对比发现OPS结晶不完善,没有

5、形成OvPOSS那样的完善的晶体颗粒。,OPS表征,SEM,TGA分析,OPS表征,OapPOSS表征,FT-IR,OapPOSS表征,XRD分析,SEM,由XRD图可看到OapPOSS的主要衍射峰2在6.22、11.79和23.11。在2=6.22处为尖锐的衍射峰,而23.11附近出现的是弥散的宽广隆起峰,说明所制得的OapPOSS结构中存在部分非晶结构,SEM图中显示产物的晶粒小且不规整。与其XRD结果一致,OapPOSS制备过程中存在不完全缩合的部分,使得产物结晶不完全。,TG分析,曲线上有三个失重阶段,第一阶段主要是因为样品中少量的结晶水和硅羟基缩合失水,导致样品在100 时质量损失2

6、 %;第二阶段是酸性条件下形成的氨盐的分解,最终分解温度为418 ;第三阶段从420 到600 ,分解10 %,这一阶段为POSS的有机基团的氧化分解而使质量损失,最终残余量53 %,推断残余物质为SiO2及硅盐。,OapPOSS表征,结 论:,1. 可以通过水解法制备不同官能团POSS化合物,官能团不同应选用不同的催化剂和溶剂。2. 在乙酸乙酯中水解得到的OvPOSS结晶性较好,可以形成结构规整的立方体晶粒,而所制备的OPS和OapPOSS结晶性能较差。3. 三种POSS都有较好的热稳定性,由强到弱依次为OPS、OapPOSS、OvPOSS,初始分解温度分别为450 、250 、222 。由此可见,POSS有优异的耐热性能,若将其引入一般的高分子材料则会显著提高材料的耐热性,因此POSS对材料耐热性能的研究具有重要作用。,

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