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使用SI9000进行PCB常规阻抗计算.docx

1、SI9000 常规阻抗计算常规信号分为微带线和带状线,微带线指该信号线只有一个参考平面(表底层),带状线指该信号线在两个参考平面之间(内层) ,故阻抗计算需要选择不同模型来完成。一、外层(微带线)单端阻抗计算模型1. 单端阻抗结构 2. 单端阻抗模型 3. 设置相应参数说明:介电常数和板材有关,常规 FR4介电常数在 4.2-4.5 之间,常规半固化片介电常数 106(3.9 )、1080(4.2 )、2116(4.2 )、7628(4.5 ),罗杰斯板材 RO4350B介电常数是 3.66 ,M6板材介电常数在 3.3-3.5之间。专业文档供参考,如有帮助请下载。二、外层(微带线)差分阻抗计

2、算模型1. 差分阻抗结构 2. 差分阻抗模型 3. 设置相应参数说明:常规差分控制阻抗 100ohm,USB控 90ohm,Typec 控 90ohm专业文档供参考,如有帮助请下载。以下是 1.6mm板厚常规八层板的层叠1. 3 个信号层、 2 个地、一个电源2. 射频隔层参考,线宽 16mil3. 关键信号在 S1 层,注意 S2 跨分割问题,适用于杂线多的情况A根据微带线单端模型50ohm阻抗计算如下(线宽6):专业文档供参考,如有帮助请下载。B根据微带线差分模型阻抗计算如下:专业文档供参考,如有帮助请下载。三、内层(带状线)单端阻抗计算模型1. 单端阻抗结构 2. 单端阻抗模型 3. 设

3、置相应参数专业文档供参考,如有帮助请下载。四、内层(带状线)差分阻抗计算模型1. 差分阻抗结构 2. 差分阻抗模型 3. 设置相应参数专业文档供参考,如有帮助请下载。根据常规 8 层板层叠计算内层阻抗 .A内层单端阻抗模型:S1:H1=16+1.2+4.3=21.5专业文档供参考,如有帮助请下载。H2=1.2+4.3=5.5S1 层 50ohm:5mil (说明:阻抗允许误差正负10%,H1 和 H2 数值)S1 和 S2 参考层面厚度相差较小阻抗线宽一致(说明:如果H1和 H2数值正确, H1和 H2即使颠倒,阻抗变化很小)S2:H1=4.3H2=1.2+16+1.2+4.3=22.7专业文

4、档供参考,如有帮助请下载。S2 层 50ohm:5milS3:H1=4.3H2=1.2+16=17.2S3 层 50ohm:5mil专业文档供参考,如有帮助请下载。B内层差分阻抗模型(介质厚度和单端阻抗一致):S1:H1=16+1.2+4.3=21.5H2=1.2+4.3=5.5S2:H1=4.3H2=1.2+16+1.2+4.3=22.7S3:H1=4.3H2=1.2+16=17.2专业文档供参考,如有帮助请下载。S1、S2、S3:90ohm专业文档供参考,如有帮助请下载。S1、S2、S3:100ohm同理计算,概不赘述。(关于射频线阻抗计算隔层参考,共面阻抗计算参考)阻抗说明:叠层厚度通常

5、由单板实际情况决定,如果叠层确定,线宽变小,阻抗变大,差分阻抗线之间的间距变大,阻抗变大,差分100ohm计算时,可通过改变线宽和间距实现(注意:建议差分间距不要大于2倍线宽如 4 的线宽 8 的间距)。单端阻抗主要依靠改变线宽实现。层叠厚度和阻抗反比,距离主要参考层面越远阻抗越大。 合理的层叠(参专业文档供参考,如有帮助请下载。考 ),是计算阻抗的必要条件,有些层叠计算不出来需求阻抗。 通常我们提供给制板厂的层叠和线宽, 生产制造时会进行微调,为区别单线和差分阻抗给 DFM工程师调整阻抗提供便利,要求同一层面的不同阻抗线线宽不同,即单线 50ohm、差分85ohm、差分 90ohm、差分 1

6、00ohm要求不同的线宽。阻抗存在争议:以上内层算法是SI6000 时就存在的模型计算, SI9000 在 SI6000的基础上又推出新的模型,但是存在争议关于内层H1 和 H2 的厚度。关于 H1和 H2 存在争议:a一些工程师使用SI9000 推出的新模型SI9000 推出的新模型,此模型忽略内层铜箔的厚度,仅仅是pp 和 core 的厚度。(个人认为不太合理,内层 1oz 的铜箔 1.2mil的厚度加上还是有必要的) 。b. 一些工程师使用SI9000 中 SI6000 的模型,但认为H1 是信号距离参考平面近的 pp 或 core 的厚度, H2是距离参考平面远的厚度。c. 还有一些工程师, 使用 SI9000 中 SI6000 的模型,直观的根据模型图提供的信息,判断H1和 H2 的厚度。b、c 虽然存在部分差异,但是计算的阻抗偏差几乎可以忽略不计。本文是使用 c 方法判断 H1和 H2 的厚度,采用原始模型。专业文档供参考,如有帮助请下载。专业文档供参考,如有帮助请下载。

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