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CVD化学与薄膜工艺040209.ppt

1、单击此处编辑母版标题样式单击此处编辑母版副标题样式* 1化学气相淀积与薄膜工艺Chemical Vapor Deposition 欧洲 CVD系列会议【 9】 中英文参考文献 1.7 教学方式与考核1。讲授: 基本原理和处理方法2。技术性讲座( 3次)3。实验室参观(与讲座相结合)4。阅读文献和讨论按内容分组,推举报告人,讨论5。期终考试课程论文参考选题(一)按科学问题命题, 如 复杂反应 CVD过程热力学分析的近期进展 化学输运反应 CVD 的新近发展 开管气流系统 CVD的流体力学分析和反应器设计 CVD过程表面生长动力学模型的新进展CVD 过程动力学的实验研究CVD中的 V-L-S机制及

2、应用CVD 过程中衬底与生长层的相互作用研究进展CVD 系统中的成核理论的研究化学气相淀积的掺杂行为 : 掺杂过程的热力学 , 动力学和机理CVD 过程表面形貌和生长动力学CVD 法合成纳米粉体材料的学科问题等离子体 CVD体系中的新颖学科问题CVD 技术用源物质的研究CVD 工艺用的新型先躯物(源物质) - 金属的 二酮类螯合物CVD 领域的若干新近进展(二)按具体材料研究来命题CVD 技术研制氮化镓发光材料的进展CVD 法在金属基底上制备陶瓷保护涂层( TiCx, TiN, BCx,。)CVD技术合成金属晶须材料的发展(选其中的一种或多种)CVD 法研制宽禁带材料 SiC(或 Si3N4)CVD 法金刚石薄膜。(三)从 CVD在某个领域的应用命题例如: 化学气相淀积和新技术和微电子学工艺CVD与半导体光电技术CVD与太阳能利用CVD与高分子材料CVD与光纤通讯CVD与超电导技术CVD与保护涂层CVD 与航空、航天技术

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