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制绒脏污分析报告.ppt

1、制绒脏污分析报告,2010-3-6,制绒脏污情况概述 排查分析 小结,制绒脏污情况概述,最近WS01生产的产品125M和E-CELL的A级比率一直很低,一直在80%左右徘徊,制绒色差中脏污比率较高,故特对此进行分析,查找引起脏污的根本原因。,制绒脏污情况概述,脏污特征一 脏污片多数为双面脏污,部分硅片为单面脏污。脏污主要呈现不规则片状以及圈状白色痕迹,部分硅片还存有白点。不良片出现后,采取挑出隔离的措施,同时对制程进行排查确认,并进行实验对比。,脏污区域,脏污区域,典型不良图片如下,脏污片与制绒外观正常片对比,脏污片与正常片制绒绒面对比,金字塔尺寸偏大,绒面大小不均匀,脏污区域绒面,正常片绒面

2、,制绒金字塔形成较好,金子塔尺寸在1-3微米,脏污特征二 制绒后出现的脏污片的另一具体表现为:整个小花篮或连续几个小花篮出现脏污,具体位置相对一致,如图,各线脏污片出现后,立即对各工序进行制程排查。由于制绒后扩散前就挑出脏污片,故主要对制绒工序进行了排查。1、工艺情况。 制绒过程中,制绒各工艺参数无异常。2、设备情况。 制绒过程中,设备无异常。3、现场情况。 现场操作无异常,化学药品批次未更换。,在排查过程中,制绒后扩散前仍陆续出现数量不等的脏污片。同时,现场在制绒槽内取片观察绒面外观状况时,就发现不规则片状脏污。,排查分析,适当延长超声和酸洗时间调整制绒时间与溶液配比实验更换制绒槽溶液实验返

3、工实验,结合制程排查情况,特做以下实验对比。,排查分析,延长超声制绒酸洗时间,调整配液比,更换制绒槽溶液,在硅片表面仍旧发现脏污。对脏污片试返工200片,返工后脏污去除效果并不理想。以下是不良片返工后外观状况以及绒面情况。,返工后脏污区域绒面,返工后非脏污区域绒面,绒面金字塔大小很不均匀,脏污处区域金字塔未成核。,非脏污处区域,金字塔尺寸明显偏大。,返工后外观状况,脏污区域仍无法完全去除,小结,从出现的位置看,脏污片所在花篮并没有固定在某个槽、或是槽体的某个位置,可以排除产线某个槽体的溶液不均导致的问题。此类片为连续出现(一篮或几篮),并且基本固定在硅片的相同位置,从外观看很像某种沾污导致不能清洗干净。在正常的工艺条件下、在同等制绒条件下,同一大花篮的部分片子制绒效果很好,绒面外观都很正常,而此类片与正常比差异很明显,很可能是来料的硅片表面的不一致。,小结,与正常的脏污相比,此类型的脏污存在位置较为一致,且连续出现。工艺在超声酸洗制绒时间和浓度方面作过改进尝试,不能消除,返工也不能去除。从连续跟踪情况看,与一般脏污片不同,此类片集中出现了一部分后,暂时不再出现。综上,判定此类脏污因来料硅片表面问题所致。,谢谢!,

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